JPS62162235A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS62162235A JPS62162235A JP145286A JP145286A JPS62162235A JP S62162235 A JPS62162235 A JP S62162235A JP 145286 A JP145286 A JP 145286A JP 145286 A JP145286 A JP 145286A JP S62162235 A JPS62162235 A JP S62162235A
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- Japan
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- recording medium
- magnetic recording
- torr
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気記録媒体の製造方法に係り、特に垂直磁気
記録に用いられる少くともコバルトおよびクロムの両金
属元素を含む磁性合金膜を生成するに当り、合金の結晶
な配向性良く、堅牢膜として基板上にプレーティンクし
、ついで、rj&気記録を円滑ならしめ、磁性合金膜お
よび磁気ヘットの損耗を減じるための保護層を該磁性合
金膜上層に形成するに当り、該合金H々に対し強力に結
着し。
記録に用いられる少くともコバルトおよびクロムの両金
属元素を含む磁性合金膜を生成するに当り、合金の結晶
な配向性良く、堅牢膜として基板上にプレーティンクし
、ついで、rj&気記録を円滑ならしめ、磁性合金膜お
よび磁気ヘットの損耗を減じるための保護層を該磁性合
金膜上層に形成するに当り、該合金H々に対し強力に結
着し。
該合金膜と磁気ヘッドとの接触を円滑ならしめる保護層
を該合金膜上にブレーティングするに好適な垂直磁気記
録媒体の製造方法に関する。
を該合金膜上にブレーティングするに好適な垂直磁気記
録媒体の製造方法に関する。
[従来の技術]
近年、高密度磁気記録の可能な方式として、面内(長手
)磁化を用いる方式に代り、垂直磁化を用いる磁気記録
方式か提唱され、研究が進められている。この垂直磁気
記録方式に用いられる磁性膜としては、コバルト((:
o)とクロム(Cr)を用いた合金薄膜をスパッタや蒸
着により基板上に形成したものか多く用いられており、
良好な磁気特性を実現している。
)磁化を用いる方式に代り、垂直磁化を用いる磁気記録
方式か提唱され、研究が進められている。この垂直磁気
記録方式に用いられる磁性膜としては、コバルト((:
o)とクロム(Cr)を用いた合金薄膜をスパッタや蒸
着により基板上に形成したものか多く用いられており、
良好な磁気特性を実現している。
一方、該Co−Cr垂直磁化薄膜は、可撓性に乏しく、
フレキシブル磁気ディスク等に用いた場合に良好なヘッ
トタッチを得にくいという問題点がある。更に、蒸着や
スパッタて生成した薄膜表面は平滑性か悪く、磁気ヘッ
ドの摩耗や表面はく離等の欠点を有している。
フレキシブル磁気ディスク等に用いた場合に良好なヘッ
トタッチを得にくいという問題点がある。更に、蒸着や
スパッタて生成した薄膜表面は平滑性か悪く、磁気ヘッ
ドの摩耗や表面はく離等の欠点を有している。
この問題点を解決するため、たとえば磁性膜表面に溶剤
中に樹脂材料を含む溶液を塗布することによって、表面
平滑性を付与する技術が広く知られている。この場合、
la磁性膜形成か塗布によるものである場合を除いて、
磁性膜形成工程と保護膜形成工程とは全く独立のものと
ならざるを得なかった。
中に樹脂材料を含む溶液を塗布することによって、表面
平滑性を付与する技術が広く知られている。この場合、
la磁性膜形成か塗布によるものである場合を除いて、
磁性膜形成工程と保護膜形成工程とは全く独立のものと
ならざるを得なかった。
[発明か解決しようとする問題点コ
本発明は上記の様な従来の技術の問題点を解決するため
に鋭意研究を行った結果完成されたものである。
に鋭意研究を行った結果完成されたものである。
従って、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消
し、磁性材料、例えばCo−Cr合金か木来有している
良好な磁気特性(飽和磁化が大きく、磁気異方性が強い
、結晶成長容易軸と磁化容易軸とが一致している)を最
大限に発揮せしむるための一軸配向性垂直磁化膜を高周
波イオンブレーティング技術により生成する第1のプロ
セスと、該Go−Cr合金膜に表面平滑性や可撓性を付
与するための保護膜を同プレーテインク技術により生成
する第2のプロセスとからなる、垂直磁気記録媒体の製
造方法を提供するにある。
し、磁性材料、例えばCo−Cr合金か木来有している
良好な磁気特性(飽和磁化が大きく、磁気異方性が強い
、結晶成長容易軸と磁化容易軸とが一致している)を最
大限に発揮せしむるための一軸配向性垂直磁化膜を高周
波イオンブレーティング技術により生成する第1のプロ
セスと、該Go−Cr合金膜に表面平滑性や可撓性を付
与するための保護膜を同プレーテインク技術により生成
する第2のプロセスとからなる、垂直磁気記録媒体の製
造方法を提供するにある。
[問題点を解決するための手段]および[作用]すなわ
ち、本発明は磁性材料を高周波励起プラズマ中てイオン
化し、可撓性基板上に付着させ第1の層を形成する第1
のプロセスと、磁性材料と反応性高周波励起プラズマと
の反応によって第2の層を形成する第2のプロセスとを
含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
ち、本発明は磁性材料を高周波励起プラズマ中てイオン
化し、可撓性基板上に付着させ第1の層を形成する第1
のプロセスと、磁性材料と反応性高周波励起プラズマと
の反応によって第2の層を形成する第2のプロセスとを
含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
以下、図面を参照しながら、本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明に係る垂直磁化膜の製造方法に使用する
装置の1例を示す説明図、第2図は装置の他の例を示す
説明図である。同第1図に図示されているように、装置
は、図示していない排気系に連通ずる排気口l、並びに
ガス導入のための可変給気バルブ2を配した給気口3を
有する密閉真空容器(以下、ベルジャと称する)4内部
に、抵抗加熱により材料 5,5′を蒸発させるボート
6.6′と高周波励起により低圧気体の放電プラズマを
発生するコイル状電極7と被蒸着基板8を保持すると共
に、必要に応じてプラズマ加速用の負の直流電圧な印加
てきるホルダー9とを適宜配置して構成される。このう
ち、ボート6.6′には、図示していない発熱体がそれ
ぞれ組み込まれており、各発熱体はそれぞれ、材料 5
,5′の蒸発用電源10.10’に接続される。一方、
電極7は、ベルジャ4との間に10〜20 M Hz程
度の高周波電界を発生する高周波電源11に接続される
。さらに、ホルダ9は、ベルジャ4に対して負の加速用
直流電圧を印加する直流電源12に接続される。以上が
本発明に係る製造方法を実施するにあたって用しする装
置の概要である。該装置にはまた、各材料に特定のエネ
ルギーを与えることによって材料の分解ないしは蒸発を
促すことを目的とする、図示していない電子銃、イオン
銃、および光源が装着されており、必要に応してこれら
を用い、材料に電子ビーム、イオンビームないしは輻射
光を照射てきるように設置されている。
装置の1例を示す説明図、第2図は装置の他の例を示す
説明図である。同第1図に図示されているように、装置
は、図示していない排気系に連通ずる排気口l、並びに
ガス導入のための可変給気バルブ2を配した給気口3を
有する密閉真空容器(以下、ベルジャと称する)4内部
に、抵抗加熱により材料 5,5′を蒸発させるボート
6.6′と高周波励起により低圧気体の放電プラズマを
発生するコイル状電極7と被蒸着基板8を保持すると共
に、必要に応じてプラズマ加速用の負の直流電圧な印加
てきるホルダー9とを適宜配置して構成される。このう
ち、ボート6.6′には、図示していない発熱体がそれ
ぞれ組み込まれており、各発熱体はそれぞれ、材料 5
,5′の蒸発用電源10.10’に接続される。一方、
電極7は、ベルジャ4との間に10〜20 M Hz程
度の高周波電界を発生する高周波電源11に接続される
。さらに、ホルダ9は、ベルジャ4に対して負の加速用
直流電圧を印加する直流電源12に接続される。以上が
本発明に係る製造方法を実施するにあたって用しする装
置の概要である。該装置にはまた、各材料に特定のエネ
ルギーを与えることによって材料の分解ないしは蒸発を
促すことを目的とする、図示していない電子銃、イオン
銃、および光源が装着されており、必要に応してこれら
を用い、材料に電子ビーム、イオンビームないしは輻射
光を照射てきるように設置されている。
次に、上記の様な構成からなる第1図に示す装置を使用
して本発明の垂直磁化膜および保護膜からなる磁気記録
媒体の製造方法の一実施態様について説明する。
して本発明の垂直磁化膜および保護膜からなる磁気記録
媒体の製造方法の一実施態様について説明する。
A−1ホルタ9にポリエステルやポリイミド等の可撓性
の基板8を装着する。
の基板8を装着する。
A−2ボート6内に材料5としてベレット状又は粉体状
の金属コバルトを、ボート6′内に材料5′として同じ
く金属クロムをそれぞれ入れ、所定位置に保持する。
の金属コバルトを、ボート6′内に材料5′として同じ
く金属クロムをそれぞれ入れ、所定位置に保持する。
A−3次に、排気口1より、ベルジャ4内の空気を引き
抜き、1O−5Torr以下まで排気する。
抜き、1O−5Torr以下まで排気する。
八−4給気口3より可変Sf3気ハルフ2を介してアル
ゴンガスArを導入し、10”4〜1O−5Torr程
度にベルジャ4内の圧力を保つ。
ゴンガスArを導入し、10”4〜1O−5Torr程
度にベルジャ4内の圧力を保つ。
A−5次に、電極7に高周波電源11より高周波電圧を
印加し、ベルジャ4内にグロー放電を発生させる。
印加し、ベルジャ4内にグロー放電を発生させる。
A−6電源10.10’よりボート6.6′に給電し、
あるいは、電子ビーム、イオンビーム、ないし輻射光を
照射(以下ビーム照射と略す)して、材料5,5′を蒸
発させる。
あるいは、電子ビーム、イオンビーム、ないし輻射光を
照射(以下ビーム照射と略す)して、材料5,5′を蒸
発させる。
A−7所定の膜厚が実現されたならば、蒸発用電源10
.10’を切り、ボート6.6′への給電あるいはビー
ム照射を停止する。あわせて、高周波電源11を切り、
電極7への給電を停止する。
.10’を切り、ボート6.6′への給電あるいはビー
ム照射を停止する。あわせて、高周波電源11を切り、
電極7への給電を停止する。
A−8上で用いたアルゴンガスに加えて、酸素をlO弓
〜10−’Torrの分圧て導入し、Ar102の分圧
比か一定になるようにする。
〜10−’Torrの分圧て導入し、Ar102の分圧
比か一定になるようにする。
A−9A−5のようにして、再びグロー放電を発生させ
る。
る。
A−10蒸発用電源lOよりボート6に給電あるいはビ
ーム照射し、材料5を蒸発させる。このとき、グロー放
電によって発生したプラズマ中の励起酸素と蒸発して一
部イオン化したコバルト粒子とか反応して、基板8上に
あらかじめ形成されたGo−Cr薄膜の上層に酸化コバ
ルトの被膜を形成する。
ーム照射し、材料5を蒸発させる。このとき、グロー放
電によって発生したプラズマ中の励起酸素と蒸発して一
部イオン化したコバルト粒子とか反応して、基板8上に
あらかじめ形成されたGo−Cr薄膜の上層に酸化コバ
ルトの被膜を形成する。
なお、材料5を分解、蒸発させる過程では、高周波励起
プラズマが同材料表面に達し、エネルギーを同材料に付
与することによって同材料の蒸発か促進される効果もあ
ると考えられる。
プラズマが同材料表面に達し、エネルギーを同材料に付
与することによって同材料の蒸発か促進される効果もあ
ると考えられる。
上述のようなプロセスをとることによって、ボート6.
6′より出たコバルトおよびクロムの粒子は、電極7付
近を通過するときに放電しているアルゴンガスイオンと
衝突して、電荷の交換が行われ、イオン化する。イオン
化された粒子は中性粒子と共に基板8に付着するが、ホ
ルダ9に印加されている負電圧の作用により運動エネル
ギーを与えられ、付着力を強化される。なお、ボート6
.6′から蒸発したコバルトおよびクロム粒子は、イオ
ン化したものと中性のものとの混在したものとなるため
、基板8上に付着する際、結晶成長か助長される。この
とき、蒸発速度とガス圧を制御することによって、基板
8の表面に対して垂直な方向へ、磁化容易軸であるC軸
が配向するようにして結晶成長を促すことができ、所望
のGo−Cr薄膜か形成される。
6′より出たコバルトおよびクロムの粒子は、電極7付
近を通過するときに放電しているアルゴンガスイオンと
衝突して、電荷の交換が行われ、イオン化する。イオン
化された粒子は中性粒子と共に基板8に付着するが、ホ
ルダ9に印加されている負電圧の作用により運動エネル
ギーを与えられ、付着力を強化される。なお、ボート6
.6′から蒸発したコバルトおよびクロム粒子は、イオ
ン化したものと中性のものとの混在したものとなるため
、基板8上に付着する際、結晶成長か助長される。この
とき、蒸発速度とガス圧を制御することによって、基板
8の表面に対して垂直な方向へ、磁化容易軸であるC軸
が配向するようにして結晶成長を促すことができ、所望
のGo−Cr薄膜か形成される。
以上の膜形成過程において、2つのボート6.6′を用
い、それぞれの発熱体に印加される電圧を別々に制御す
ることにより、ボート内の材料か減少していく場合にも
、Go、 Crの蒸発速度か別々に制御され、膜中の組
成が一定に保たれる。
い、それぞれの発熱体に印加される電圧を別々に制御す
ることにより、ボート内の材料か減少していく場合にも
、Go、 Crの蒸発速度か別々に制御され、膜中の組
成が一定に保たれる。
上記の説明においては、コバルトとクロムを別々のボー
トに入れて蒸発させ、基板上にブレーティングする方法
について例示したが、本発明の実施はこれに限定される
ものではなく1両金属元素を1つのボートに入れて簡便
に行う方法にも応用でき、さらに、他の元素を添加して
Go−Cr磁性媒体の特性を改良した媒体にも広く応用
できる。
トに入れて蒸発させ、基板上にブレーティングする方法
について例示したが、本発明の実施はこれに限定される
ものではなく1両金属元素を1つのボートに入れて簡便
に行う方法にも応用でき、さらに、他の元素を添加して
Go−Cr磁性媒体の特性を改良した媒体にも広く応用
できる。
あるいは、成膜時に制御すべき条件を緩和するためにコ
バルトのみを蒸発させることにすればCo金金属来の一
軸結晶磁気異方性に基づく垂直磁化膜を、きわめて簡便
に形成することかてき、これは、製品の価格低下に有効
な方法として採用できる。
バルトのみを蒸発させることにすればCo金金属来の一
軸結晶磁気異方性に基づく垂直磁化膜を、きわめて簡便
に形成することかてき、これは、製品の価格低下に有効
な方法として採用できる。
以下、これら金属元素の組み合わせについて第1表に列
挙する。ここて、n種類(n≧2)の金属を例示したも
のについては、上述のごとく、1個以上n個までのうち
任意の数のボートを用いることができる。
挙する。ここて、n種類(n≧2)の金属を例示したも
のについては、上述のごとく、1個以上n個までのうち
任意の数のボートを用いることができる。
第 1 表
本発明は、磁性材料を蒸発させつつ反応性高周波励起プ
ラズマと反応させ、酸化物としてプレーティンクする方
法であり、上述の本発明におけるプロセスて形成された
酸化コバルト(Coo)は、合金層(Co−Cr)自身
よりも平滑性にすぐれていることが判明し、磁化膜自身
やヘットの摩耗を減じ、該材料の寿命の向上に寄与する
ことか証明された。
ラズマと反応させ、酸化物としてプレーティンクする方
法であり、上述の本発明におけるプロセスて形成された
酸化コバルト(Coo)は、合金層(Co−Cr)自身
よりも平滑性にすぐれていることが判明し、磁化膜自身
やヘットの摩耗を減じ、該材料の寿命の向上に寄与する
ことか証明された。
このような上層被膜形成過程において、形成される薄膜
は酸化物に限定されるものてはなく、表面平滑性を付与
し、磁化膜やヘットの摩耗減少に寄与するものであれば
広く採用することかできる。したかって、導入すべき気
体も酸素に限定されるものてはなく、形成すべき上層被
膜に対応して、気体の種類、圧力が選択可能である。
は酸化物に限定されるものてはなく、表面平滑性を付与
し、磁化膜やヘットの摩耗減少に寄与するものであれば
広く採用することかできる。したかって、導入すべき気
体も酸素に限定されるものてはなく、形成すべき上層被
膜に対応して、気体の種類、圧力が選択可能である。
具体的には、導入される反応性気体としては、酸素か最
も好適であるが、形成すべき被覆層によっては、ほかに
、窒素、アンモニア、飽和炭化水素C,+12...2
(1≦n≦6.より望ましくはl≦n≦4)、硫化
水素等か望まれる。
も好適であるが、形成すべき被覆層によっては、ほかに
、窒素、アンモニア、飽和炭化水素C,+12...2
(1≦n≦6.より望ましくはl≦n≦4)、硫化
水素等か望まれる。
上記のプロセスて上層被膜を形成する場合は、蒸発させ
る全屈と導入する反応性気体との組み合わせとしては、
Go−Cr 1m化膜を例にとれば、以下の第2表に掲
げる諸項か可能てあり、それぞれ、平滑性について良好
な結果か得られた。このとき、適宜アルゴンガスを加え
た。
る全屈と導入する反応性気体との組み合わせとしては、
Go−Cr 1m化膜を例にとれば、以下の第2表に掲
げる諸項か可能てあり、それぞれ、平滑性について良好
な結果か得られた。このとき、適宜アルゴンガスを加え
た。
第2表
また、本発明の他の実施態様としてコバルトとクロムお
よび他の金属元素を3つ以上のボートに入れて行うこと
も出来る。即ち、第2図に示す装置を用いて、ボート6
にコバルトを、ボート6′にクロムの両金属材料を入れ
、ボート6″には、さらに他の金属材料を5″を入れて
、前記の第1図の装置を用いて行った方法と同様の方法
により、コバルトとクロムを含有する垂直磁化膜と無機
材料からなる保護膜を形成した磁気記録媒体を得ること
ができる。
よび他の金属元素を3つ以上のボートに入れて行うこと
も出来る。即ち、第2図に示す装置を用いて、ボート6
にコバルトを、ボート6′にクロムの両金属材料を入れ
、ボート6″には、さらに他の金属材料を5″を入れて
、前記の第1図の装置を用いて行った方法と同様の方法
により、コバルトとクロムを含有する垂直磁化膜と無機
材料からなる保護膜を形成した磁気記録媒体を得ること
ができる。
[実施例コ
次に、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1
第1図に示す装置を用いて、下記の方法により基板に垂
直磁化膜および保護膜を形成した磁気記録媒体を得た。
直磁化膜および保護膜を形成した磁気記録媒体を得た。
まず、ホルダーに、たて150 mm、よこ150 m
m。
m。
厚さ0.04■のポリエステルの可撓性基板を装着した
。2個のボートのうち、第一のボート6にベレット状の
金属コバルトを、第二のボート 6′にはベレット状の
金属クロムを入れ、ベルジャ内の所定の位置に保持した
。
。2個のボートのうち、第一のボート6にベレット状の
金属コバルトを、第二のボート 6′にはベレット状の
金属クロムを入れ、ベルジャ内の所定の位置に保持した
。
次に、排気口より排気し、ベルジャ内を空気圧1O−5
Torrにした後、給気口よりアルゴンガスを導入し、
8XIO−’Torrの真空状態に保持した。高周波電
源から電極に高周波電力200Wて高周波電界13.6
MHzを発生させグロー放電を行った。
Torrにした後、給気口よりアルゴンガスを導入し、
8XIO−’Torrの真空状態に保持した。高周波電
源から電極に高周波電力200Wて高周波電界13.6
MHzを発生させグロー放電を行った。
次に、蒸発用電源からの給電により、第一および第二の
ボート6.6′を約1550℃に加熱し、金属コバルト
および金属クロムを溶融、蒸発させ、4分間イオンブレ
ーティングを行い、可撓性基板上に垂直磁化膜を形成し
た。
ボート6.6′を約1550℃に加熱し、金属コバルト
および金属クロムを溶融、蒸発させ、4分間イオンブレ
ーティングを行い、可撓性基板上に垂直磁化膜を形成し
た。
次にボー)−6,6’、電極およびホルダーへの給電を
停止し、可変給気バルブを調整し、給気口よりベルジャ
内へアルゴンガスに酸素を分圧比4:1の割合て混合し
た混合気体を導入し、1.2X10−3Torrの真空
状態に保持した。高周波電源より電極に前記と同じ条件
下で高周波電圧を印加し、ベルジャ内に再度グロー放電
を発生させた。
停止し、可変給気バルブを調整し、給気口よりベルジャ
内へアルゴンガスに酸素を分圧比4:1の割合て混合し
た混合気体を導入し、1.2X10−3Torrの真空
状態に保持した。高周波電源より電極に前記と同じ条件
下で高周波電圧を印加し、ベルジャ内に再度グロー放電
を発生させた。
ホルタ−に負の電圧を印加し、蒸発用電源より第一のボ
ート6に給電し、ボートを約1500°Cに加熱し、金
属コバルトを、蒸発させて、20秒間イオンプレーテイ
ンクを行い、垂直磁化膜上に保iMを形成したところ、
表面が平滑て可撓性のある膜厚0.5 gmのGo−C
rの磁化膜、膜厚90BmのCooの保護膜を積層した
可撓性基板か得られた。
ート6に給電し、ボートを約1500°Cに加熱し、金
属コバルトを、蒸発させて、20秒間イオンプレーテイ
ンクを行い、垂直磁化膜上に保iMを形成したところ、
表面が平滑て可撓性のある膜厚0.5 gmのGo−C
rの磁化膜、膜厚90BmのCooの保護膜を積層した
可撓性基板か得られた。
得られた可撓性基板の磁気特性をV、S、M、により測
定したところ、Hc= 11000e 、 Ms=42
00Gの結果が得られた。
定したところ、Hc= 11000e 、 Ms=42
00Gの結果が得られた。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の磁気記録媒体の製造方法
によれば、従来、可撓性や表面平滑性に乏しかったCo
−Cr等の合金系垂直磁化薄膜の欠点を上層被膜によっ
て補うことかてき、また、高周波反応性イオンブレーテ
インク技術の応用によって垂直磁化膜と上層被膜とを、
一つの真空容器内て、真空状態を保持したまま連続した
工程て形成することかてき、さらには、大気にふれるこ
となく一貫工程で膜形成することにより、垂直磁化膜の
特性を安定させることかてきるものである。
によれば、従来、可撓性や表面平滑性に乏しかったCo
−Cr等の合金系垂直磁化薄膜の欠点を上層被膜によっ
て補うことかてき、また、高周波反応性イオンブレーテ
インク技術の応用によって垂直磁化膜と上層被膜とを、
一つの真空容器内て、真空状態を保持したまま連続した
工程て形成することかてき、さらには、大気にふれるこ
となく一貫工程で膜形成することにより、垂直磁化膜の
特性を安定させることかてきるものである。
第1図は本発明に係る磁気記録媒体の製造方法に使用す
る装置の1例を示す説明図、第2図は装置の他の例を示
す説明図である。 1・・・排気口 2・・・可変給気バルブ3・
・・給気口 4・・・ベルジャ5.5’、5”
・・・材料 6.6’、6”・・・ボート7・・・電
極 8・・・基板9・・・ホルダー
10.10 ′、10 ”・・・蒸発用電源
る装置の1例を示す説明図、第2図は装置の他の例を示
す説明図である。 1・・・排気口 2・・・可変給気バルブ3・
・・給気口 4・・・ベルジャ5.5’、5”
・・・材料 6.6’、6”・・・ボート7・・・電
極 8・・・基板9・・・ホルダー
10.10 ′、10 ”・・・蒸発用電源
Claims (7)
- (1)磁性材料を高周波励起プラズマ中でイオン化し、
可撓性基板上に付着させ第1の層を形成する第1のプロ
セスと、磁性材料と反応性高周波励起プラズマとの反応
によつて第2の層を形成する第2のプロセスとを含むこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (2)前記磁性材料がコバルトのみから構成される特許
請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - (3)前記磁性材料が少くともコバルトを含みクロムを
含まない特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製
造方法。 - (4)前記磁性材料が少くともコバルトとクロムを含む
特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - (5)前記の反応性高周波励起プラズマが少なくとも酸
素分子に由来する特許請求の範囲第1項記載の磁気記録
媒体の製造方法。 - (6)前記の反応性高周波励起プラズマが窒素原子を含
む分子に由来する特許請求の範囲第1項記載の磁気記録
媒体の製造方法。 - (7)第1のプロセスと第2のプロセスとを連続して行
う特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP145286A JPS62162235A (ja) | 1986-01-09 | 1986-01-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP145286A JPS62162235A (ja) | 1986-01-09 | 1986-01-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62162235A true JPS62162235A (ja) | 1987-07-18 |
Family
ID=11501834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP145286A Pending JPS62162235A (ja) | 1986-01-09 | 1986-01-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62162235A (ja) |
-
1986
- 1986-01-09 JP JP145286A patent/JPS62162235A/ja active Pending
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