JPS6215577B2 - - Google Patents
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Description
周知の如く、有機ポリマーの性質は光、特に近
紫外領域の射線の作用により害される。色彩の変
化(ポリマーの黄変)のほかに物理的性質の悪
化、例えば耐引裂性の減少、ぜい弱化傾向等が現
われる。 本発明者は、文献未知の7.7−ジメチル−9・
9−ジアルキル−1−オキサ−3・8−ジアザ−
4−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン及び−そ
れが塩形成能力をもつ場合−その塩が有機材料の
光安定剤として非常に適するということを見いだ
した。 それ故、本発明は上記の1−オキサ−3・8−
ジアザ−スピロ−〔4・5〕−デカンより成る、
光、特に紫外線の分解作用(これはポリマーの変
色及び/又はぜい弱化に終る)に対する有機ポリ
マー用安定剤に関係する。 この新規な化合物は、一般式 〔式中R1及びR2は同一の基又は相違する基を意味
し、水素、炭素原子1〜30個を含むアルキル−若
しくはイソアルキル基又は、場合によりハロゲン
で若しくは炭素原子1〜4個を含むアルキル基で
置換されている、炭素原子6〜10個を含むアリー
ル基又は炭素原子7〜10個を含むアルアルキル基
であることができ、或いはR1及びR2は、R1及び
R2が結合している炭素原子と一緒になつて、炭
素原子4〜15個を含むシクロアルキル基(この基
は場合により更にC1−〜C4−アルキル基で置換
されていることができる)又は式 で示される基を構成し、 R3及びR4は同一の又は相違する、直鎖状の又
は枝分れした炭素原子1〜12個を含むアルキル基
を意味し、 R5は水素、酸素、ヒドロキシル基又は、炭素
原子1〜4個を含むアルキル基を意味し、H−X
は燐酸、亜燐酸、脂肪族若しくは芳香族のスルホ
ン酸又はホスホン酸、脂肪族のモノ−、ジ−若し
くはポリカルボン酸又は芳香族のモノ−若しくは
ジカルボン酸を意味し、mは0又は1であるが、
〓N−R5が塩基性でない場合には常に0であ
る〕 に対応する。 この7・7−ジメチル−9・9−ジアルキル−
1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピ
ロ−〔4・5〕−デカン化合物の代表例を示す: 2−イソ−プロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ブチル−7・7・9・9−テトラメチル−
1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピ
ロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ブチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
ースピロ−〔4・5〕−デカン 2−ペンチル−7・7・9・9−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ペンチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘキシル−7・7・9・9・−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘプチル−7・7・9・9−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ヘプチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−オクチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ノニル−7・7・9・9−−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ノニル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ウンデシル−7・7・9・9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−フエニル−7・7・9・9−−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−(4−クロル−フエニル)−7・7・9・9
−テトラメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−
4−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジメチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−エチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−プロピル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−プロピル−2・7・7・9・9−−
ペンタメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4
−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ブチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ブチル−2・7・7・9・9−−ペ
ンタメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−
オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ペンチル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘキシル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ノニル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジエチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジプロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソースピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジブチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−エチル−2−ペンチル−7・7・9・9−
テトラメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4
−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジベンジル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソースピロ−〔4・5〕−デカン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・13−ジアザ−14−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・4・2〕−テトラデカン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・20−ジアザ−21−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・11・2〕−ヘンエイコサン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・14−ジアザ−15−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・5・2〕−ペンタデカン 2・2・4・4・10・10・12・12−オクタメチ
ル−7−オキサ−3・11・14−トリアザ−15−オ
キソージスピロ−〔5・1・5・2〕−ペンタデカ
ン 2−エチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
8−オキシル−スピロ−〔4・5〕−デカン m=0且つR5=Hの上記新規化合物は、一般
式 (式中R3及びR4は前記の意味をもつ) で示される2・2−ジメチル−6・6−ジアルキ
ル−4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジ
ン、又はこのようなピペリジンの塩、特に塩酸塩
を一般式 (式中R1及びR2は前記の意味をもつ) で示されるアルデヒド又はケトンと反応させるこ
とにより得られる。反応は、有機溶剤、特に氷酢
酸中で、脱水剤、例えば硫酸又はポリ燐酸、特に
硫酸を使用して行なう。その際0〜180℃、殊に
20〜120℃、アルデヒドを用いる場合には特に20
〜30℃の温度に保つ。 氷酢酸を溶剤として用いる場合には次のように
行なう:カルバモイルピペリジンの使用量から計
算して5−〜10−倍量の氷酢酸をヒドロキシカル
バモイルピペリジン1モル及びカルボニル化合物
1〜3モルに加え、濃硫酸2モルを少しずつ加え
る。上記新規化合物の硫酸塩は一般に反応中に沈
殿するが、沈殿しない場合にはまず濃縮しなけれ
ばならない。遊離の塩基は、塩をアンモニア又は
苛性ソーダ溶液で処理することにより、塩から得
られる。有機酸塩又は無機酸塩は、遊離塩基から
−特に溶剤又は水の存在下で−製造することがで
きる。R5がアルキル基の化合物は、R5=Hの化
合物をハロゲン化アルキル、特に臭化アルキル及
び沃化アルキルでアルキル化反応させることによ
り得られる。R5=〓O又は−OHの化合物はR5=
Hの化合物から、例えば過酸化水素で処理するこ
とにより、得ることができる。 望ましい4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピ
ペリジンは2・2・6・6−テトラメチル−4−
ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジンであ
る;適当なアルデヒド又はケトンは例えばホルム
アルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレル
アルデヒド、イソバレルアルデヒド、カプロンア
ルデヒド、2−エチルブチルアルデヒド、エナン
トアルデヒド、2−エチルカプロンアルデヒド、
イソノニルアルデヒド、カプリンアルデヒド、イ
ソデシルアルデヒド、ラウリンアルデヒド、ベン
ズアルデヒド、p−クロルベンズアルデヒド、ア
セトン、メチル−エチルケトン、メチル−プロピ
ルケトン、メチル−イソプロピルケトン、ヘキサ
ノン−2、メチル−イソブチルケトン、ヘプタノ
ン−2、オクタノン−2、ウンデカノン−2、ジ
エチルケトン、ヘプタノン−4、ノナノン−5、
オクタノン−3、ジベンジルケトン、シクロペン
タノン、シクロヘキサノン、シクロドデカノン、
ベワゾフエノン及び2・2・6・6−テトラメチ
ルピペリジン−4−オン(=トリアセトンアミ
ン)である。 式 で示される新規化合物において、基R1及びR2
は、該化合物を合成する際に用いるアルデヒド又
はケトンに由来する。R1及びR2は同一であるか
又は異なつていることができる。従つて基R1及
びR2は、水素又はC−原子1〜30個を含むアル
キル−若しくはイソアルキル基又は場合によりハ
ロゲン、特に塩素、若しくはC−原子1〜4個を
含むアルキル基で置換したC−原子6〜10個を含
むフリール基若しくはC−原子7〜10個を含むア
ルアルキル基である(この場合脂肪族の鎖はC−
原子1〜4個から成る)。 基R1及びR2がアルデヒドに由来するかケトン
に由来するかに応じて、R1及びR2に好ましい代
表試薬が明らかになる。 アルデヒドを用いる場合には、R1は必然的に
常に水素であるのに対してR2は水素、C−原子
1〜30個、殊に1〜18個、殊に3〜12個を含むア
ルキル基であることができるか或はハロゲン原子
−特に塩素−又はC−原子1〜4個を含むアルキ
ル基で場合により置換したC−原子6〜10個を含
むアリール基(フエニル又はナフチル)又はC−
原子7〜10個を含むアルアルキル基(この場合C
−原子1〜4個が脂肪族の鎖に属する)である。 4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジン
とケトンから新規化合物を合成する場合には、
R1はC−原子1〜30個、殊に1〜7個、特に1
〜4個を含むアルキル基であるか又はC−原子7
〜10個を含むアルアルキル基(この場合脂肪族の
鎖はC−原子1〜4個を含む)であるのが望まし
い。この場合、R2はC−原子1〜30個、殊に1
〜17個、特に1〜10個を含むアルキル基であるか
又はハロゲン原子−特に塩素−若しくはC−原子
1〜4個を含むアルキル基で場合により置換した
C−原子6〜10個を含むアリール基であるか又は
C−原子7〜10個を含むアルアルキル基(この場
合脂肪族の鎖はC−原子1〜4個から成る)であ
る。 前記の観点で挙げられるべき基R1の例として
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘ
キシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、イ
ソオクチル、ノニル、イソノニル、デシル、ウン
デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、
ペンタデシル、ヘプタデシル、4−イソプロピル
フエニル、2−エチルブチル、2−エチルヘキシ
ル、4−メチルベンジル、フエニル、2−クロル
フエニル、3−クロルフエニル、4−クロルフエ
ニル、1−ナフチル、2−ナフチル、ペンジル、
2−メチルデシルがあり、基R2の例としてはメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ベンチル、イソペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウ
ンデシル、ペンタデシル、ヘプタデシル、フエニ
ルエチル、ペンジル及びフエニルがある。 R1及びR2は場合により、R1及びR2が結合して
いる炭素原子と一緒になつてC−原子4〜15個、
殊に5〜12個、特に5〜7個を含むシクロアルキ
ル基を形成することができる。このシクロアルキ
ル基はC1−〜C4−アルキル基で置換されている
ことができる。また、R1及びR2は、一緒になつ
て式 で示される環状の基を表わすことができる。上記
の構造の例としては、シクロペンチル、3−メチ
ルシクロペンチル、シクロヘキシル、2−メチル
シクロヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4
−メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シク
ロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シク
ロウレデシル、シクロドデシル、シクロトリデシ
ル、シクロペンタデシル及び2・6・6−テトラ
メチルピペリジルがある。 基R3及びR4は炭素原子1〜12個、特に1〜6
個を含む直鎖状の又は枝分れしたアルキル基であ
る。R3及びR4は同一であるか又は異なつている
ことができる。容易に得られるトリアセトンアミ
ンから誘導される化合物は特に重要である。この
場合、R3及びR4はメチル基である。 基R5は水素であるのが望ましい。基R5は更
に、酸素又はヒドロキシル基又はC−原子1〜4
個を含むアルキル基であることができる。 H−Xは燐酸、亜燐酸、C−原子1〜30個、特
に1〜18個を含む脂肪族のスルホン酸若しくはホ
スホン酸、場合によりアルキル化されているC−
原子6〜25個、特に6〜18個、を含む芳香族のス
ルホン−若しくはホスホン酸(この場合C−原子
1〜16個を含むアルキル基1〜3個が存在するこ
とができる)を表わす。H−Xは更に、C−原子
2〜34個、特に2〜18個を含む脂肪族の直鎖状の
若しくは枝分れしたモノ−又はジカルボン酸、又
は場合により、カルボキシル基を4個までとC−
原子を全部で16個まで含むポリカルボン酸を意味
するか又は芳香族の、場合によりC1−〜C4−ア
ルキル−若しくはイソアルキル置換されている、
C−原子7〜25個、特に7〜19個を含むモノ−若
しくはジカルボン酸であることができる。既に記
載した燐酸と亜燐酸のほかに特に次のものを例示
する:フエニルホスホン酸、カンフアースルホン
酸、ドデシルスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、アルキルポリグリコールエーテルスルホン
酸、アルキルアリールポリグリコールエーテルス
ルホン酸、酢酸、プロピオン酸、n−オクタン
酸、2−エチル−ヘキサン酸、ラウリン酸、ステ
アリン酸、獣脂脂肪酸、モンタン酸、こはく酸、
アジピン酸、アゼライン酸、くえん酸、トリカル
バリル酸、安息香酸、トリル酸、p−tert.−ブ
チル安息香酸、フタル酸及びテレフタル酸。 上記新規化合物が遊離の塩基及び前記の塩又
は、多塩基酸の場合には場合により1−オキサ−
3・8−ジアザ−スピロ−〔4・5〕−デカンの酸
塩であることは、一般式の文字「m」(これは一
般式によれば0又は1である)が示している。基
〓N−R5が塩形成能力をもたない化合物では
「m」は必然的に0である。 新規の1−オキサ−3・8−ジアザ−スピロ−
〔4・5〕−デカンは有機ポリマー物質に、熱と特
に紫外線の作用による分解に対する並外れた安定
性を与える。このものは特にポリオレフイン用の
光安定剤として価値が高い。有機ポリマー物質の
染色性はこの新規化合物により害されない。 光と熱の有害な影響に対して保護されるべき有
機ポリマー物質とは次のものである:ポリオレフ
イン、例えばポリイソプレン、ポリブタジエン、
ポリスチレン及び特に低密度と高密度のポリプロ
ピレンとポリエチレン、更にはエチレン−プロピ
レン−コポリマー、エチレン−ブテン−コポリマ
ー、エチレン−酢酸ビニル−コポリマー、スチレ
ン−ブタジエン−コポリマー、アクリロニトリル
−スチレン−ブタジエン−コポリマー。ポリ塩化
ビニルという概念とポリ塩化ビニリデンという概
念は、塩化ビニルと塩化ビニリデンのホモポリマ
ー、塩化ビニル又は塩化ビニリデンと酢酸ビニル
又は他のオレフイン不飽和モノマーを包含するも
のとする。ポリアセタール、ポリエステル例えば
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド例えば
ナイロン−6、ナイロン−6・6、ナイロン−
6・10、ポリウレタン及びエポキシ樹脂も適す
る。 新規な化合物は更に、動物性及び植物性の油及
び脂肪、例えば亜麻仁油、落花生油、ひまし油、
フアツト、ラード、その他、液体及び固体の炭化
水素例えばベンジン、鉱油、ワツクス、樹脂その
他の安定化に用いることができる。 合成ポリマーに加える新規化合物の量は、安定
化される有機ポリマーの種類、性質及び特定の用
途次第でかなり変動する。一般に合成ポリマーの
量から計算して0.01〜5重量部、殊に0.05〜3重
量部、特に0.1〜1.5重量部使用する。単一化合物
又は数種のものから成る混合物を用いることがで
きる。 新規化合物は普通の方法で有機ポリマーに加え
る。従つて、粉末状の安定剤をポリマーと混合す
ることができるか又は安定剤の溶液、サスペンジ
ヨン又はエマルジヨンを有機ポリマーの溶液、サ
スペンジヨン又はエマルジヨンに加えることがで
きる。 安定剤自体は単独でも、フエノール−、硫化物
−及び燐含有−抗酸化剤を基礎とする普通の光−
及び熱−安定剤と混合しても作用する。 普通の安定剤とは例えば次のものである:2・
6−ジ−tert.−ブチル−p−クレゾール、3・
5−ジ−tert.−ブチル−4−ヒドロキシフエニ
ルプロピオン酸エステル、アルキリデン−ビス−
アルキルフエノール、脂肪アルコールのチオ−ジ
プロピオン酸エステル並びにジオクタデシルスル
フイド及び−ジスルフイド。燐含有化合物として
は例えばトリスノニル−フエニルホスフアイト、
ジステアリルペンタエリトリチルジスルフアイ
ト、ペンタエリトリツトホスフアイトのエステル
等を挙げることができる。紫外線吸収剤の例とし
てはベンゾトリアゾール化合物、例えば2−
(2′−ヒドロキシ−5′−メチル−フエニル)−ベン
ゾトリアゾールを挙げることができ、消光物質の
例としてはピペリジン安定剤と金属キレートを挙
げることができる。 また、上記の塩素含有ホモ−及びコポリマー並
びに塩素化したポリオレフイン、例えば塩素化し
たポリエチレン及びポリプロピレンを安定化する
際に、安定剤として知られている金属化合物、エ
ポキシ安定剤、ホスフアイト及び場合により多価
アルコールを存在させて新規な安定剤を添加すれ
ば、熱−及び光−安定性が改善される。 これと関連するが、安定剤として知られている
金属化合物とは、炭素原子約12〜32個を含む脂肪
族のカルボン酸又はオキシカルボン酸のカルシウ
ム−、バリウム−、ストロンチウム−、亜塩−カ
ドミウム−、マグネシウム、アルミニウム−及び
鉛石けん、上記の金属と芳香族カルボン酸との塩
例えば安息香酸塩又はサリチル酸塩並びに上記の
金属の(アルキルー)フエノレート、更には有機
錫化合物、例えばジアルキル錫チオグリコレート
及びカルボキシレートのことである。 既知のエポキシ安定剤は、例えばエポキシ化し
た高級脂肪酸例えばエポキシ化した大豆油、トー
ル油、亜麻仁油又はエポキシ化したオレイン酸ブ
チル及び長鎖のω−オレフインのエポキシドあ
る。 ホスフアイトとしては、トリスノニルフエニル
ホスフアイト、トリスラウリルホスフアイト或は
ペンタエリトリツトホスフアイトのエステルを挙
げることができる。 多価アルコールは例えばペンタエリトリツト、
トリメチロールプロパン、ソルビツト又はマンニ
ツト、即ち特にC−原子5〜6個とOH−基3〜
6個を含むアルコールであることができる。 ハロゲンを含まないポリ−α−オレフイン、例
えばC2−〜C4−α−オレフイン、特にポリエチ
レン及びポリプロピレンの高−、中−及び低圧ポ
リマー又はこのようなα−オレフインのコポリマ
ーの高−、中−及び低圧ポリマーのための有利な
安定剤の組成は、ポリマー100重量部当り、例え
ば、本発明で用いられる化合物0.01〜5重量部、
フエノール安定剤0.05〜5重量部、場合により硫
黄含有コスタピライザー0.01〜5重量部、及び場
合により塩基性又は中性金属石けん、例えばステ
アリン酸カルシウム又はステアリン酸亜鉛、0.01
〜3重量部、及び場合によりホスフアイト0.1〜
5重量部並びに場合により、アルコキシヒドロキ
シベンゾフエノン、ヒドロキシフエニルベンゾト
リアゾール、サリチル酸フエノールエステル、安
息香酸ヒドロキシフエノールエステル、ベンジリ
デンマロン酸モノニトリルエステル、いわゆる
「消光剤」例えばニツケルキレート又はヘキサメ
チル燐酸トリアミドの群から選ばれる既知のUV
−安定剤0.01〜5重量部から成る。 ハロゲンを含むポリマーを安定化するための安
定剤のコンビネーシヨンは、ポリマー100重量部
当り、例えば、安定剤として知られている金属化
合物0.01〜10重量部、既知のエポキシ安定剤0.1
〜10重量部、ホスフアイト0.05〜10重量部、多価
アルコール0.1〜10重量部、本発明で用いられる
化合物0.1〜5重量部から成る。 以下の例により本発明を更に詳細に説明する。 製造例 1 2−イソ−プロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オ
キソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2・6・6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シ−4−カルバモイルピペリジニウムクロリド
23.6gとイソブチルアルデヒド23gを氷酢酸100
gに加えた。撹拌しながらこれに濃硫酸19.6gを
少しずつ加え、次いで20時間室温で撹拌した。続
いて減圧で蒸発濃縮した。エーテル/アセトン
1:1混合物を少量加え、生じた固体を吸引取
した。これ(希望した化合物の硫酸塩)を少量の
水に溶かした。アンモニアで塩基を析出させた。
吸引取し、アルコールで再結晶した。融点
(m.p.)150〜151℃の無色の結晶がほぼ定量的な
収率で得られた。 C14H26N2O2(分子量254)の分析値 計算値:C 66.1% H 10.3% N 11.0% 実測値:C 65.9% H 10.5% N 10.6% 製造例 2〜14 製造例1に記載したのと同様に、2・2・6・
6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−4−カルバ
モイルピペリジニウムクロリド23.6gずつと若干
のアルデヒドから次の化合物(無色の結晶として
生じた)を合成した。表1と表2に製造のための
データと分析データを示した。
紫外領域の射線の作用により害される。色彩の変
化(ポリマーの黄変)のほかに物理的性質の悪
化、例えば耐引裂性の減少、ぜい弱化傾向等が現
われる。 本発明者は、文献未知の7.7−ジメチル−9・
9−ジアルキル−1−オキサ−3・8−ジアザ−
4−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン及び−そ
れが塩形成能力をもつ場合−その塩が有機材料の
光安定剤として非常に適するということを見いだ
した。 それ故、本発明は上記の1−オキサ−3・8−
ジアザ−スピロ−〔4・5〕−デカンより成る、
光、特に紫外線の分解作用(これはポリマーの変
色及び/又はぜい弱化に終る)に対する有機ポリ
マー用安定剤に関係する。 この新規な化合物は、一般式 〔式中R1及びR2は同一の基又は相違する基を意味
し、水素、炭素原子1〜30個を含むアルキル−若
しくはイソアルキル基又は、場合によりハロゲン
で若しくは炭素原子1〜4個を含むアルキル基で
置換されている、炭素原子6〜10個を含むアリー
ル基又は炭素原子7〜10個を含むアルアルキル基
であることができ、或いはR1及びR2は、R1及び
R2が結合している炭素原子と一緒になつて、炭
素原子4〜15個を含むシクロアルキル基(この基
は場合により更にC1−〜C4−アルキル基で置換
されていることができる)又は式 で示される基を構成し、 R3及びR4は同一の又は相違する、直鎖状の又
は枝分れした炭素原子1〜12個を含むアルキル基
を意味し、 R5は水素、酸素、ヒドロキシル基又は、炭素
原子1〜4個を含むアルキル基を意味し、H−X
は燐酸、亜燐酸、脂肪族若しくは芳香族のスルホ
ン酸又はホスホン酸、脂肪族のモノ−、ジ−若し
くはポリカルボン酸又は芳香族のモノ−若しくは
ジカルボン酸を意味し、mは0又は1であるが、
〓N−R5が塩基性でない場合には常に0であ
る〕 に対応する。 この7・7−ジメチル−9・9−ジアルキル−
1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピ
ロ−〔4・5〕−デカン化合物の代表例を示す: 2−イソ−プロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ブチル−7・7・9・9−テトラメチル−
1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピ
ロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ブチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
ースピロ−〔4・5〕−デカン 2−ペンチル−7・7・9・9−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ペンチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘキシル−7・7・9・9・−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘプチル−7・7・9・9−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ヘプチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−オクチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ノニル−7・7・9・9−−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ノニル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ウンデシル−7・7・9・9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−フエニル−7・7・9・9−−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−(4−クロル−フエニル)−7・7・9・9
−テトラメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−
4−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジメチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−エチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−プロピル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−プロピル−2・7・7・9・9−−
ペンタメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4
−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ブチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ブチル−2・7・7・9・9−−ペ
ンタメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−
オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ペンチル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘキシル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ノニル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジエチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジプロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソースピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジブチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−エチル−2−ペンチル−7・7・9・9−
テトラメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4
−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジベンジル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソースピロ−〔4・5〕−デカン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・13−ジアザ−14−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・4・2〕−テトラデカン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・20−ジアザ−21−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・11・2〕−ヘンエイコサン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・14−ジアザ−15−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・5・2〕−ペンタデカン 2・2・4・4・10・10・12・12−オクタメチ
ル−7−オキサ−3・11・14−トリアザ−15−オ
キソージスピロ−〔5・1・5・2〕−ペンタデカ
ン 2−エチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
8−オキシル−スピロ−〔4・5〕−デカン m=0且つR5=Hの上記新規化合物は、一般
式 (式中R3及びR4は前記の意味をもつ) で示される2・2−ジメチル−6・6−ジアルキ
ル−4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジ
ン、又はこのようなピペリジンの塩、特に塩酸塩
を一般式 (式中R1及びR2は前記の意味をもつ) で示されるアルデヒド又はケトンと反応させるこ
とにより得られる。反応は、有機溶剤、特に氷酢
酸中で、脱水剤、例えば硫酸又はポリ燐酸、特に
硫酸を使用して行なう。その際0〜180℃、殊に
20〜120℃、アルデヒドを用いる場合には特に20
〜30℃の温度に保つ。 氷酢酸を溶剤として用いる場合には次のように
行なう:カルバモイルピペリジンの使用量から計
算して5−〜10−倍量の氷酢酸をヒドロキシカル
バモイルピペリジン1モル及びカルボニル化合物
1〜3モルに加え、濃硫酸2モルを少しずつ加え
る。上記新規化合物の硫酸塩は一般に反応中に沈
殿するが、沈殿しない場合にはまず濃縮しなけれ
ばならない。遊離の塩基は、塩をアンモニア又は
苛性ソーダ溶液で処理することにより、塩から得
られる。有機酸塩又は無機酸塩は、遊離塩基から
−特に溶剤又は水の存在下で−製造することがで
きる。R5がアルキル基の化合物は、R5=Hの化
合物をハロゲン化アルキル、特に臭化アルキル及
び沃化アルキルでアルキル化反応させることによ
り得られる。R5=〓O又は−OHの化合物はR5=
Hの化合物から、例えば過酸化水素で処理するこ
とにより、得ることができる。 望ましい4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピ
ペリジンは2・2・6・6−テトラメチル−4−
ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジンであ
る;適当なアルデヒド又はケトンは例えばホルム
アルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレル
アルデヒド、イソバレルアルデヒド、カプロンア
ルデヒド、2−エチルブチルアルデヒド、エナン
トアルデヒド、2−エチルカプロンアルデヒド、
イソノニルアルデヒド、カプリンアルデヒド、イ
ソデシルアルデヒド、ラウリンアルデヒド、ベン
ズアルデヒド、p−クロルベンズアルデヒド、ア
セトン、メチル−エチルケトン、メチル−プロピ
ルケトン、メチル−イソプロピルケトン、ヘキサ
ノン−2、メチル−イソブチルケトン、ヘプタノ
ン−2、オクタノン−2、ウンデカノン−2、ジ
エチルケトン、ヘプタノン−4、ノナノン−5、
オクタノン−3、ジベンジルケトン、シクロペン
タノン、シクロヘキサノン、シクロドデカノン、
ベワゾフエノン及び2・2・6・6−テトラメチ
ルピペリジン−4−オン(=トリアセトンアミ
ン)である。 式 で示される新規化合物において、基R1及びR2
は、該化合物を合成する際に用いるアルデヒド又
はケトンに由来する。R1及びR2は同一であるか
又は異なつていることができる。従つて基R1及
びR2は、水素又はC−原子1〜30個を含むアル
キル−若しくはイソアルキル基又は場合によりハ
ロゲン、特に塩素、若しくはC−原子1〜4個を
含むアルキル基で置換したC−原子6〜10個を含
むフリール基若しくはC−原子7〜10個を含むア
ルアルキル基である(この場合脂肪族の鎖はC−
原子1〜4個から成る)。 基R1及びR2がアルデヒドに由来するかケトン
に由来するかに応じて、R1及びR2に好ましい代
表試薬が明らかになる。 アルデヒドを用いる場合には、R1は必然的に
常に水素であるのに対してR2は水素、C−原子
1〜30個、殊に1〜18個、殊に3〜12個を含むア
ルキル基であることができるか或はハロゲン原子
−特に塩素−又はC−原子1〜4個を含むアルキ
ル基で場合により置換したC−原子6〜10個を含
むアリール基(フエニル又はナフチル)又はC−
原子7〜10個を含むアルアルキル基(この場合C
−原子1〜4個が脂肪族の鎖に属する)である。 4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジン
とケトンから新規化合物を合成する場合には、
R1はC−原子1〜30個、殊に1〜7個、特に1
〜4個を含むアルキル基であるか又はC−原子7
〜10個を含むアルアルキル基(この場合脂肪族の
鎖はC−原子1〜4個を含む)であるのが望まし
い。この場合、R2はC−原子1〜30個、殊に1
〜17個、特に1〜10個を含むアルキル基であるか
又はハロゲン原子−特に塩素−若しくはC−原子
1〜4個を含むアルキル基で場合により置換した
C−原子6〜10個を含むアリール基であるか又は
C−原子7〜10個を含むアルアルキル基(この場
合脂肪族の鎖はC−原子1〜4個から成る)であ
る。 前記の観点で挙げられるべき基R1の例として
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘ
キシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、イ
ソオクチル、ノニル、イソノニル、デシル、ウン
デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、
ペンタデシル、ヘプタデシル、4−イソプロピル
フエニル、2−エチルブチル、2−エチルヘキシ
ル、4−メチルベンジル、フエニル、2−クロル
フエニル、3−クロルフエニル、4−クロルフエ
ニル、1−ナフチル、2−ナフチル、ペンジル、
2−メチルデシルがあり、基R2の例としてはメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ベンチル、イソペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウ
ンデシル、ペンタデシル、ヘプタデシル、フエニ
ルエチル、ペンジル及びフエニルがある。 R1及びR2は場合により、R1及びR2が結合して
いる炭素原子と一緒になつてC−原子4〜15個、
殊に5〜12個、特に5〜7個を含むシクロアルキ
ル基を形成することができる。このシクロアルキ
ル基はC1−〜C4−アルキル基で置換されている
ことができる。また、R1及びR2は、一緒になつ
て式 で示される環状の基を表わすことができる。上記
の構造の例としては、シクロペンチル、3−メチ
ルシクロペンチル、シクロヘキシル、2−メチル
シクロヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4
−メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シク
ロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シク
ロウレデシル、シクロドデシル、シクロトリデシ
ル、シクロペンタデシル及び2・6・6−テトラ
メチルピペリジルがある。 基R3及びR4は炭素原子1〜12個、特に1〜6
個を含む直鎖状の又は枝分れしたアルキル基であ
る。R3及びR4は同一であるか又は異なつている
ことができる。容易に得られるトリアセトンアミ
ンから誘導される化合物は特に重要である。この
場合、R3及びR4はメチル基である。 基R5は水素であるのが望ましい。基R5は更
に、酸素又はヒドロキシル基又はC−原子1〜4
個を含むアルキル基であることができる。 H−Xは燐酸、亜燐酸、C−原子1〜30個、特
に1〜18個を含む脂肪族のスルホン酸若しくはホ
スホン酸、場合によりアルキル化されているC−
原子6〜25個、特に6〜18個、を含む芳香族のス
ルホン−若しくはホスホン酸(この場合C−原子
1〜16個を含むアルキル基1〜3個が存在するこ
とができる)を表わす。H−Xは更に、C−原子
2〜34個、特に2〜18個を含む脂肪族の直鎖状の
若しくは枝分れしたモノ−又はジカルボン酸、又
は場合により、カルボキシル基を4個までとC−
原子を全部で16個まで含むポリカルボン酸を意味
するか又は芳香族の、場合によりC1−〜C4−ア
ルキル−若しくはイソアルキル置換されている、
C−原子7〜25個、特に7〜19個を含むモノ−若
しくはジカルボン酸であることができる。既に記
載した燐酸と亜燐酸のほかに特に次のものを例示
する:フエニルホスホン酸、カンフアースルホン
酸、ドデシルスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、アルキルポリグリコールエーテルスルホン
酸、アルキルアリールポリグリコールエーテルス
ルホン酸、酢酸、プロピオン酸、n−オクタン
酸、2−エチル−ヘキサン酸、ラウリン酸、ステ
アリン酸、獣脂脂肪酸、モンタン酸、こはく酸、
アジピン酸、アゼライン酸、くえん酸、トリカル
バリル酸、安息香酸、トリル酸、p−tert.−ブ
チル安息香酸、フタル酸及びテレフタル酸。 上記新規化合物が遊離の塩基及び前記の塩又
は、多塩基酸の場合には場合により1−オキサ−
3・8−ジアザ−スピロ−〔4・5〕−デカンの酸
塩であることは、一般式の文字「m」(これは一
般式によれば0又は1である)が示している。基
〓N−R5が塩形成能力をもたない化合物では
「m」は必然的に0である。 新規の1−オキサ−3・8−ジアザ−スピロ−
〔4・5〕−デカンは有機ポリマー物質に、熱と特
に紫外線の作用による分解に対する並外れた安定
性を与える。このものは特にポリオレフイン用の
光安定剤として価値が高い。有機ポリマー物質の
染色性はこの新規化合物により害されない。 光と熱の有害な影響に対して保護されるべき有
機ポリマー物質とは次のものである:ポリオレフ
イン、例えばポリイソプレン、ポリブタジエン、
ポリスチレン及び特に低密度と高密度のポリプロ
ピレンとポリエチレン、更にはエチレン−プロピ
レン−コポリマー、エチレン−ブテン−コポリマ
ー、エチレン−酢酸ビニル−コポリマー、スチレ
ン−ブタジエン−コポリマー、アクリロニトリル
−スチレン−ブタジエン−コポリマー。ポリ塩化
ビニルという概念とポリ塩化ビニリデンという概
念は、塩化ビニルと塩化ビニリデンのホモポリマ
ー、塩化ビニル又は塩化ビニリデンと酢酸ビニル
又は他のオレフイン不飽和モノマーを包含するも
のとする。ポリアセタール、ポリエステル例えば
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド例えば
ナイロン−6、ナイロン−6・6、ナイロン−
6・10、ポリウレタン及びエポキシ樹脂も適す
る。 新規な化合物は更に、動物性及び植物性の油及
び脂肪、例えば亜麻仁油、落花生油、ひまし油、
フアツト、ラード、その他、液体及び固体の炭化
水素例えばベンジン、鉱油、ワツクス、樹脂その
他の安定化に用いることができる。 合成ポリマーに加える新規化合物の量は、安定
化される有機ポリマーの種類、性質及び特定の用
途次第でかなり変動する。一般に合成ポリマーの
量から計算して0.01〜5重量部、殊に0.05〜3重
量部、特に0.1〜1.5重量部使用する。単一化合物
又は数種のものから成る混合物を用いることがで
きる。 新規化合物は普通の方法で有機ポリマーに加え
る。従つて、粉末状の安定剤をポリマーと混合す
ることができるか又は安定剤の溶液、サスペンジ
ヨン又はエマルジヨンを有機ポリマーの溶液、サ
スペンジヨン又はエマルジヨンに加えることがで
きる。 安定剤自体は単独でも、フエノール−、硫化物
−及び燐含有−抗酸化剤を基礎とする普通の光−
及び熱−安定剤と混合しても作用する。 普通の安定剤とは例えば次のものである:2・
6−ジ−tert.−ブチル−p−クレゾール、3・
5−ジ−tert.−ブチル−4−ヒドロキシフエニ
ルプロピオン酸エステル、アルキリデン−ビス−
アルキルフエノール、脂肪アルコールのチオ−ジ
プロピオン酸エステル並びにジオクタデシルスル
フイド及び−ジスルフイド。燐含有化合物として
は例えばトリスノニル−フエニルホスフアイト、
ジステアリルペンタエリトリチルジスルフアイ
ト、ペンタエリトリツトホスフアイトのエステル
等を挙げることができる。紫外線吸収剤の例とし
てはベンゾトリアゾール化合物、例えば2−
(2′−ヒドロキシ−5′−メチル−フエニル)−ベン
ゾトリアゾールを挙げることができ、消光物質の
例としてはピペリジン安定剤と金属キレートを挙
げることができる。 また、上記の塩素含有ホモ−及びコポリマー並
びに塩素化したポリオレフイン、例えば塩素化し
たポリエチレン及びポリプロピレンを安定化する
際に、安定剤として知られている金属化合物、エ
ポキシ安定剤、ホスフアイト及び場合により多価
アルコールを存在させて新規な安定剤を添加すれ
ば、熱−及び光−安定性が改善される。 これと関連するが、安定剤として知られている
金属化合物とは、炭素原子約12〜32個を含む脂肪
族のカルボン酸又はオキシカルボン酸のカルシウ
ム−、バリウム−、ストロンチウム−、亜塩−カ
ドミウム−、マグネシウム、アルミニウム−及び
鉛石けん、上記の金属と芳香族カルボン酸との塩
例えば安息香酸塩又はサリチル酸塩並びに上記の
金属の(アルキルー)フエノレート、更には有機
錫化合物、例えばジアルキル錫チオグリコレート
及びカルボキシレートのことである。 既知のエポキシ安定剤は、例えばエポキシ化し
た高級脂肪酸例えばエポキシ化した大豆油、トー
ル油、亜麻仁油又はエポキシ化したオレイン酸ブ
チル及び長鎖のω−オレフインのエポキシドあ
る。 ホスフアイトとしては、トリスノニルフエニル
ホスフアイト、トリスラウリルホスフアイト或は
ペンタエリトリツトホスフアイトのエステルを挙
げることができる。 多価アルコールは例えばペンタエリトリツト、
トリメチロールプロパン、ソルビツト又はマンニ
ツト、即ち特にC−原子5〜6個とOH−基3〜
6個を含むアルコールであることができる。 ハロゲンを含まないポリ−α−オレフイン、例
えばC2−〜C4−α−オレフイン、特にポリエチ
レン及びポリプロピレンの高−、中−及び低圧ポ
リマー又はこのようなα−オレフインのコポリマ
ーの高−、中−及び低圧ポリマーのための有利な
安定剤の組成は、ポリマー100重量部当り、例え
ば、本発明で用いられる化合物0.01〜5重量部、
フエノール安定剤0.05〜5重量部、場合により硫
黄含有コスタピライザー0.01〜5重量部、及び場
合により塩基性又は中性金属石けん、例えばステ
アリン酸カルシウム又はステアリン酸亜鉛、0.01
〜3重量部、及び場合によりホスフアイト0.1〜
5重量部並びに場合により、アルコキシヒドロキ
シベンゾフエノン、ヒドロキシフエニルベンゾト
リアゾール、サリチル酸フエノールエステル、安
息香酸ヒドロキシフエノールエステル、ベンジリ
デンマロン酸モノニトリルエステル、いわゆる
「消光剤」例えばニツケルキレート又はヘキサメ
チル燐酸トリアミドの群から選ばれる既知のUV
−安定剤0.01〜5重量部から成る。 ハロゲンを含むポリマーを安定化するための安
定剤のコンビネーシヨンは、ポリマー100重量部
当り、例えば、安定剤として知られている金属化
合物0.01〜10重量部、既知のエポキシ安定剤0.1
〜10重量部、ホスフアイト0.05〜10重量部、多価
アルコール0.1〜10重量部、本発明で用いられる
化合物0.1〜5重量部から成る。 以下の例により本発明を更に詳細に説明する。 製造例 1 2−イソ−プロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オ
キソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2・6・6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シ−4−カルバモイルピペリジニウムクロリド
23.6gとイソブチルアルデヒド23gを氷酢酸100
gに加えた。撹拌しながらこれに濃硫酸19.6gを
少しずつ加え、次いで20時間室温で撹拌した。続
いて減圧で蒸発濃縮した。エーテル/アセトン
1:1混合物を少量加え、生じた固体を吸引取
した。これ(希望した化合物の硫酸塩)を少量の
水に溶かした。アンモニアで塩基を析出させた。
吸引取し、アルコールで再結晶した。融点
(m.p.)150〜151℃の無色の結晶がほぼ定量的な
収率で得られた。 C14H26N2O2(分子量254)の分析値 計算値:C 66.1% H 10.3% N 11.0% 実測値:C 65.9% H 10.5% N 10.6% 製造例 2〜14 製造例1に記載したのと同様に、2・2・6・
6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−4−カルバ
モイルピペリジニウムクロリド23.6gずつと若干
のアルデヒドから次の化合物(無色の結晶として
生じた)を合成した。表1と表2に製造のための
データと分析データを示した。
【表】
【表】
【表】
【表】
製造例 15
2・2・7・7・9・9−ヘキサメチル−1−
オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピロ
−〔4・5〕−デカン。 2・2・6・6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シ−4−カルバモイルピペリジニウムクロリド
23.6gとアセトン20gを氷酢酸100gに加えた。
撹拌しながらこれに濃硫酸19.6gを少しずつ加
え、次いで72時間40〜50℃で撹拌した(80℃の反
応温度のときには反応時間を16時間に短縮し
た)。しばらく後に透明な溶液が生じ、次いで更
に反応が進んで沈殿が析出した。この沈殿を吸引
取して少量の水の中に入れ、アンモニア又は50
%苛性ソーダ溶液で処理した。その際、望んだ化
合物は無色の結晶として生じた。この結晶を吸引
取してエタノールで再結晶した。融点236〜237
℃。 C13H24N2O2(分子量240)の分析値 計算値:C 65.0% H 10.0% N 11.7% 実測値:C 65.2% H 10.4% N 11.4% 製造例 16〜32 製造例15に記載したのと同様に、2・2・6・
6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−4−カルバ
モイルピペリジニウムクロリド23.6gずつと若干
のケトンから次の化合物を合成した。この化合物
は全部無色の結晶として生じた。表3と表4に製
造のためのデータと分析データを示した。
オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピロ
−〔4・5〕−デカン。 2・2・6・6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シ−4−カルバモイルピペリジニウムクロリド
23.6gとアセトン20gを氷酢酸100gに加えた。
撹拌しながらこれに濃硫酸19.6gを少しずつ加
え、次いで72時間40〜50℃で撹拌した(80℃の反
応温度のときには反応時間を16時間に短縮し
た)。しばらく後に透明な溶液が生じ、次いで更
に反応が進んで沈殿が析出した。この沈殿を吸引
取して少量の水の中に入れ、アンモニア又は50
%苛性ソーダ溶液で処理した。その際、望んだ化
合物は無色の結晶として生じた。この結晶を吸引
取してエタノールで再結晶した。融点236〜237
℃。 C13H24N2O2(分子量240)の分析値 計算値:C 65.0% H 10.0% N 11.7% 実測値:C 65.2% H 10.4% N 11.4% 製造例 16〜32 製造例15に記載したのと同様に、2・2・6・
6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−4−カルバ
モイルピペリジニウムクロリド23.6gずつと若干
のケトンから次の化合物を合成した。この化合物
は全部無色の結晶として生じた。表3と表4に製
造のためのデータと分析データを示した。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
製造例 33
2−エチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−8−オキシル−スピロ−〔4・5〕−デカン。 メタノール20ml中の製造例16で得た生成物3g
にタングステン酸ナトリウム0.1g、エチレンジ
アミン四酢酸0.1g及び30%の過酸化水素6mlを
加えた。20℃で120時間放置した後、減圧で濃縮
し、水10mlでペースト化し、吸引取した。乾燥
後、n−ヘプタン/アセトンで再結晶し、融点
154〜156℃の橙色結晶2.0gを得た。 C14H25N2O3(分子量269)の分析値 計算値:C 62.4% H 9.3% N 10.4% 実測値:C 62.5% H 9.6% N 10.4% 製造例 34 2・2−ジエチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカンのp−第3−ブ
チルベンゾエート。 製造例24で得た化合物2.7gとp−tert.−ブチ
ル安息香酸1.8gを、エタノール50mlと一緒に10
分間還流させながら煮沸した。冷却後、分離した
無色の結晶を吸引取して乾燥させた。m.p.242
〜245℃。 実施例 1 この実施例は、ポリ−α−オレフイン中に添加
した場合の、若干の新規化合物の光安定化作用を
示すためのものである。 約6g/10minのメルトインデツクスi5
(ASTM D 1238−62Tにより測定した)及び
0.96g/cm3の密度をもつポリプロピレン100重量
部を ビス−(4′−ヒドロキシ−3′−tert.−ブチル−フ
エノール)−ブタン酸エステル 0.1重量部 ラウリンチオジプロピオン酸エステル0.15重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2重量部及び テストする本発明の安定剤 0.3重量部 と混和し、対ローラーで200℃で5分間均質化し
た。次いでプラスチツクの融成物を200℃で厚さ
1mmのプレートにプレスした。冷却したプレート
からドイツ工業規格53455による検体を打出し
た。比較用試料として必要な検体は、同様にして
製造したがテストする検体を抜いて製造した。 光安定性を測定すべく、試料をオリジナル・ハ
ナウ・クワルツランペン・ゲー・エム・ベー・ハ
ー社(Firma Original Hanau Quarzlampen
GmbH)の暴露試験装置(RXeoptest 150)で交流
ランプで光照射した。放射強度はIR−アパーチ
ユア6とUV−アパーチユア1(ドイツ工業規格
53387)により調節した。露光時間は、絶対引裂
き伸度が10%に下がつた時間で測定した。引裂き
伸度は、インストロン社(Firma Instron)の引
張試験機で5cm/minの引裂き速度で調べた。 結果は次の表にまとめた:
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−8−オキシル−スピロ−〔4・5〕−デカン。 メタノール20ml中の製造例16で得た生成物3g
にタングステン酸ナトリウム0.1g、エチレンジ
アミン四酢酸0.1g及び30%の過酸化水素6mlを
加えた。20℃で120時間放置した後、減圧で濃縮
し、水10mlでペースト化し、吸引取した。乾燥
後、n−ヘプタン/アセトンで再結晶し、融点
154〜156℃の橙色結晶2.0gを得た。 C14H25N2O3(分子量269)の分析値 計算値:C 62.4% H 9.3% N 10.4% 実測値:C 62.5% H 9.6% N 10.4% 製造例 34 2・2−ジエチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカンのp−第3−ブ
チルベンゾエート。 製造例24で得た化合物2.7gとp−tert.−ブチ
ル安息香酸1.8gを、エタノール50mlと一緒に10
分間還流させながら煮沸した。冷却後、分離した
無色の結晶を吸引取して乾燥させた。m.p.242
〜245℃。 実施例 1 この実施例は、ポリ−α−オレフイン中に添加
した場合の、若干の新規化合物の光安定化作用を
示すためのものである。 約6g/10minのメルトインデツクスi5
(ASTM D 1238−62Tにより測定した)及び
0.96g/cm3の密度をもつポリプロピレン100重量
部を ビス−(4′−ヒドロキシ−3′−tert.−ブチル−フ
エノール)−ブタン酸エステル 0.1重量部 ラウリンチオジプロピオン酸エステル0.15重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2重量部及び テストする本発明の安定剤 0.3重量部 と混和し、対ローラーで200℃で5分間均質化し
た。次いでプラスチツクの融成物を200℃で厚さ
1mmのプレートにプレスした。冷却したプレート
からドイツ工業規格53455による検体を打出し
た。比較用試料として必要な検体は、同様にして
製造したがテストする検体を抜いて製造した。 光安定性を測定すべく、試料をオリジナル・ハ
ナウ・クワルツランペン・ゲー・エム・ベー・ハ
ー社(Firma Original Hanau Quarzlampen
GmbH)の暴露試験装置(RXeoptest 150)で交流
ランプで光照射した。放射強度はIR−アパーチ
ユア6とUV−アパーチユア1(ドイツ工業規格
53387)により調節した。露光時間は、絶対引裂
き伸度が10%に下がつた時間で測定した。引裂き
伸度は、インストロン社(Firma Instron)の引
張試験機で5cm/minの引裂き速度で調べた。 結果は次の表にまとめた:
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中R1およびR2は同一の基又は相違する基を意
味し、水素、炭素原子1〜30個を含むアルキル−
若しくはイソアルキル基又は、場合によりハロゲ
ンで若しくは炭素原子1〜4個を含むアルキル基
で置換されている、炭素原子6〜10個を含むアリ
ール基又は炭素原子7〜10個を含むアルアルキル
基であることができ、或いはR1及びR2は、R1及
びR2が結合している炭素原子と一緒になつて、
炭素原子4〜15個を含むシクロアルキル基(この
基は場合により更にC1−〜C4−アルキル基で置
換されていることができる)又は式 で示される基を構成し、 R3及びR4は同一の又は相違する、直鎖状の又
は枝分れした炭素原子1〜12個を含むアルキル基
を意味し、 R5は水素、酸素、ヒドロキシル基又は、炭素
原子1〜4個を含むアルキル基を意味し、H−X
は燐酸、亜燐酸、脂肪族若しくは芳香族のスルホ
ン酸又はホスホン酸、脂肪族のモノ−、ジ−若し
くはポリカルボン酸又は芳香族のモノ−若しくは
ジカルボン酸を意味し、mは0又は1であるが、
〓N−R5が塩基性でない場合には常に0であ
る〕 で示される化合物より成る、光および熱に対する
有機ポリマー用安定剤。 2 公知の安定化作用物質も含有する特許請求の
範囲第1項記載の安定剤。
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---|---|---|---|
DE2606026.4 | 1976-02-14 | ||
DE2606026A DE2606026C2 (de) | 1976-02-14 | 1976-02-14 | 1-Oxa-3,8-diaza-spiro- [4,5] -decane, ihre Herstellung und ihre Verwendung als Lichtstabilisatoren |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6162536A JPS6162536A (ja) | 1986-03-31 |
JPS6215577B2 true JPS6215577B2 (ja) | 1987-04-08 |
Family
ID=5969948
Family Applications (2)
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---|---|---|---|
JP1353677A Granted JPS52100475A (en) | 1976-02-14 | 1977-02-12 | 11oxaa3*88diazaaspiro*4*5*decane and its preparation and usage as photoostabilizer |
JP60138057A Granted JPS6162536A (ja) | 1976-02-14 | 1985-06-26 | 1−オキサ−3,8−ジアザ−スピロ−〔4,5〕−デカンより成る、光および熱に対する有機ポリマ−用安定剤 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1353677A Granted JPS52100475A (en) | 1976-02-14 | 1977-02-12 | 11oxaa3*88diazaaspiro*4*5*decane and its preparation and usage as photoostabilizer |
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JP (2) | JPS52100475A (ja) |
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CH (1) | CH630384A5 (ja) |
DE (1) | DE2606026C2 (ja) |
DK (1) | DK59577A (ja) |
FR (1) | FR2340948A1 (ja) |
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IT (1) | IT1075567B (ja) |
LU (1) | LU76748A1 (ja) |
MX (1) | MX4401E (ja) |
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DE2834962A1 (de) * | 1978-08-10 | 1980-02-21 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von azaspirodecanen |
EP0017617A3 (de) * | 1979-03-27 | 1980-10-29 | Ciba-Geigy Ag | Polyalkylpiperidin-spirooxazolone, ihre Verwendung als Lichtschutzmittel und mit diesen Verbindungen stabilisierter Kunststoff |
DE2933732A1 (de) * | 1979-08-21 | 1981-03-26 | Hoechst Ag, 65929 Frankfurt | Alkylierte diazaspirodecane, ihre herstellung und verwendung als lichtschutzmittel |
DE2941004A1 (de) * | 1979-10-10 | 1981-04-23 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Ether auf polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecanbasis |
DE3149453C2 (de) * | 1980-12-24 | 1996-11-21 | Sandoz Ag | 1-Oxa-3,8-diaza-4-oxo-spiro-[4,5]-decan-Verbindungen |
DE3104294A1 (de) * | 1981-02-07 | 1982-08-19 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Substituierte diazaspirodecane, ihre herstellung, ihre verwendung als stabilisatoren fuer organische polymere, sowie die so stabilisierten polymeren |
US4419512A (en) * | 1981-10-15 | 1983-12-06 | Ciba-Geigy Corporation | N-Substituted polyalkylpiperidine-4-spirooxazolones |
DE3217734A1 (de) * | 1982-05-12 | 1983-11-17 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Polyalkyldiazaspirodecanylessigsaeurederivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als lichtschutzmittel fuer organische polymere |
DE3233954A1 (de) * | 1982-09-14 | 1984-03-15 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Neue quadratsaeureamidderivate, ihre verwendung als stabilisierungsmittel sowie die mit diesen behandelten kunststoffe |
DE3375230D1 (en) * | 1982-12-03 | 1988-02-11 | Ciba Geigy Ag | Colour-photographic recording material |
DE3377596D1 (en) * | 1982-12-16 | 1988-09-08 | Ciba Geigy Ag | Colour-photographic recording material |
DE3541665A1 (de) * | 1985-11-26 | 1987-05-27 | Hoechst Ag | Substituierte diazaspirodecane, ihre herstellung und ihre verwendung als stabilisatoren fuer polymere |
DE3541664A1 (de) * | 1985-11-26 | 1987-06-11 | Hoechst Ag | Oligomere diazaspirodecane, ihre herstellung und ihre verwendung als lichtschutzmittel fuer polymere |
DE4024415A1 (de) * | 1990-08-01 | 1992-02-06 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von 1-oxa-3,8-diaza-4-oxo-spiro-(4,5)decan- verbindungen |
IT1247977B (it) * | 1991-06-04 | 1995-01-05 | Ciba Geigy Spa | Stabilizzazione di materiali organici polimerici mediante l`impiego dimiscele sinergiche costituite da ammine cicliche stericamente impeditee derivati del 3-pirazolidinone o del 1,2,4,-triazolidin-3,5,-dione |
DE4405388A1 (de) * | 1994-02-19 | 1995-08-24 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von Polyalkyl-1-oxa-diazaspirodecan-Verbindungen |
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TW390897B (en) * | 1995-07-21 | 2000-05-21 | Ciba Sc Holding Ag | Synergistic stabilizer mixture |
KR20010050085A (ko) * | 1999-08-18 | 2001-06-15 | 잔디해머,한스루돌프하우스 | 신규한 입체 장애 아민 |
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ES2301819T3 (es) * | 2002-05-30 | 2008-07-01 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Articulos estabilizados. |
US20030236325A1 (en) * | 2002-05-30 | 2003-12-25 | Michela Bonora | Agricultural articles |
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