JPS62162370A - 光プリンタ用の発光ダイオ−ド - Google Patents

光プリンタ用の発光ダイオ−ド

Info

Publication number
JPS62162370A
JPS62162370A JP61004069A JP406986A JPS62162370A JP S62162370 A JPS62162370 A JP S62162370A JP 61004069 A JP61004069 A JP 61004069A JP 406986 A JP406986 A JP 406986A JP S62162370 A JPS62162370 A JP S62162370A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
diffusion
region
light
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61004069A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiji Yamamoto
圭司 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Tottori Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Sanyo Electric Co Ltd, Tottori Sanyo Electric Co Ltd, Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP61004069A priority Critical patent/JPS62162370A/ja
Publication of JPS62162370A publication Critical patent/JPS62162370A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ)産業上の利用分野 本発明は選択拡散によってPn接合を形成する元グリ/
り用の発光ダイオードに関する。
口)従来の技術 近年選択拡散法により高密度に発光領域を形成した発光
ダイオードは、特開昭60−66273号公報等元プリ
ンタヘッド用の光源として注目されている。これは第4
図(alに示す様C化合物半導体αυの上面に1列又は
数列に整列して発光領域(′I21(1′lJ・・・を
設けるもので、各発光領域112+(12+・・・での
輝度がばらつかない事と同時に各々の1発光領域内での
輝度分布にャパターン)が平担な特性を示す事が、光プ
リンタの印字品質を決定する要因の1つとしてあげられ
る。
ところが第4図(可に示すように選択拡散を行う時には
、その周縁部(マスクとなる絶縁膜1.13(43の下
側)にもヒゲ状のまわり込み拡散部(42(43が生じ
これによって輝度分布に凹凸が生じたり、輝度ばらつき
が発生する。このまわり込み拡散は王としてマスクとな
る絶縁膜+43(43と化合物半導体(4υの表面との
密着性(二原因があると考えられているが。
どのようにしたら制御できるかは明確でなく、高印字品
質を求められる光プリンタヘッドでは輝度ばらつき±1
0チ以内等指定されると歩留が70チ以下2二低下して
しまっていた。
また特開昭57−120332号公報では拡散領域のま
わりに溝を設ける事でまわり込み拡散を防止することが
示されているが、光プリンタ用のX11光ダイオードは
概ね7〜25ドツト/鯛と高密度に発光領域を設けるの
で溝を設けるのは実用的でない。
ハ)発明が解決しようとする問題点 本発明は上述の点を考慮してなされたもので。
歩留りよく、輝度制御を行うための光プリンタ用の発光
ダイオードを提供するものである。
二)問題点を解決するための手段 本発明はマスク材の熱処理の仕方でまわり込み拡散の度
合が異なる事を積極的に利用することに着目してなされ
たもので、発光領域のうちの周辺部1;浅い拡散@域を
形成したものである。
ホ)作  用 これにより、マスク材の近傍は浅い拡散なのでまわり込
み拡散は極めて少なく、シかも深い拡散領域との境界に
でよる階段状部分はpn接合が光放出方向(基板主面に
略垂直な方向)に略一致するので光鍜出効率が高くなり
冒輝度化する。
へ)実施例 第1因は本発明実施例の光プリンタ用の発光ダイオード
の要部断面図で、(1)は化合物半導体で。
例えばGILA13ベース上にn −() a A B
 P層を気相エピタキシャル成長させたものである。(
2)は化合物半導体(1)の主面に形成された発光領域
で、絶縁膜をマスクとし亜鉛の選択拡散I:より形成さ
れたP型拡散領域で、その境界にはpn接合Qilが形
成されており、第4図(&)に示した如く整列して複数
個が設けである。そしてこの発光領域(2)は拡散深さ
が異なっており、光取出領域■の周辺部分では浅く、中
央部分では深く拡散領域が形成されている。(3)は化
合物半導体(1)の主面に設けられた絶縁膜で、CVD
法):よる窒化硅素膜等からなる。
(4)は発光領域(2)にオーミック接触されたアルミ
ニウム等の電極、(5)は化合物半導体(11の裏面C
=設けられた共通電橋である。
上述の構造のうち、特に発光領域+21Cついて第2囚
を参照しながら製造方法と共によシ具体的に説明する。
まず第2図(all=示すように化合物半導体(1)の
主面に絶縁膜(3)を設ける。この絶縁膜(3)は事実
上拡散マスクとなるもので、プラズマCVD法により形
成された窒化硅素膜で、化合物半導体(1)の主面との
密着性を良くするため例えば300℃で熱処理される。
次に!142図1blの如く再度aVD膜C(11を形
成し、窓をあけるが、絶縁膜(3)と異なり、より小さ
い窓をあけ、かつ100℃程度の低温処理とする。(同
図(c)参照)。この状態で拡散を行うが、例えば67
0℃2時間の亜鉛拡散をすると、絶縁膜(3)のみにお
けるまわり込み拡散の平均は1μmであるが、cvD膜
(311のみによるまわり込み拡散は、10μm以上で
あり、第2図IQidlの場合にGVD膜GDが直接化
合物半纏体に接するのは長さ10μm以下である。8ド
ツ)/sgの解像度の光プリンタ用の発光ダイオードt
 例I Cとると発光領域(2)の光取出線域C!Oは
1辺80μmの略正方形であり、絶縁膜(3)の窓は巾
80μm長さ9Qpmで、CVD膜(3DO:)窓は1
辺7511mである。
これによシ発光領域+21の拡散深さは、中央部で3〜
5pm、OVD膜t31JO)下でt 〜spmとl)
かつ周辺部分の万が中央部分より浅く、その境界では断
面が略階段状(−なるようPn接合が形成される。O’
l/D膜C311の下側はrOVD膜を侵透しての拡散
」とは考え1:((、rcvD膜の密着の悪さによるま
わり込み拡散」と考える方が妥当と思われるが、この浅
いけnど確実な拡散によシ絶縁膜(3)の下には従来の
ような大きなまわり込み拡散はみられない。
第3図は本発明の他の実施例を示す光プリンタ用の発光
ダイオードの要部断面図であるが、第1図と対応すると
ころには同じ番号が付しである。
この例では発光領域のは光取出領域QOの略中央部でも
浅くなっているがこれ(−よりpn接合1231が光取
出方向と略一致し、巣4図1℃)の従来例と比べ同じ電
流で駆動した時に輝度が2乃至3.0倍も高くなる。尚
、電I!1ilf41のオーミック接触部又はその近傍
(−おいては深い拡散領域のままでもよい。
ト)発明の効果 上述した発光ダイオードは1発光ダイオートロ64ドツ
トを含み輝度ばらつき±10%以内を例にとると1歩留
は90%以上と、まわり込み拡散による輝度ばらつきが
極めて少なくなった。そして略階段状Pn接合により発
光飴域内に歯い光放出郷を設けることができるので、電
極から遠いところでは一般(=は輝度が下がるがそれを
防ぐことができ、ドツト内でのg度が高くなると共に均
一化し、印字品質が極めて向上した。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例の光プリンタ用の発光ダイオード
の要部断面図、弔2因tal乃至[alはその発光ダイ
オードの発光領域の製造方法を説明するための工程内、
第3図は本発明の他の実施争1の光プリンタ用の発光ダ
イイードの梁部断面図、第4図1alは一般的な元プリ
ンタ用の発光ダイ万一ドの平面図、弗4図1blは従来
の発光ダイオードの要部断[fl因である。 (1)・・・1ヒ合物半尋体、(2)の・・・発光領域
、義・・・光取出領域、(3)・・・絶縁膜、(4)・
・・電極、(5)・・・共曲電極。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)化合物半導体の主面に選択拡散して形成された複数
    の発光領域を有する光プリンタ用の発光ダイオードにお
    いて、各々の発光領域は光取出領域の周辺部分に他の部
    分に比べ浅い拡散領域を設けた事を特徴とする光プリン
    タ用の発光ダイオード。
JP61004069A 1986-01-10 1986-01-10 光プリンタ用の発光ダイオ−ド Pending JPS62162370A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61004069A JPS62162370A (ja) 1986-01-10 1986-01-10 光プリンタ用の発光ダイオ−ド

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61004069A JPS62162370A (ja) 1986-01-10 1986-01-10 光プリンタ用の発光ダイオ−ド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62162370A true JPS62162370A (ja) 1987-07-18

Family

ID=11574527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61004069A Pending JPS62162370A (ja) 1986-01-10 1986-01-10 光プリンタ用の発光ダイオ−ド

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62162370A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0321862U (ja) * 1989-07-11 1991-03-05

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0321862U (ja) * 1989-07-11 1991-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2019055271A1 (en) OPTICAL EXTENSION IMPROVEMENT OF LIGHT-EMITTING DIODE SUB-PIXELS
US6136627A (en) High-resolution light-sensing and light-emitting diode array and fabrication method thereof
JP3188522B2 (ja) 発光ダイオードの形成方法
JPH05129658A (ja) 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
US4080245A (en) Process for manufacturing a gallium phosphide electroluminescent device
JPH10107316A (ja) 3族窒化物半導体発光素子
US11522101B2 (en) Inorganic light-emitting diode chip, method for preparing the same, and display substrate
JPS62162370A (ja) 光プリンタ用の発光ダイオ−ド
KR102073572B1 (ko) 디스플레이 장치 및 그의 제조 방법
CN102239577A (zh) 半导体发光器件
US4041516A (en) High intensity light-emitting diode
CN110957204A (zh) Iii族氮化物光电子器件的制作方法
JPH0363830B2 (ja)
JPH0625966Y2 (ja) マトリクス型発光ダイオ−ド
JP2661009B2 (ja) 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
JP2546097Y2 (ja) 発光ダイオード
KR100214588B1 (ko) 발광소자 어레이 구조 및 그 제조 방법
JP3219463B2 (ja) 発光ダイオードアレイ
JPS62269370A (ja) 光プリンタ−用発光ダイオ−ド
JPS58184772A (ja) 半導体発光素子およびその製造方法
JP3540544B2 (ja) モノリシック型発光素子及びその製造方法
JPS58121690A (ja) SiC発光ダイオ−ド
JP3042566B2 (ja) GaP系発光素子基板の製造方法
JP2581229B2 (ja) 発光ダイオード
JPH01296678A (ja) 半導体ヘテロ接合の製造方法