JPS62152791A - 電子部品へのレ−ザ−捺印方法 - Google Patents

電子部品へのレ−ザ−捺印方法

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Publication number
JPS62152791A
JPS62152791A JP60292926A JP29292685A JPS62152791A JP S62152791 A JPS62152791 A JP S62152791A JP 60292926 A JP60292926 A JP 60292926A JP 29292685 A JP29292685 A JP 29292685A JP S62152791 A JPS62152791 A JP S62152791A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
laser light
insulating material
irradiated
transparent resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60292926A
Other languages
English (en)
Inventor
Masatoshi Hirai
平井　正俊
Setsuo Sanuki
佐貫　晢雄
Hiroyuki Suzuki
博之 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Sumitomo Durez Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Sumitomo Durez Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd, Sumitomo Durez Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP60292926A priority Critical patent/JPS62152791A/ja
Publication of JPS62152791A publication Critical patent/JPS62152791A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は絶縁材料で外装された電子部品に対するレーザ
ー捺印方法（−関する。
〔従来技術〕
コンデンサ、抵抗、ＩＣなどの電子部品は絶縁材料で外
装後、品番、社名などを捺印して使用者（＝開示する必
要がある。
このため、従来より各種インキ、塗料をスタンプ方式な
どで部品（＝印刷しているが、近年電子部品の「軽薄短
小」化（＝より印刷部が小さく凹凸の多いｐ形影状の部
品が多くなり、従来のインキをゴム印等で転写すること
（二よっては鮮明な印刷が難しくなってきた。
最近、このような印刷方式に代って、迅速で精度良く捺
印する方法として、マスクを通してレーザー照射するレ
ーザーマーキング法の適用が活発（ニなっている。しか
し、このレーザーマーキング法では絶縁材料をレーザー
照射部分のみ侵食することにより捺印されるが、絶縁材
料の種類によっては、不鮮明で実使用Ｃ二耐えないか、
添加剤を配合して捺印の鮮明度を大きくしてもインキ印
刷方式に比較して鮮明度が劣るものが多い。更（＝、侵
食した溝に手あかなどが付着すると急激に＆ｆ明度が低
下するという欠点があった。また、レーザー出力を上げ
て鮮明化する方法もあるが、この方法Ｌｔ絶縁材料を通
って下地の素体を損傷する恐れがあり、実用的ではない
。
〔発明の目的〕
本発明は従来のレーザーマーキング法では鮮明に捺印で
きなかった電子部品の外装材Ｃ：ついて、鮮明な印字を
碍んとして種々検討した結果、外装された絶縁材料上（
＝透明樹脂を塗布したのち、レーザー照射すること（二
より、この透明樹脂が熱分解し発泡すること（二より白
化し、鮮明な捺印が得られるとの知見を得、この知見（
＝基づき種々研究を進め１本発明を完成するＣ二至った
ものである。
〔発明の構成〕
本発明は、絶縁材料で外装された電子部品に透明樹脂を
上塗りしたのち、レーザー照射することを特徴とする電
子部品へのレーザー印字方法である。
本発明に用いられる透明樹脂は、レーザー照射（二より
適度Ｃ二熱分解して発泡するものである。このような樹
脂としては、ンリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキン
樹脂、アクリル樹脂、ワックス類など広範囲のものが含
まれる。
塗布された樹脂は通常のレーザー照射（二より５１５μ
程度は侵食されるので、透明樹脂の塗装厚みは１０〜１
００μ程度が好ましい。轡μ以下の場合Ｉ：はレーザー
照射で塗膜が焼きつくされ、発泡白化しないことが多く
、１００μ以上の場合には塗膜自体の透明性を損いやす
く、経済上１品質上も好適ではない。
この透明樹脂の塗装方法は浸漬、スプレー塗装、刷子塗
りなど通常の方法が適用され、特（＝限定されない。
また、電気部品Ｃ：外装される絶縁材料はエポキン樹脂
、シリコン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂など各
種材料が適用され、特Ｃ：限定されるものではない。
ただし、透明樹脂が白色（二発色するので、その内部（
＝ある絶縁材料の色調は黒色系、褐色系など濃色のもの
の方が捺印された文字、記号とのコントラストの上から
鮮明な捺印が得られるので好ましい。
〔発明の効果〕
本発明の方法に従うと、絶縁材料の種類を問わず鮮明な
捺印を施すことができる。
従って、絶縁材料の種類（＝より制限を受けていたレー
ザーマーキング法を広範囲（＝実用可能とするものであ
る。
〔実　施　例〕
次に本発明を実施例（二より詳細Ｃ二説明する。
基板サイズ縦１５ｍ１１横３Ｑ＋ｎ厚さ０，７ｊＩｍの
アルミナ基板（＝黒色エボキン樹脂粉体塗料を０．７朋
厚塗装した。
このアルミナ基板（＝下記の透明樹脂を浸漬法（−より
、約２０μ上塗りした。
実施例１　　常温硬化型シリコン樹脂 （信越化学展　ＫＲ−２５１） 実施例２　２液型ウレタン樹脂 （住人ベークライト製　スミマック ＧＣ几−５２００（主剤：硬化剤＝１０　：　１混合品
）） 実施例３　２液型エポキシ樹脂 （住人ベークライト製　スミマック ＥＣＲノー７１２３　二　ＥＣＨ７１２３＝２　　：　
　１　　混合品） 実施例４　　ポリエチレン系ワックス 比較例として、透明樹脂（＝よる上塗りをしないものを
準備した。
これらの試料Ｃ：炭酸ガスレーザー（渋谷工業製９２０
型レーザーマーク、エネルギー密度最大０．４Ｊｏｕｌ
／ｃＩｌ）を用いて１００万分の１秒間所定のマスクを
通してレーザーを照射し、塗膜表面じマーキングを施し
た。
その結果を下表（＝示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 絶縁材料で外装された電子部品に透明樹脂を上塗りした
    のち、レーザー照射することを特徴とする電子部品への
    レーザー捺印方法。
JP60292926A 1985-12-27 1985-12-27 電子部品へのレ−ザ−捺印方法 Pending JPS62152791A (ja)

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