JPS6215577B2 - - Google Patents

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JPS6215577B2
JPS6215577B2 JP60138057A JP13805785A JPS6215577B2 JP S6215577 B2 JPS6215577 B2 JP S6215577B2 JP 60138057 A JP60138057 A JP 60138057A JP 13805785 A JP13805785 A JP 13805785A JP S6215577 B2 JPS6215577 B2 JP S6215577B2
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JP
Japan
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acid
carbon atoms
oxa
diaza
decane
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Application number
JP60138057A
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JPS6162536A (ja
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Maieru Noruberuto
Pufuareru Geruharuto
Uiitsueru Harutomuuto
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Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication date
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Publication of JPS6215577B2 publication Critical patent/JPS6215577B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D498/00Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D498/02Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D498/10Spiro-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D498/00Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D498/12Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains three hetero rings
    • C07D498/20Spiro-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/35Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having also oxygen in the ring

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
周知の如く、有機ポリマーの性質は光、特に近
紫外領域の射線の作用により害される。色彩の変
化(ポリマーの黄変)のほかに物理的性質の悪
化、例えば耐引裂性の減少、ぜい弱化傾向等が現
われる。 本発明者は、文献未知の7.7−ジメチル−9・
9−ジアルキル−1−オキサ−3・8−ジアザ−
4−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン及び−そ
れが塩形成能力をもつ場合−その塩が有機材料の
光安定剤として非常に適するということを見いだ
した。 それ故、本発明は上記の1−オキサ−3・8−
ジアザ−スピロ−〔4・5〕−デカンより成る、
光、特に紫外線の分解作用(これはポリマーの変
色及び/又はぜい弱化に終る)に対する有機ポリ
マー用安定剤に関係する。 この新規な化合物は、一般式 〔式中R1及びR2は同一の基又は相違する基を意味
し、水素、炭素原子1〜30個を含むアルキル−若
しくはイソアルキル基又は、場合によりハロゲン
で若しくは炭素原子1〜4個を含むアルキル基で
置換されている、炭素原子6〜10個を含むアリー
ル基又は炭素原子7〜10個を含むアルアルキル基
であることができ、或いはR1及びR2は、R1及び
R2が結合している炭素原子と一緒になつて、炭
素原子4〜15個を含むシクロアルキル基(この基
は場合により更にC1−〜C4−アルキル基で置換
されていることができる)又は式 で示される基を構成し、 R3及びR4は同一の又は相違する、直鎖状の又
は枝分れした炭素原子1〜12個を含むアルキル基
を意味し、 R5は水素、酸素、ヒドロキシル基又は、炭素
原子1〜4個を含むアルキル基を意味し、H−X
は燐酸、亜燐酸、脂肪族若しくは芳香族のスルホ
ン酸又はホスホン酸、脂肪族のモノ−、ジ−若し
くはポリカルボン酸又は芳香族のモノ−若しくは
ジカルボン酸を意味し、mは0又は1であるが、
〓N−R5が塩基性でない場合には常に0であ
る〕 に対応する。 この7・7−ジメチル−9・9−ジアルキル−
1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピ
ロ−〔4・5〕−デカン化合物の代表例を示す: 2−イソ−プロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ブチル−7・7・9・9−テトラメチル−
1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピ
ロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ブチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
ースピロ−〔4・5〕−デカン 2−ペンチル−7・7・9・9−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ペンチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘキシル−7・7・9・9・−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘプチル−7・7・9・9−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ヘプチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−オクチル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ノニル−7・7・9・9−−テトラメチル
−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ノニル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ウンデシル−7・7・9・9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−フエニル−7・7・9・9−−テトラメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−(4−クロル−フエニル)−7・7・9・9
−テトラメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−
4−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジメチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−エチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−プロピル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−プロピル−2・7・7・9・9−−
ペンタメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4
−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ブチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2−イソ−ブチル−2・7・7・9・9−−ペ
ンタメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−
オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ペンチル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ヘキシル−2・7・7・9・9−ペンタメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−ノニル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジエチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジプロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソースピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジブチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−〔4・5〕−デカン 2−エチル−2−ペンチル−7・7・9・9−
テトラメチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4
−オキソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2−ジベンジル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソースピロ−〔4・5〕−デカン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・13−ジアザ−14−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・4・2〕−テトラデカン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・20−ジアザ−21−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・11・2〕−ヘンエイコサン 2・2・4・4−テトラメチル−7−オキサ−
3・14−ジアザ−15−オキソ−ジスピロ−〔5・
1・5・2〕−ペンタデカン 2・2・4・4・10・10・12・12−オクタメチ
ル−7−オキサ−3・11・14−トリアザ−15−オ
キソージスピロ−〔5・1・5・2〕−ペンタデカ
ン 2−エチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−
8−オキシル−スピロ−〔4・5〕−デカン m=0且つR5=Hの上記新規化合物は、一般
(式中R3及びR4は前記の意味をもつ) で示される2・2−ジメチル−6・6−ジアルキ
ル−4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジ
ン、又はこのようなピペリジンの塩、特に塩酸塩
を一般式 (式中R1及びR2は前記の意味をもつ) で示されるアルデヒド又はケトンと反応させるこ
とにより得られる。反応は、有機溶剤、特に氷酢
酸中で、脱水剤、例えば硫酸又はポリ燐酸、特に
硫酸を使用して行なう。その際0〜180℃、殊に
20〜120℃、アルデヒドを用いる場合には特に20
〜30℃の温度に保つ。 氷酢酸を溶剤として用いる場合には次のように
行なう:カルバモイルピペリジンの使用量から計
算して5−〜10−倍量の氷酢酸をヒドロキシカル
バモイルピペリジン1モル及びカルボニル化合物
1〜3モルに加え、濃硫酸2モルを少しずつ加え
る。上記新規化合物の硫酸塩は一般に反応中に沈
殿するが、沈殿しない場合にはまず濃縮しなけれ
ばならない。遊離の塩基は、塩をアンモニア又は
苛性ソーダ溶液で処理することにより、塩から得
られる。有機酸塩又は無機酸塩は、遊離塩基から
−特に溶剤又は水の存在下で−製造することがで
きる。R5がアルキル基の化合物は、R5=Hの化
合物をハロゲン化アルキル、特に臭化アルキル及
び沃化アルキルでアルキル化反応させることによ
り得られる。R5=〓O又は−OHの化合物はR5
Hの化合物から、例えば過酸化水素で処理するこ
とにより、得ることができる。 望ましい4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピ
ペリジンは2・2・6・6−テトラメチル−4−
ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジンであ
る;適当なアルデヒド又はケトンは例えばホルム
アルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレル
アルデヒド、イソバレルアルデヒド、カプロンア
ルデヒド、2−エチルブチルアルデヒド、エナン
トアルデヒド、2−エチルカプロンアルデヒド、
イソノニルアルデヒド、カプリンアルデヒド、イ
ソデシルアルデヒド、ラウリンアルデヒド、ベン
ズアルデヒド、p−クロルベンズアルデヒド、ア
セトン、メチル−エチルケトン、メチル−プロピ
ルケトン、メチル−イソプロピルケトン、ヘキサ
ノン−2、メチル−イソブチルケトン、ヘプタノ
ン−2、オクタノン−2、ウンデカノン−2、ジ
エチルケトン、ヘプタノン−4、ノナノン−5、
オクタノン−3、ジベンジルケトン、シクロペン
タノン、シクロヘキサノン、シクロドデカノン、
ベワゾフエノン及び2・2・6・6−テトラメチ
ルピペリジン−4−オン(=トリアセトンアミ
ン)である。 式 で示される新規化合物において、基R1及びR2
は、該化合物を合成する際に用いるアルデヒド又
はケトンに由来する。R1及びR2は同一であるか
又は異なつていることができる。従つて基R1
びR2は、水素又はC−原子1〜30個を含むアル
キル−若しくはイソアルキル基又は場合によりハ
ロゲン、特に塩素、若しくはC−原子1〜4個を
含むアルキル基で置換したC−原子6〜10個を含
むフリール基若しくはC−原子7〜10個を含むア
ルアルキル基である(この場合脂肪族の鎖はC−
原子1〜4個から成る)。 基R1及びR2がアルデヒドに由来するかケトン
に由来するかに応じて、R1及びR2に好ましい代
表試薬が明らかになる。 アルデヒドを用いる場合には、R1は必然的に
常に水素であるのに対してR2は水素、C−原子
1〜30個、殊に1〜18個、殊に3〜12個を含むア
ルキル基であることができるか或はハロゲン原子
−特に塩素−又はC−原子1〜4個を含むアルキ
ル基で場合により置換したC−原子6〜10個を含
むアリール基(フエニル又はナフチル)又はC−
原子7〜10個を含むアルアルキル基(この場合C
−原子1〜4個が脂肪族の鎖に属する)である。 4−ヒドロキシ−4−カルバモイルピペリジン
とケトンから新規化合物を合成する場合には、
R1はC−原子1〜30個、殊に1〜7個、特に1
〜4個を含むアルキル基であるか又はC−原子7
〜10個を含むアルアルキル基(この場合脂肪族の
鎖はC−原子1〜4個を含む)であるのが望まし
い。この場合、R2はC−原子1〜30個、殊に1
〜17個、特に1〜10個を含むアルキル基であるか
又はハロゲン原子−特に塩素−若しくはC−原子
1〜4個を含むアルキル基で場合により置換した
C−原子6〜10個を含むアリール基であるか又は
C−原子7〜10個を含むアルアルキル基(この場
合脂肪族の鎖はC−原子1〜4個から成る)であ
る。 前記の観点で挙げられるべき基R1の例として
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘ
キシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、イ
ソオクチル、ノニル、イソノニル、デシル、ウン
デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、
ペンタデシル、ヘプタデシル、4−イソプロピル
フエニル、2−エチルブチル、2−エチルヘキシ
ル、4−メチルベンジル、フエニル、2−クロル
フエニル、3−クロルフエニル、4−クロルフエ
ニル、1−ナフチル、2−ナフチル、ペンジル、
2−メチルデシルがあり、基R2の例としてはメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ベンチル、イソペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウ
ンデシル、ペンタデシル、ヘプタデシル、フエニ
ルエチル、ペンジル及びフエニルがある。 R1及びR2は場合により、R1及びR2が結合して
いる炭素原子と一緒になつてC−原子4〜15個、
殊に5〜12個、特に5〜7個を含むシクロアルキ
ル基を形成することができる。このシクロアルキ
ル基はC1−〜C4−アルキル基で置換されている
ことができる。また、R1及びR2は、一緒になつ
て式 で示される環状の基を表わすことができる。上記
の構造の例としては、シクロペンチル、3−メチ
ルシクロペンチル、シクロヘキシル、2−メチル
シクロヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4
−メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シク
ロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シク
ロウレデシル、シクロドデシル、シクロトリデシ
ル、シクロペンタデシル及び2・6・6−テトラ
メチルピペリジルがある。 基R3及びR4は炭素原子1〜12個、特に1〜6
個を含む直鎖状の又は枝分れしたアルキル基であ
る。R3及びR4は同一であるか又は異なつている
ことができる。容易に得られるトリアセトンアミ
ンから誘導される化合物は特に重要である。この
場合、R3及びR4はメチル基である。 基R5は水素であるのが望ましい。基R5は更
に、酸素又はヒドロキシル基又はC−原子1〜4
個を含むアルキル基であることができる。 H−Xは燐酸、亜燐酸、C−原子1〜30個、特
に1〜18個を含む脂肪族のスルホン酸若しくはホ
スホン酸、場合によりアルキル化されているC−
原子6〜25個、特に6〜18個、を含む芳香族のス
ルホン−若しくはホスホン酸(この場合C−原子
1〜16個を含むアルキル基1〜3個が存在するこ
とができる)を表わす。H−Xは更に、C−原子
2〜34個、特に2〜18個を含む脂肪族の直鎖状の
若しくは枝分れしたモノ−又はジカルボン酸、又
は場合により、カルボキシル基を4個までとC−
原子を全部で16個まで含むポリカルボン酸を意味
するか又は芳香族の、場合によりC1−〜C4−ア
ルキル−若しくはイソアルキル置換されている、
C−原子7〜25個、特に7〜19個を含むモノ−若
しくはジカルボン酸であることができる。既に記
載した燐酸と亜燐酸のほかに特に次のものを例示
する:フエニルホスホン酸、カンフアースルホン
酸、ドデシルスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、アルキルポリグリコールエーテルスルホン
酸、アルキルアリールポリグリコールエーテルス
ルホン酸、酢酸、プロピオン酸、n−オクタン
酸、2−エチル−ヘキサン酸、ラウリン酸、ステ
アリン酸、獣脂脂肪酸、モンタン酸、こはく酸、
アジピン酸、アゼライン酸、くえん酸、トリカル
バリル酸、安息香酸、トリル酸、p−tert.−ブ
チル安息香酸、フタル酸及びテレフタル酸。 上記新規化合物が遊離の塩基及び前記の塩又
は、多塩基酸の場合には場合により1−オキサ−
3・8−ジアザ−スピロ−〔4・5〕−デカンの酸
塩であることは、一般式の文字「m」(これは一
般式によれば0又は1である)が示している。基
〓N−R5が塩形成能力をもたない化合物では
「m」は必然的に0である。 新規の1−オキサ−3・8−ジアザ−スピロ−
〔4・5〕−デカンは有機ポリマー物質に、熱と特
に紫外線の作用による分解に対する並外れた安定
性を与える。このものは特にポリオレフイン用の
光安定剤として価値が高い。有機ポリマー物質の
染色性はこの新規化合物により害されない。 光と熱の有害な影響に対して保護されるべき有
機ポリマー物質とは次のものである:ポリオレフ
イン、例えばポリイソプレン、ポリブタジエン、
ポリスチレン及び特に低密度と高密度のポリプロ
ピレンとポリエチレン、更にはエチレン−プロピ
レン−コポリマー、エチレン−ブテン−コポリマ
ー、エチレン−酢酸ビニル−コポリマー、スチレ
ン−ブタジエン−コポリマー、アクリロニトリル
−スチレン−ブタジエン−コポリマー。ポリ塩化
ビニルという概念とポリ塩化ビニリデンという概
念は、塩化ビニルと塩化ビニリデンのホモポリマ
ー、塩化ビニル又は塩化ビニリデンと酢酸ビニル
又は他のオレフイン不飽和モノマーを包含するも
のとする。ポリアセタール、ポリエステル例えば
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド例えば
ナイロン−6、ナイロン−6・6、ナイロン−
6・10、ポリウレタン及びエポキシ樹脂も適す
る。 新規な化合物は更に、動物性及び植物性の油及
び脂肪、例えば亜麻仁油、落花生油、ひまし油、
フアツト、ラード、その他、液体及び固体の炭化
水素例えばベンジン、鉱油、ワツクス、樹脂その
他の安定化に用いることができる。 合成ポリマーに加える新規化合物の量は、安定
化される有機ポリマーの種類、性質及び特定の用
途次第でかなり変動する。一般に合成ポリマーの
量から計算して0.01〜5重量部、殊に0.05〜3重
量部、特に0.1〜1.5重量部使用する。単一化合物
又は数種のものから成る混合物を用いることがで
きる。 新規化合物は普通の方法で有機ポリマーに加え
る。従つて、粉末状の安定剤をポリマーと混合す
ることができるか又は安定剤の溶液、サスペンジ
ヨン又はエマルジヨンを有機ポリマーの溶液、サ
スペンジヨン又はエマルジヨンに加えることがで
きる。 安定剤自体は単独でも、フエノール−、硫化物
−及び燐含有−抗酸化剤を基礎とする普通の光−
及び熱−安定剤と混合しても作用する。 普通の安定剤とは例えば次のものである:2・
6−ジ−tert.−ブチル−p−クレゾール、3・
5−ジ−tert.−ブチル−4−ヒドロキシフエニ
ルプロピオン酸エステル、アルキリデン−ビス−
アルキルフエノール、脂肪アルコールのチオ−ジ
プロピオン酸エステル並びにジオクタデシルスル
フイド及び−ジスルフイド。燐含有化合物として
は例えばトリスノニル−フエニルホスフアイト、
ジステアリルペンタエリトリチルジスルフアイ
ト、ペンタエリトリツトホスフアイトのエステル
等を挙げることができる。紫外線吸収剤の例とし
てはベンゾトリアゾール化合物、例えば2−
(2′−ヒドロキシ−5′−メチル−フエニル)−ベン
ゾトリアゾールを挙げることができ、消光物質の
例としてはピペリジン安定剤と金属キレートを挙
げることができる。 また、上記の塩素含有ホモ−及びコポリマー並
びに塩素化したポリオレフイン、例えば塩素化し
たポリエチレン及びポリプロピレンを安定化する
際に、安定剤として知られている金属化合物、エ
ポキシ安定剤、ホスフアイト及び場合により多価
アルコールを存在させて新規な安定剤を添加すれ
ば、熱−及び光−安定性が改善される。 これと関連するが、安定剤として知られている
金属化合物とは、炭素原子約12〜32個を含む脂肪
族のカルボン酸又はオキシカルボン酸のカルシウ
ム−、バリウム−、ストロンチウム−、亜塩−カ
ドミウム−、マグネシウム、アルミニウム−及び
鉛石けん、上記の金属と芳香族カルボン酸との塩
例えば安息香酸塩又はサリチル酸塩並びに上記の
金属の(アルキルー)フエノレート、更には有機
錫化合物、例えばジアルキル錫チオグリコレート
及びカルボキシレートのことである。 既知のエポキシ安定剤は、例えばエポキシ化し
た高級脂肪酸例えばエポキシ化した大豆油、トー
ル油、亜麻仁油又はエポキシ化したオレイン酸ブ
チル及び長鎖のω−オレフインのエポキシドあ
る。 ホスフアイトとしては、トリスノニルフエニル
ホスフアイト、トリスラウリルホスフアイト或は
ペンタエリトリツトホスフアイトのエステルを挙
げることができる。 多価アルコールは例えばペンタエリトリツト、
トリメチロールプロパン、ソルビツト又はマンニ
ツト、即ち特にC−原子5〜6個とOH−基3〜
6個を含むアルコールであることができる。 ハロゲンを含まないポリ−α−オレフイン、例
えばC2−〜C4−α−オレフイン、特にポリエチ
レン及びポリプロピレンの高−、中−及び低圧ポ
リマー又はこのようなα−オレフインのコポリマ
ーの高−、中−及び低圧ポリマーのための有利な
安定剤の組成は、ポリマー100重量部当り、例え
ば、本発明で用いられる化合物0.01〜5重量部、
フエノール安定剤0.05〜5重量部、場合により硫
黄含有コスタピライザー0.01〜5重量部、及び場
合により塩基性又は中性金属石けん、例えばステ
アリン酸カルシウム又はステアリン酸亜鉛、0.01
〜3重量部、及び場合によりホスフアイト0.1〜
5重量部並びに場合により、アルコキシヒドロキ
シベンゾフエノン、ヒドロキシフエニルベンゾト
リアゾール、サリチル酸フエノールエステル、安
息香酸ヒドロキシフエノールエステル、ベンジリ
デンマロン酸モノニトリルエステル、いわゆる
「消光剤」例えばニツケルキレート又はヘキサメ
チル燐酸トリアミドの群から選ばれる既知のUV
−安定剤0.01〜5重量部から成る。 ハロゲンを含むポリマーを安定化するための安
定剤のコンビネーシヨンは、ポリマー100重量部
当り、例えば、安定剤として知られている金属化
合物0.01〜10重量部、既知のエポキシ安定剤0.1
〜10重量部、ホスフアイト0.05〜10重量部、多価
アルコール0.1〜10重量部、本発明で用いられる
化合物0.1〜5重量部から成る。 以下の例により本発明を更に詳細に説明する。 製造例 1 2−イソ−プロピル−7・7・9・9−テトラ
メチル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オ
キソ−スピロ−〔4・5〕−デカン 2・2・6・6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シ−4−カルバモイルピペリジニウムクロリド
23.6gとイソブチルアルデヒド23gを氷酢酸100
gに加えた。撹拌しながらこれに濃硫酸19.6gを
少しずつ加え、次いで20時間室温で撹拌した。続
いて減圧で蒸発濃縮した。エーテル/アセトン
1:1混合物を少量加え、生じた固体を吸引取
した。これ(希望した化合物の硫酸塩)を少量の
水に溶かした。アンモニアで塩基を析出させた。
吸引取し、アルコールで再結晶した。融点
(m.p.)150〜151℃の無色の結晶がほぼ定量的な
収率で得られた。 C14H26N2O2(分子量254)の分析値 計算値:C 66.1% H 10.3% N 11.0% 実測値:C 65.9% H 10.5% N 10.6% 製造例 2〜14 製造例1に記載したのと同様に、2・2・6・
6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−4−カルバ
モイルピペリジニウムクロリド23.6gずつと若干
のアルデヒドから次の化合物(無色の結晶として
生じた)を合成した。表1と表2に製造のための
データと分析データを示した。
【表】
【表】
【表】
【表】 製造例 15 2・2・7・7・9・9−ヘキサメチル−1−
オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ−スピロ
−〔4・5〕−デカン。 2・2・6・6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シ−4−カルバモイルピペリジニウムクロリド
23.6gとアセトン20gを氷酢酸100gに加えた。
撹拌しながらこれに濃硫酸19.6gを少しずつ加
え、次いで72時間40〜50℃で撹拌した(80℃の反
応温度のときには反応時間を16時間に短縮し
た)。しばらく後に透明な溶液が生じ、次いで更
に反応が進んで沈殿が析出した。この沈殿を吸引
取して少量の水の中に入れ、アンモニア又は50
%苛性ソーダ溶液で処理した。その際、望んだ化
合物は無色の結晶として生じた。この結晶を吸引
取してエタノールで再結晶した。融点236〜237
℃。 C13H24N2O2(分子量240)の分析値 計算値:C 65.0% H 10.0% N 11.7% 実測値:C 65.2% H 10.4% N 11.4% 製造例 16〜32 製造例15に記載したのと同様に、2・2・6・
6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−4−カルバ
モイルピペリジニウムクロリド23.6gずつと若干
のケトンから次の化合物を合成した。この化合物
は全部無色の結晶として生じた。表3と表4に製
造のためのデータと分析データを示した。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 製造例 33 2−エチル−2・7・7・9・9−ペンタメチ
ル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキソ
−8−オキシル−スピロ−〔4・5〕−デカン。 メタノール20ml中の製造例16で得た生成物3g
にタングステン酸ナトリウム0.1g、エチレンジ
アミン四酢酸0.1g及び30%の過酸化水素6mlを
加えた。20℃で120時間放置した後、減圧で濃縮
し、水10mlでペースト化し、吸引取した。乾燥
後、n−ヘプタン/アセトンで再結晶し、融点
154〜156℃の橙色結晶2.0gを得た。 C14H25N2O3(分子量269)の分析値 計算値:C 62.4% H 9.3% N 10.4% 実測値:C 62.5% H 9.6% N 10.4% 製造例 34 2・2−ジエチル−7・7・9・9−テトラメ
チル−1−オキサ−3・8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−〔4・5〕−デカンのp−第3−ブ
チルベンゾエート。 製造例24で得た化合物2.7gとp−tert.−ブチ
ル安息香酸1.8gを、エタノール50mlと一緒に10
分間還流させながら煮沸した。冷却後、分離した
無色の結晶を吸引取して乾燥させた。m.p.242
〜245℃。 実施例 1 この実施例は、ポリ−α−オレフイン中に添加
した場合の、若干の新規化合物の光安定化作用を
示すためのものである。 約6g/10minのメルトインデツクスi5
(ASTM D 1238−62Tにより測定した)及び
0.96g/cm3の密度をもつポリプロピレン100重量
部を ビス−(4′−ヒドロキシ−3′−tert.−ブチル−フ
エノール)−ブタン酸エステル 0.1重量部 ラウリンチオジプロピオン酸エステル0.15重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2重量部及び テストする本発明の安定剤 0.3重量部 と混和し、対ローラーで200℃で5分間均質化し
た。次いでプラスチツクの融成物を200℃で厚さ
1mmのプレートにプレスした。冷却したプレート
からドイツ工業規格53455による検体を打出し
た。比較用試料として必要な検体は、同様にして
製造したがテストする検体を抜いて製造した。 光安定性を測定すべく、試料をオリジナル・ハ
ナウ・クワルツランペン・ゲー・エム・ベー・ハ
ー社(Firma Original Hanau Quarzlampen
GmbH)の暴露試験装置(RXeoptest 150)で交流
ランプで光照射した。放射強度はIR−アパーチ
ユア6とUV−アパーチユア1(ドイツ工業規格
53387)により調節した。露光時間は、絶対引裂
き伸度が10%に下がつた時間で測定した。引裂き
伸度は、インストロン社(Firma Instron)の引
張試験機で5cm/minの引裂き速度で調べた。 結果は次の表にまとめた:
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中R1およびR2は同一の基又は相違する基を意
    味し、水素、炭素原子1〜30個を含むアルキル−
    若しくはイソアルキル基又は、場合によりハロゲ
    ンで若しくは炭素原子1〜4個を含むアルキル基
    で置換されている、炭素原子6〜10個を含むアリ
    ール基又は炭素原子7〜10個を含むアルアルキル
    基であることができ、或いはR1及びR2は、R1
    びR2が結合している炭素原子と一緒になつて、
    炭素原子4〜15個を含むシクロアルキル基(この
    基は場合により更にC1−〜C4−アルキル基で置
    換されていることができる)又は式 で示される基を構成し、 R3及びR4は同一の又は相違する、直鎖状の又
    は枝分れした炭素原子1〜12個を含むアルキル基
    を意味し、 R5は水素、酸素、ヒドロキシル基又は、炭素
    原子1〜4個を含むアルキル基を意味し、H−X
    は燐酸、亜燐酸、脂肪族若しくは芳香族のスルホ
    ン酸又はホスホン酸、脂肪族のモノ−、ジ−若し
    くはポリカルボン酸又は芳香族のモノ−若しくは
    ジカルボン酸を意味し、mは0又は1であるが、
    〓N−R5が塩基性でない場合には常に0であ
    る〕 で示される化合物より成る、光および熱に対する
    有機ポリマー用安定剤。 2 公知の安定化作用物質も含有する特許請求の
    範囲第1項記載の安定剤。
JP60138057A 1976-02-14 1985-06-26 1−オキサ−3,8−ジアザ−スピロ−〔4,5〕−デカンより成る、光および熱に対する有機ポリマ−用安定剤 Granted JPS6162536A (ja)

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