JPS62151289A - 光ビ−ム加工装置 - Google Patents
光ビ−ム加工装置Info
- Publication number
- JPS62151289A JPS62151289A JP60296557A JP29655785A JPS62151289A JP S62151289 A JPS62151289 A JP S62151289A JP 60296557 A JP60296557 A JP 60296557A JP 29655785 A JP29655785 A JP 29655785A JP S62151289 A JPS62151289 A JP S62151289A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- cylinder
- cylindrical body
- inner face
- lens
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は光ビーム加工装置に関するものである。
（従来の技術と問題点）
光ビーム、例えばレーザビーム光学系中に、内周面を林
状に鏡面仕上げした内部反射鏡を介設し、これによりレ
ーザビームを均等なエネルギ密度で集光させるようにし
た装置が特公昭５７−４７２４９号によって明らかにさ
れている。しかしながらこのような装置によると、」二
記内部反射鏡に鏡面を形成する際に高度の精度を要し、
レーザビームの軸心と内部反射鏡の鏡面軸心が正確に一
致しにくいことから実際には均一強度分布のレーザビー
ムが容易に得にくいという欠点があった。
状に鏡面仕上げした内部反射鏡を介設し、これによりレ
ーザビームを均等なエネルギ密度で集光させるようにし
た装置が特公昭５７−４７２４９号によって明らかにさ
れている。しかしながらこのような装置によると、」二
記内部反射鏡に鏡面を形成する際に高度の精度を要し、
レーザビームの軸心と内部反射鏡の鏡面軸心が正確に一
致しにくいことから実際には均一強度分布のレーザビー
ムが容易に得にくいという欠点があった。
一方、基盤目状に分割した複数のミラーにビームを反射
させ、各ビームを同一箇所に集光させることにより照射
ビームの均一化を図ろうとする、いわゆるセグメントミ
ラ一方式も公知であるが、これには次のような欠点があ
る。それはミラーの加工や取付に高い精度が要求される
ためにミラーの製作費が高く、またビーム形状が一定で
あるために、対象物毎に別のミラーが必要となるという
ことである。
させ、各ビームを同一箇所に集光させることにより照射
ビームの均一化を図ろうとする、いわゆるセグメントミ
ラ一方式も公知であるが、これには次のような欠点があ
る。それはミラーの加工や取付に高い精度が要求される
ためにミラーの製作費が高く、またビーム形状が一定で
あるために、対象物毎に別のミラーが必要となるという
ことである。
この発明は上記した従来の欠点を解決するためになされ
たものであって、その目的は、反射鏡に鏡面を形成する
際に高度の精度を要せず、かつ容易に巨視的に均一強度
分布の光ビームを得ることのできる光ビーム加工装置を
提供することにある。
たものであって、その目的は、反射鏡に鏡面を形成する
際に高度の精度を要せず、かつ容易に巨視的に均一強度
分布の光ビームを得ることのできる光ビーム加工装置を
提供することにある。
（問題点を解決するための手段）
そこでこの発明の光ビーム加工装置においては、光ビー
ム光学系中に、この光学系を通る光ビームを多重反射さ
せて巨視的に均一強度分布の所定ビ−人形状に変化させ
る内面反射筒体を介設しである。
ム光学系中に、この光学系を通る光ビームを多重反射さ
せて巨視的に均一強度分布の所定ビ−人形状に変化させ
る内面反射筒体を介設しである。
（作用）
このように光ビーム光学系中に内面反射筒体を介設し、
光学系を通る光ビームを多重反射させる構造であると、
上記内面反射筒体の鏡面を形成するのに高度な精度を要
せず、光学系に一導入されるビームが不均一な場合であ
っても、巨視的に均一強度分布の光ビームが容易に得ら
れることとなる。
光学系を通る光ビームを多重反射させる構造であると、
上記内面反射筒体の鏡面を形成するのに高度な精度を要
せず、光学系に一導入されるビームが不均一な場合であ
っても、巨視的に均一強度分布の光ビームが容易に得ら
れることとなる。
（実施例）
次にこの発明のレーザ加工装置の具体的な実施例につい
て、図面を参照しつつ詳細に説明する。
て、図面を参照しつつ詳細に説明する。
第１図に第１実施例を示す。図に示す光ビーム、例えば
レーザビーム光学系は、与えられた任意形状の不均一分
布ビームを単一または複数領域にわたる均一分布ビーム
に変換するものであって、図においζ１は集光レンズ、
２ば結像レンズ、３は両レンズ１．２の間に介設された
内面反射筒体である。なおこの内面反射筒体３は水冷式
とするのが好ましい。上記集光レンズｌは上記内面反射
筒体３の入口にレーザビームを導入する働きをなすもの
であり、上記結像レンズ２は内面反射筒体３の出口から
射出されたレーザビームを所定の大きさに拡大または縮
小する働きをなすものである。
レーザビーム光学系は、与えられた任意形状の不均一分
布ビームを単一または複数領域にわたる均一分布ビーム
に変換するものであって、図においζ１は集光レンズ、
２ば結像レンズ、３は両レンズ１．２の間に介設された
内面反射筒体である。なおこの内面反射筒体３は水冷式
とするのが好ましい。上記集光レンズｌは上記内面反射
筒体３の入口にレーザビームを導入する働きをなすもの
であり、上記結像レンズ２は内面反射筒体３の出口から
射出されたレーザビームを所定の大きさに拡大または縮
小する働きをなすものである。
したがってこれらのレンズ１．２に代えてミラー（反射
鏡）を用いても本光学系は成立するし、また内面反射筒
体３の入口の寸法がレーザビームよりも大きい場合には
、集光レンズ１を省略することもある。上記内面反射筒
体３は第２図、第３図に示すように、ビーム領域が四方
形断面となるものが用いられており、左右一対の側板４
．５と、両側板４．５間に位置変更自在に配３）された
上板６および下板７とから構成されている。各板４．５
．６．７の内面は導入されたレーザビームを多重反射さ
せるべく鏡面仕上げされており、必要に応じて上板６と
下板７に角度（θ）が付けられ、人口の大きさくｄ＋Ｘ
ｄｚ）より出口の大きさくｄ）×ｄｉ）が小さくなるよ
うに、あるいはその逆に設定される。第４図、第５図は
側板が平行である場合の内面反射筒体３のビーム領域の
形状の一例を示しており、上板６と下板７を平行に配置
した場合は第４図に示すように入口と出口の形状・大き
さｄｌＸｄ２が同一となり、上板６と下板７に角度θを
付けて配置した場合、すなわち内面反射筒体３をくさび
状とした場合は第５図に示すように、入口が例えば所定
の大きさｄｌＸ ｄ２の正方形断面となり、出口が所定
の大きさの矩形断面となる。つまり不均一入射ビームが
集光レンズ１を介してこの内面反射筒体３の入口に導入
されると、該ビームは内面反射筒体３のビーム領域内で
多重反射し、巨視的に均一強度分布の所定ビーム形状に
変化せしめられて出口から出て行くこととなる。そして
結像レンズ２を介して試料面上に均一矩形ビーム像を描
くことになる。上述のように巨視的にというのは、この
種の光学系により得られるレーザビームは干渉縞を含ん
でいるために局所的には均一分布でばないからである。
鏡）を用いても本光学系は成立するし、また内面反射筒
体３の入口の寸法がレーザビームよりも大きい場合には
、集光レンズ１を省略することもある。上記内面反射筒
体３は第２図、第３図に示すように、ビーム領域が四方
形断面となるものが用いられており、左右一対の側板４
．５と、両側板４．５間に位置変更自在に配３）された
上板６および下板７とから構成されている。各板４．５
．６．７の内面は導入されたレーザビームを多重反射さ
せるべく鏡面仕上げされており、必要に応じて上板６と
下板７に角度（θ）が付けられ、人口の大きさくｄ＋Ｘ
ｄｚ）より出口の大きさくｄ）×ｄｉ）が小さくなるよ
うに、あるいはその逆に設定される。第４図、第５図は
側板が平行である場合の内面反射筒体３のビーム領域の
形状の一例を示しており、上板６と下板７を平行に配置
した場合は第４図に示すように入口と出口の形状・大き
さｄｌＸｄ２が同一となり、上板６と下板７に角度θを
付けて配置した場合、すなわち内面反射筒体３をくさび
状とした場合は第５図に示すように、入口が例えば所定
の大きさｄｌＸ ｄ２の正方形断面となり、出口が所定
の大きさの矩形断面となる。つまり不均一入射ビームが
集光レンズ１を介してこの内面反射筒体３の入口に導入
されると、該ビームは内面反射筒体３のビーム領域内で
多重反射し、巨視的に均一強度分布の所定ビーム形状に
変化せしめられて出口から出て行くこととなる。そして
結像レンズ２を介して試料面上に均一矩形ビーム像を描
くことになる。上述のように巨視的にというのは、この
種の光学系により得られるレーザビームは干渉縞を含ん
でいるために局所的には均一分布でばないからである。
そして上板６と下Ｆｊ、７の位置を変化させることによ
り、レーザビームの形状を連続的に変化させることが可
能となり、また内面反射筒体３の出口と結像レンズ２間
の距Ｆｊｌａ及び結像レンズ２と試料面間の距離すを変
化させることによりレーザビームのサイズを連続的に変
化させることが可能となる。
り、レーザビームの形状を連続的に変化させることが可
能となり、また内面反射筒体３の出口と結像レンズ２間
の距Ｆｊｌａ及び結像レンズ２と試料面間の距離すを変
化させることによりレーザビームのサイズを連続的に変
化させることが可能となる。
次に上記内面反射筒体３の上板６と下板７を平行に配置
し、導入されたレーザビームを矩形断面のビームに変化
させる場合について説明する。一般に内面反射筒体３の
出口における巨視的分布は、該内面反射筒体３内でのレ
ーザビームの反射回数が多いほど均一になる。上板６と
下板７が平行（θ＝Ｏ）で正方形断面である場合はその
長さＬを次式の範囲に取ることにより内部の反射によっ
て巨視的な分布を均一にすることができる。
し、導入されたレーザビームを矩形断面のビームに変化
させる場合について説明する。一般に内面反射筒体３の
出口における巨視的分布は、該内面反射筒体３内でのレ
ーザビームの反射回数が多いほど均一になる。上板６と
下板７が平行（θ＝Ｏ）で正方形断面である場合はその
長さＬを次式の範囲に取ることにより内部の反射によっ
て巨視的な分布を均一にすることができる。
Ｌ＝（３〜５）・ｄ、ｆ／Ｄ・・・ （１）ただし、ｄ
＝内面反射筒体３の辺長、ｒ＝集光レンズの焦点距離、
Ｄ＝入射ビームの直径である。
＝内面反射筒体３の辺長、ｒ＝集光レンズの焦点距離、
Ｄ＝入射ビームの直径である。
一方多くの干渉縞が形成される内面反射筒体３の断面が
正方形の場合、その際加工に寄与する主干渉縞数Ｎは、
次式で与えられる。
正方形の場合、その際加工に寄与する主干渉縞数Ｎは、
次式で与えられる。
Ｎ ＝ ｄ２／λ・Ｌ・・・ （２）
したがって正方形のビームを形成するとき、次式Ｎ＝ｄ
−Ｄ／ （３〜５）−λ（・ ・ ・ （３）によっ
て所定の干渉縞数が与えられ、巨視的均一な強度を有す
る正方形ビームを得る場合、干渉縞数は管長りに比例す
ることになる。
−Ｄ／ （３〜５）−λ（・ ・ ・ （３）によっ
て所定の干渉縞数が与えられ、巨視的均一な強度を有す
る正方形ビームを得る場合、干渉縞数は管長りに比例す
ることになる。
一方矩形ビームに変化させる場合、限られた長さしの範
囲内では、巨視的均一性と長短両辺にわたる十分な干渉
縞数の確保は必ずしも両立させることはできない。すな
わち短辺側となる側板４．５からよりも長辺側である上
下の板６．７での反射回数が少ないため、巨視的均一性
の確保される筒体長さしは長辺によって決まり、次式で
与えられる。
囲内では、巨視的均一性と長短両辺にわたる十分な干渉
縞数の確保は必ずしも両立させることはできない。すな
わち短辺側となる側板４．５からよりも長辺側である上
下の板６．７での反射回数が少ないため、巨視的均一性
の確保される筒体長さしは長辺によって決まり、次式で
与えられる。
Ｌ＝ （３〜５） ・ｄｌ・ｆ／Ｄ・ ・ ・ （４）
そして干渉縞数は長辺側では次式で与えられる。
そして干渉縞数は長辺側では次式で与えられる。
Ｎ＋＝ ｄ＋・０／（３〜５）・λ・ｆ・・・ （５）
また一方、短辺側では Ｎｚ−ｄｒＤ ／ （３〜５）・λ・「・ （ｄ２／
＋：ｂ）２・・・ （６）となる。ただしｄｌ−長辺の
長さ、ｄｌ−短辺の長さ、Ｎ＋＝長辺にそって測った場
合の縞数、Ｎ２＝短辺にそって測った場合の縞数である
。それ故、４１１４ｉ比（ｄｌ／ｄ２）の大きい矩形ビ
ームの場合では、長辺側の干渉縞数Ｎ１が適正でも短辺
側の干渉縞数Ｎ２は縦横比の２乗に逆比例して少なくな
る。そのため、縦横比を大きくして、かつ短辺側の縞数
を十分多（確保する必要がある場合には、ａｌを大きく
取る必要があり、そうすると（４）式に従って、内面反
射筒体３の長さしを長＜シなければならず、筒体３は巨
大なものとなる。
また一方、短辺側では Ｎｚ−ｄｒＤ ／ （３〜５）・λ・「・ （ｄ２／
＋：ｂ）２・・・ （６）となる。ただしｄｌ−長辺の
長さ、ｄｌ−短辺の長さ、Ｎ＋＝長辺にそって測った場
合の縞数、Ｎ２＝短辺にそって測った場合の縞数である
。それ故、４１１４ｉ比（ｄｌ／ｄ２）の大きい矩形ビ
ームの場合では、長辺側の干渉縞数Ｎ１が適正でも短辺
側の干渉縞数Ｎ２は縦横比の２乗に逆比例して少なくな
る。そのため、縦横比を大きくして、かつ短辺側の縞数
を十分多（確保する必要がある場合には、ａｌを大きく
取る必要があり、そうすると（４）式に従って、内面反
射筒体３の長さしを長＜シなければならず、筒体３は巨
大なものとなる。
そこで第１図〜第３図に示したように、内面反射筒体３
の上下の坂６．７に角度Ｏを付け、出口断面は目的の大
きさく ｄ’＋ Ｘ ｄｚ）のビーム形状とし、入口断
面は干渉縞数を十分確保できる大きさくｄ＋×ｄ２）と
することにより、ビーム反射回数を大幅に増加させるこ
とができる。したがって目視的に均一強度分布を有する
ビーム形状（縦横比）を任意に変化させることができる
と共に、干渉縞数を独立に変化させることができること
になる。すなわち試料面上でのビームの縦横比が大きい
場合でも側板４．５及び上下の板６．７における反射回
数を同一にすることができることになる。またこの角度
付の内面反射筒体３を用いることにより、正方形ビーム
でも限られた筒体長さしで上記式（１）よりも反射回数
を増大させることが可能となる。
の上下の坂６．７に角度Ｏを付け、出口断面は目的の大
きさく ｄ’＋ Ｘ ｄｚ）のビーム形状とし、入口断
面は干渉縞数を十分確保できる大きさくｄ＋×ｄ２）と
することにより、ビーム反射回数を大幅に増加させるこ
とができる。したがって目視的に均一強度分布を有する
ビーム形状（縦横比）を任意に変化させることができる
と共に、干渉縞数を独立に変化させることができること
になる。すなわち試料面上でのビームの縦横比が大きい
場合でも側板４．５及び上下の板６．７における反射回
数を同一にすることができることになる。またこの角度
付の内面反射筒体３を用いることにより、正方形ビーム
でも限られた筒体長さしで上記式（１）よりも反射回数
を増大させることが可能となる。
ところで上記角度付きの内面反射筒体３によると、上板
６と下板７とが平行な場合より反射回数が増大するが、
鏡面でのビーム吸収損失が大きくなることがあるので、
このような場合は上記築光レンズ１に代えてシリンダー
レンズ（またはシリンダー鏡）と凸レンズを使用しても
よいし、球面鏡の非点収差を利用するようにしてもよい
。これにより、反射回数の増減が可能となる。また第１
図では入口に鮫べて出口の小さい内面反射筒体３を示し
ているが、逆に末広がりとなるように上板６と下板７に
角度を付けることにより、必要に応じて、反射回数を減
少させたり、一方の辺に沿う干渉縞数を減少さぜること
か可能となる。
６と下板７とが平行な場合より反射回数が増大するが、
鏡面でのビーム吸収損失が大きくなることがあるので、
このような場合は上記築光レンズ１に代えてシリンダー
レンズ（またはシリンダー鏡）と凸レンズを使用しても
よいし、球面鏡の非点収差を利用するようにしてもよい
。これにより、反射回数の増減が可能となる。また第１
図では入口に鮫べて出口の小さい内面反射筒体３を示し
ているが、逆に末広がりとなるように上板６と下板７に
角度を付けることにより、必要に応じて、反射回数を減
少させたり、一方の辺に沿う干渉縞数を減少さぜること
か可能となる。
第６図に第２実施例を示す。この実施例における内面反
射筒体３ば第７図、第８図からも明らかなように、左右
一対の側板４．５間に上下四枚の板８．９．１０．１１
が位置変更自在に配設されて成る。すなわち上記実施例
のものは屯−のビーム領域を有していたが、これを複数
に構成したものである。したがって中間段の板９．１０
は上下面共に鏡面仕上げされている。このような構成の
内面反射筒体３を用いることにより、レーザビームを複
数領域にわたって均一でかつ各りの領域間で強度の異な
るビームを得ることが可能となる。
射筒体３ば第７図、第８図からも明らかなように、左右
一対の側板４．５間に上下四枚の板８．９．１０．１１
が位置変更自在に配設されて成る。すなわち上記実施例
のものは屯−のビーム領域を有していたが、これを複数
に構成したものである。したがって中間段の板９．１０
は上下面共に鏡面仕上げされている。このような構成の
内面反射筒体３を用いることにより、レーザビームを複
数領域にわたって均一でかつ各りの領域間で強度の異な
るビームを得ることが可能となる。
したがって例えば歯車等の曲面を良好に硬化させること
が可能である。
が可能である。
また第９図に第３実施例を示すが、図のように内面反射
筒体３の出口において各ビーム領域を必ずしも互いに隣
接させる必要はなく、目的に応して上下５枚の板８．９
．１０．１１．１２の距離を隔て、かつ互いに異なった
形状としてもよい。
筒体３の出口において各ビーム領域を必ずしも互いに隣
接させる必要はなく、目的に応して上下５枚の板８．９
．１０．１１．１２の距離を隔て、かつ互いに異なった
形状としてもよい。
上記第２実施例のものは、内面反射筒体３人口でのビー
ムの占める面積割合（各ビーム領域に配分されるドーム
パワーの割合）を調整するのに）ふし、この第３実施例
のものは複数の反射鏡１３を用いる場合に適している。
ムの占める面積割合（各ビーム領域に配分されるドーム
パワーの割合）を調整するのに）ふし、この第３実施例
のものは複数の反射鏡１３を用いる場合に適している。
ンτお上記各実施例においては内面反射筒体３の各板体
６〜１１を上下方向（−次元方向）にのみ移動させるも
のを例に挙げたが左右方向（二次元方向）に移動させて
もよいことは明らかである。また内面反射筒体３はその
ビーム領域の断面が四方形のものに限られず、例えば丸
形のものであってもよいし、また若干の均一性を無視す
れば、多角形、楕円形及びこれらを合成した形とするこ
とも可能である。
６〜１１を上下方向（−次元方向）にのみ移動させるも
のを例に挙げたが左右方向（二次元方向）に移動させて
もよいことは明らかである。また内面反射筒体３はその
ビーム領域の断面が四方形のものに限られず、例えば丸
形のものであってもよいし、また若干の均一性を無視す
れば、多角形、楕円形及びこれらを合成した形とするこ
とも可能である。
（発明の効果）
この発明の光ビーム加工装置によれば、光学系を通る光
ビームを多重反射させて所定ビーム形状に変化させる構
成であるので、上記多重反射させるのに用いる内面反射
筒体の鏡面を形成するのに高度の精度を要せず、かつ巨
視的に均一強度分布の光ビームを容易に得ることができ
る。
ビームを多重反射させて所定ビーム形状に変化させる構
成であるので、上記多重反射させるのに用いる内面反射
筒体の鏡面を形成するのに高度の精度を要せず、かつ巨
視的に均一強度分布の光ビームを容易に得ることができ
る。
第１図はこの発明の第１実施例におけるレーザ加工装置
の光学系要部側面図、第２図は第１図のＩＩ −ＩＩ矢
視図、第３図は第１図のＩ［＋−１１１矢視図、第４図
、第５図はそれぞれ上記第１実施例における内面反射筒
体のビーム領域を模式的にあられず斜視図、第６図はこ
の発明の第２実施例にるけるレーザ加工装置の光学系要
部側面図、第７図は第６図の■−■矢視図、第８図は第
６図の゛、１−■矢視図、第９図はこの発明の第３実施
例にお４Ｊるレーザ加工装置の光学系要部側面図である
。 １・・・集光レンズ、２・・・結像レンズ、３・・・内
面反射筒体。 特許出願人 株式会社小松製作所第す図 手続補正書帽発） 昭和６２年３月２５日
の光学系要部側面図、第２図は第１図のＩＩ −ＩＩ矢
視図、第３図は第１図のＩ［＋−１１１矢視図、第４図
、第５図はそれぞれ上記第１実施例における内面反射筒
体のビーム領域を模式的にあられず斜視図、第６図はこ
の発明の第２実施例にるけるレーザ加工装置の光学系要
部側面図、第７図は第６図の■−■矢視図、第８図は第
６図の゛、１−■矢視図、第９図はこの発明の第３実施
例にお４Ｊるレーザ加工装置の光学系要部側面図である
。 １・・・集光レンズ、２・・・結像レンズ、３・・・内
面反射筒体。 特許出願人 株式会社小松製作所第す図 手続補正書帽発） 昭和６２年３月２５日
Claims (1)
- １、光ビーム光学系中に、この光学系を通る光ビームを
多重反射させて巨視的に均一強度分布の所定ビーム形状
に変化させる内面反射筒体を介設したことを特徴とする
光ビーム加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60296557A JPH0698508B2 (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 光ビ−ム加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60296557A JPH0698508B2 (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 光ビ−ム加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62151289A true JPS62151289A (ja) | 1987-07-06 |
| JPH0698508B2 JPH0698508B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=17835079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60296557A Expired - Lifetime JPH0698508B2 (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 光ビ−ム加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0698508B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02175090A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-06 | Isamu Miyamoto | レーザビーム成形装置 |
| JPH08229693A (ja) * | 1995-02-28 | 1996-09-10 | Toshiba Corp | レーザ光照射装置 |
| US7285744B2 (en) * | 2003-08-21 | 2007-10-23 | Leister Process Technologies | Method and apparatus for simultaneously heating materials |
| JP2019509177A (ja) * | 2016-02-24 | 2019-04-04 | イェーノプティク アウトマティジールングステヒニーク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 環形状の溶接シームのレーザー透過溶接のための装置 |
-
1985
- 1985-12-25 JP JP60296557A patent/JPH0698508B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02175090A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-06 | Isamu Miyamoto | レーザビーム成形装置 |
| JPH08229693A (ja) * | 1995-02-28 | 1996-09-10 | Toshiba Corp | レーザ光照射装置 |
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| JPH0698508B2 (ja) | 1994-12-07 |
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