JPS62143801A - 水素吸蔵用合金による水素ガスの精製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、水素ガスの精製方法に関し、精製繰作が簡便
で、高温ガスの大量精製処理に適するうえ、水素の高純
度精製にも応じられるものを提供する。

〈従来技術及びその問題点〉 現在性なわれている水素ガスの精製方法としては、次の
ものが挙げられるが、その各々については種々の問題点
がある。即ち、 （１）透過膜による水素精製に関して （イ）ポリイミド、ポリスルホン等の非多孔質高分子膜
を用いる方法が実用化されており、被毒性や価格の観点
から大容量原料ガスの水素精製に適しているが、透過膜
全体が高分子物質であるため、製鉄所の高炉ガスのよう
な２００〜３００℃に達する高温ガスの場合には、原料
ガスを冷却してから流す必要があり、冷却装置が大きく
なるうえ、熱交換のためのランニングコストらかかり、
また、精製純度も余り高くない。

（ロ）　　Ｐｄ合金の透過膜を用いる方法では、透過膜
及び装置の価格が高くなり過ぎるうえ、膜厚が薄いため
に強度的な問題らあるが、なによりも原料ガスに含まれ
るイオウ酸化物、窒素酸化物、−酸化炭素等の不純ガス
に対する被毒性の点で問題が大きい。

（２）水素吸蔵用合金の粉体による水素精製に関して 金属水素化物を材質とする水素吸蔵用合金の粉体を利用
した水素精製方法若しくはその装置については、近年、
かなりの文献が公開されているが、そのほとんどは水素
吸蔵用合金を充填した精製容器を設置し、不純がスを含
む原料水素ガスを容器に通して、冷却繰作により水素ガ
スを上記合金に吸蔵せしめ、容器の気相内に残留する不
純がス分をパーツしたのち、合金を加熱操作して水素ガ
スを放出し、精製水素ガスを得るものであり、実際には
斯かる操作を複数の容器間で切換運転して行なう。

しかしながら、この方法は、 （イ）水素吸蔵用合金の粉体が水素ガスの吸蔵・放出に
伴い体積の膨張、収縮を起こすため、吸蔵、放出の繰り
返しにより次第に破砕されて微粉化してしまい、耐久性
に問題があるとともに、Ｍ製ガス中に合金微粉末が混入
してしまう虞れが大きい。

（ロ）複数の容器を切換運転するために、装置全体が複
雑化し、精製操作も煩雑になるうえ、装置の価格が高く
なる。

（ハ）加熱、冷却を交互に行なう必要があるため、ラン
ニングコストが大きくなる。

（３）合金蒸着膜による水素精製に関して石英、アルミ
ナ等の基板上に水素吸蔵用合金の薄膜を７ラツシユ蒸着
法により形成し、これを水素透過膜として用いることが
、例えば、特開昭５８−２７９７６号公報に開示されて
いるが、この方法では、 （イ）水素吸蔵用合金成分の蒸気圧が異なるため、実際
には、均一な薄膜の作成が困難である。

（ロ）膜厚が厚すぎると水素ガスの吸蔵、放出により透
過膜に亀裂が生ずる。

（ハ）蒸着繰作を行なうため広い面積の膜状物が得られ
にくいうえ、薄膜製造コストが高くなる。

く先行技術屋１その問題点〉 そこで、これらの問題点を解消するものとして、例えば
、特開昭６０−１９０５７０号公報に示すように、還元
剤を用いる自己触媒型の湿式無電解めっき方法により、
水素吸蔵用合金の粉末の表面にＣｕ及び／又はＮｉ金属
を被覆し、この無電解めっきした水素吸蔵用合金粉末を
筒状、シート状等に成型して、これを水素の精製に利用
する方法が考えられる。

この方法では、水素吸蔵用合金粉末をＣｕ又はＮｉで完
全に被覆するため、 （イ）合金本体の不純ガスによる汚染がなく、機能の低
下を起こさない、 （ロ）水素の吸蔵、放出を繰り返しても微粉化をきわめ
て起こしにくい、 （ハ）各合金粒子がめっきされた合金を介して密着して
いるので、熱伝導率が大幅に向上する、（ニ）無電解め
っき液への合金の浸漬や成型繰作を必要とするだけなの
で、成型品を安価に製造できる、 等の利点がある。

しかしながら、上記方法では、無電解めっきした合金粉
末を１〜１０トン／ｃｗ２、実際には繰り返し使用に伴
う成型品の崩壊を防ぐため３トン／ｃＩ１１２以上の荷
重下で圧縮成型するだけなので、合金粉末同士の間に空
隙が生ずることを避は得す、この成型品を水素透過膜に
使用した場合には、当該空隙から水素ガス以外の不純ガ
スら同時に透過してしまい、水素精製機能は余り高くな
いというのが実情である。

く問題点を解決するための手段〉 本発明者等は、めっき処理済みの合金粉末に所定の高分
子化合物を添加して成型すれば、粉末同士の結合を強力
にするとともに、粉末間の空隙が当該高分子化合物で充
填され、成型膜の水素選択透過能が飛躍的に向上するこ
とに着目し、本発明を完成した。

即ち、本発明は、還元剤を含有する自己触媒型の無電解
めっき液で水素吸蔵用合金粉末を処理して、当該合金の
表面を少なくとらＣｕ、Ｎｉのいずれか一種でめっきし
たのち、これを膜状に加工し、当該膜に原料水素ガスを
透過する水素の精製方法において、めっき処理を施した
上記合金粉末を高分子化合物を介して膜状に成型し、原
料水素ガスを原料室から膜を通して精製室に流し、高分
子化合物で水素以外の不純がスが膜を透過するのを阻止
し、上記合金で水素を選択的に透過して、精製室で水素
の分離、濃縮を行なうことを特徴とするものである。

上記水素吸蔵用合金は、加圧或いは低温条件で水素を吸
蔵し、減圧或いは加温条件で水素を放出するものであれ
ば良く、Ｔ；系（ＴｉＭｎ、ＴｉＣｏｏ、１Ｆｅｏ＋ｓ
等）、Ｍｍ系　（Ｍｍはミツシュメタル、ＭｍＮ！１、
ＭｍＮｉ＜、５Ｃｒｏ、ｓ等）、Ｌａ系（ＬａＮｉｓ、
ＬａＮｉ＜、５ＡＱｏ、ｔ　、ＬａＣｏ５等）若しくは
Ｍ’ｇ系（Ｍｇ２Ｎｉ　、ＭｇＣｕ等）のほか、任意の
金属の組合せを採用できる。

還元剤を用いる自己触媒型の湿式無電解めっき法は、上
述の特開昭６０−１９０５７０号公報に記載するように
、水素吸蔵用合金粉末を脱脂、活性化等の前処理を施し
たのち、無電解めっき液に浸漬して行なう。

即ち、予め水素の吸蔵、放出を繰り返して平均粒子径５
０μ−以下に粉砕した水素吸蔵用合金粉末を脱脂剤でそ
の表面を清浄にし、場合によってはその後、（イ）鉱酸
水溶液への浸漬、（ロ）無電解めっき用触媒金属の付着
、（ハ）Ｐｄ又は銀化合物の溶解液若しくは分散液への
浸漬等によって活性化処理を行なう。

無電解めっき液は、具体的にはＣｕめっき液或いはＮｉ
めっき液であり、Ｃｕめっき液は、（１）ホルムアルデ
ヒド、ナトリウムボロハイドライド等の還元剤 （２）硫酸銅、塩化銅等の銅塩 （３）ＥＤＴＡ、酒石酸等の錯化剤 （４）アンモニア、水酸化ナトリウム等のアルカリ（５
）黄血塩、チオ尿素等の安定剤から成り、また、Ｎｉめ
っき液の場合には上記銅塩に代えて硫酸ニッケル、塩化
ニッケル等のニッケル塩を、還元剤として次亜リン酸ナ
トリワム、ジメチルアミンボラン等を、また、安定剤と
して硝酸鉛、クエチルチオ尿素等を各々使用する。

めっき方法としては、Ｃｕめっき、Ｎｉめっきともに同
様の方法で行なうことができ、攪拌状態にある無電解め
っき液中に前処理を施した水素吸蔵用合金粉末を浸漬す
ればよい。

めっき形態としては、Ｃｕ或いはＮｉを単独でめっきす
る形態、Ｃｕめっきした後にその上がらＮｉめっきをす
る形態及びその逆の形態等を採りうる。

めっき処理における合金とめっき金属の重量比は１：１
〜１：０．５が好ましく、従ってめっき層の膜厚は０．
２〜５μｍが好ましい。

一方、無電解めっきした水素吸蔵用合金粉末に加える高
分子化合物は、全てのガスを透過しない材質或いは水素
分子を選択的に透過させる材質（例えば、冒述のポリイ
ミド等）であって、別言すれば水素ガス以外の不純ガス
の透過を阻止できるものでなければならず、具体的には
、含浸用エポキシ樹脂やフッ素系樹脂（ポリテトラフル
オロエチレン樹脂等）が好ましい。

膜の成型法としては、 （１）無電解めっｂした合金粉末をまずプレス成型、ロ
ール成型、押し出し成型等によりシート状或いは筒状に
加工しく尚、合金の種類により微粉化し易いものについ
ては、成型後に水素の吸蔵、放出を５〜６回以内で繰り
返すことにより、製膜後のひび割れを防止できる）、こ
れを高分子粘液の中に浸漬して高分子化合物を合金粉末
間に含浸させる方法 （２）めっきした合金粉末と高分子化合物の粉体を混合
してホットプレス成型等の加工を行なう方法（３）焼結
金属等の補強基板の上にめっきした合金をプレス成型等
によって膜状に載せ、これを上記（１）のように高分子
粘液中に浸漬する方法等を採ることができる。

く作　用〉 高分子化合物で無電解めっきした合金粉末間を充填する
ので、原料水素ガスを膜に通すと、原料ガス中の不純が
又は高分子化合物層で阻止される。

従って、原料室に入った原料ガスのうち、水素ガスは水
素吸蔵用合金の粉末層を通って精製室に透過し、当該精
製室に水素を分離、濃縮して水素ガスの精製を達成でき
る。

尚、合金表面は無電解めっきされて、いわばカプセル化
しているが、めっき層の厚さは既述の如く０．２〜５μ
顛なので、めっき被膜の細孔が埋められることはなく、
従って、水素の吸蔵、放出機能を損なうことはない。

〈発明の効果〉 膜を形成する合金粉末は無電解めっきを施しているため
、不純ガスによる被毒性の虞れがないうえ、割れを生ず
ることもなく、Ｐｄ透過膜或いは蒸着透過膜の有する問
題点を解消して、水素精製を長期に亘って行なうことが
できる。

無電解めっきした合金粉末を高分子化合物を介して薄膜
状に成型するので、透過膜の製造が安価に行なえ、製造
自体らプレス、ロール或いは押出し成型等を施せば良い
だけなので、高価なＰｄ透過膜や蒸着透過膜に比して、
精製コストが低廉になる。

また、蒸着透過膜のように膜の均一化を図る点での困難
性らなく、本発明の成型膜の製造は容易であって、精製
に伴う設備投資も安価になる。

従来技術で述べた如く、水素吸蔵用合金の粉体を用いた
切換精製方法では、装置の複雑化と繰作の煩雑化を招い
ていたが、本発明方法では、成型膜が水素透過膜として
の現実的な要求をみごとに達成できるので、精製装置は
簡略に、また、精１！捺作ら簡便にできる。

しかも、めっき合金を結合剤を介して成型膜にしている
ので、当該透過膜は耐熱性にすぐれ、全体がポリスルホ
ン等の高分子物質で形成された従来の非多孔質膜に比べ
て、高炉ガス等の高温ガスを大量に処理するのに適して
おり、製鉄所や窯業関係等での水素精製にも拡く適用で
きる。

そのうえ、高分子化合物をエポキシ樹脂に限定すれば、
水素の透過量、透過係数を大幅に向上でき、高純度の水
素精製を達成することができる。

く実　施　例〉 以下、本発明の実施装置を第１図により説明するととも
に、本発明に係る成型膜を用いた精製実験例を、無電解
めっきした合金粉末を圧縮成型しただけの膜体（即ち、
先行技術に相当するもの）及び非多孔質高分子膜（従来
技術（１）の（イ）に相当するもの）を用いた場合との
比較において述べ、併せて膜温度及び供給圧を各々変化
させた場合のＭ製実験結果をも示す。

（水素精製装置） 第１図に示す水素精製装置は、外筒体１、内筒体２及び
支持体３から成り、当該外筒体１を、原料水素ガスの流
入管４と排気管５を有する円筒体６、閉じＭ７及び導出
蓋８により構成する。

即ち、エポキシ樹脂製の支持体３を円筒体６の一端の鍔
１０と閉ヒ蓋７の鍔１２との開、及び円筒体の他端の鍔
１１と導出Ｍ８の鍔１４との間に各々挾んで着脱自在に
ボルト１５・１６及びす・２ト１７・１８で締結する。

左・右の両支持体３の間には内筒体２、即ち、パイプ状
の透過膜２０を複数本横断状に架橋し、閉じ蓋７側の開
口端２１を封鎖し、他の開口端２２を導出Ｍ８内に連通
状に突出する。

透過膜２０は、焼結合金製の円筒基板２３の上に無電解
めっきした水素吸蔵用合金粉末を圧縮成型したのち、高
分子粘液中に浸漬して、当該めっき合金間の空隙にエポ
キシ樹脂を含浸させたものであって、基板２３は合金層
２４のいｂば補強部材である。

尚、符号２５は水素精製装置外に原料ガス並びに水素〃
又が漏洩するのを防止するＯリングであり、符号２６は
導出蓋８に空けた水素導出管である。

斯くしてなる水素ＩＡｖ装置では、支持体３同士で囲繞
された外筒体１の部分、即ち、円筒体６の内部が原料室
３０になり、透過膜２０の内部が精製室４０になる。

従って、流入管４から原料室３０に流入した原料水素ガ
ス、例えば高炉が又は、透過膜２０を透過することによ
って、純粋の水素ガスのみを精製室４０に濃縮、分離し
て、導出管２６から精製水素ガスを取り出し、排気管５
からＣｏ、Ｈ２Ｓ、ＳＯ２、ＮＯ２等の不純がスを排出
することができる。

（実験例１） 本発明の膜と、先行技術に示す無電解めっきした合金粉
末を圧縮成型しただけの膜体（以下、比較体という）と
について、下記の実験装置を用いて、水素以外の不純ガ
ス、具体的にはＮ２〃又を流した場合の透過量及び透過
係数を測定、算出して、水素精製機能の実用性の有無を
実験した。

実験装置は、第２図で略示するように、膜ホルダー５０
の中央にＳＵＳ多孔板５１で支持したシート状の透過膜
２０をセットして、ホルダー５０内を原料室３０と精製
室４０に区画し、原料室３０に原料ガス供給ライン５２
及び徘ガスライン５３を連結する。

そして、梢！ｌｌ！！室・ｔ（）にガスクロ用キャリア
ーガ又（例：）＼ｒガス）ライン５４及びガスクロライ
ン５５を連結し、ガスクロライン５５にガスクロマトグ
ラ７５６及び７０−メーター５７を接続して、透過膜２
０を介して精製室４０に透過するガスの濃度及び流量を
測定、算出する。

尚、符号５８は透過膜２０の温度を調整するリボンヒー
ター、符号６０はホルダーを密封するＯリングである。

そこで、本発明の透過膜Ａ、Ｂ（以下、実験例２及び３
においてら同じ）の膜化様を次に述べる。

（１）透過膜Ａについて 使用合金　　　　　Ｍｍ　Ｎ　ｉ　＜　、　ｓ　Ｃｒ　
ｏ、　。

合金粒度　　　　　５０μｍ以下 めっき金属　　　　Ｃｕ めっき量　　　　　合金：Ｃｕ＝　１　：　１エポキシ
樹脂量　　エポキシ樹脂／めっき合金＝０．０３６ 成型圧力　　　　　　６トン／ｃ　ｍ　２成型後の処理
　　冷間含浸用のエポキシＯ（脂を真空引きしながら含
浸させて、 成型品の表面をア七トンで洗 浄する 成型後膜厚　　　　０　、５　ｍ＋ａ 成型後膜直径　　　２５ｍｍ （２）透過膜Ｂについて 結合剤としての高分子化合物をエポキシム（脂からポリ
テトラフルオロエチレンＯ（脂に代えたもので、めっき
した金属をプレスしたのち、３００℃の温度、４ｔ／ｃ
＋ｎ２の圧力で３（）分ホントプレスして成型処理した
ものである。

尚、比較体は、透過膜Ａの仕様のうち、合金をめっき処
理した後のエポキシ樹脂による成型処理を省略したちの
を用いた。

実験は、所定の透過膜２０（即ち、透過膜Ａ・Ｂ及び比
較体）を膜ホルダー５０に順次セットし、膜温度を１６
．２°Ｃ１精製室４０に灯する原料室３０の圧力を１ｋ
ｇ／ａｍ２　Ｇに各々確保しながらＮ　２１ｆスを流し
て、透過膜２０を介して精製室・ｔｏに透過するガスの
濃度をガスクロマトグラフ５６で、また、その流量を７
０−メーター５７で各々測定して、Ｎ２透過量及びＮ２
透過係数を測定、算出した。

第３図はその結果を示す図表であって、選択的な水素透
過膜であるはずの比較体はＮ２透過量、Ｎ２透過係数と
もに大きく、実質的な水素の分離、濃縮勤果は余り期待
できない。

これに対して、透過膜ＡではＮ２ガスはＮＤ、即ち、検
出不能であり、エポキシＩＪ（脂を結合剤として膜を成
型した場合には、明らかに水素ガス以外の不純ガス（こ
の実験ではＮ２ガス）は膜の透過を阻止され、当該透過
膜ノ＼は水素精製用透過膜として現実的に秀れた機能を
持つことが１゛」る。

また、透過膜Ｂ１．：おいてはＮ２ガスの透過は認めら
れるが、比較体に比べてＮ２透過量は略８０００分の１
、Ｎ２透過係数は略Ｉ　Ｇ　ＯＯ０分の１の値を夫々示
す。

しかも、膜温度及び膜ホルダー内の圧力条件を上記実験
と同様に設定し、Ｎ２がスに代えてＮ２ガスを流した場
合、Ｎ２の透過係数は３．７７３Ｘ１０−６（単位省略
）を示し、Ｎ２との間の透過係数比、即ち、Ｎ２透過係
数／Ｎ２透過係数をとると、３．７７３ｘ１０−６／１
．６３０ｘｌＯ−？＝２３．１となることがら、当該透
過膜Ｂは水素精製用の透過膜として使用することが実質
的に可能であり、純度よりも原料がスの大量処理を優先
したい場合等に好適である。

（実験例２） 従来技術（１）の（イ）に既述した非多孔質高分子膜の
代表例としてポリイミド膜、ポリスルホン膜を選び、こ
れらの膜と本発明の透過膜Ａとについて、実験例１に示
した実験装置に８２：Ｎ２＝１：１の原料ガスを流し、
膜温度を１０７℃、精製室に対する原料室の供給圧を１
０ｋｇ／ｃｍ２　Ｇ及び３０ｋｇ／ｃｍ２−Ｇに各々設
定して、Ｎ２透過量、Ｎ２透過係数、Ｎ２透過量及びＮ
２透過係数を夫々測定、算出し、水素精製８！能の高さ
を比較実験した。

尚、透過膜Ａの膜化様については、膜温度を変化させて
いる以外は実験例１の場合と同様である。

第４図はその結果を示す図表であって、非多孔質高分子
膜ではとらにＮ２透過係数は高いが、これに比較してＮ
２透過係数も同様に高く、両者の透過係数比、即ち、Ｎ
２透過係数／Ｎ２透過係数はポリイミドで５５，６、ポ
リスルホンで３０．８の値を示す。

これに対して、本発明の透過膜ＡではＮ２透過量は１０
　ｋｇ／ｅ＋ｓ２−　Ｇ及ゾ３０　ｋｇ／　０ｍ２−　
Ｇの２つの場合ともに検出不能であり、従ってＮ２とＮ
２の透過係数比は実験的にはωとなり、当該透過膜Ａは
上記非多孔質高分子膜に比べて格段の水素選択透過能を
有し、高純度の水素精製を達成できる。

（実験例３） 本発明の透過膜へについて、実験例１に示した実験装置
に、５−ナインの原料水素ガスを供給圧１０ｋＨ／ａｍ
２Ｇの条件下で流し、膜温度を５２゜０℃、７７．１℃
及び９８．７℃の３段階に変化せしめて、Ｎ２透過量及
び８２透過係数を夫々測定、算出し、膜の温度変化が両
透過数量に与える影響を実験した。

＠５図はその結果を示す図表であって、膜温度が上昇す
ると、Ｎ２透過量及びＮ２透過係数ともに大きくなり、
水素精製能力が増大することが判る。

特に、膜温度が倍近くに変化（５２，０→９８．７’Ｃ
）すると、Ｎ２透過量（０，３５１５Ｘ１０−　’→３
．６Ｘ１０−　”ｃｍ’／分）及びＮ２透過係数（１）
、？３５７Ｘ１０−　９−＋７．５３７Ｘ１０−　９０
ｍコ　・Ｃｍ／ｃ＋ａ２・ｒ：ｔｎＨｇ−ｓｅｅ＞は１
０倍以上の数値を示す。

従って、透過膜Ａを使用する水素精製においては、膜温
度を１００℃以上に設定して処理する方が、精製効率を
向上できることになる。

（実験例４） ＬａＮｉ４．＊ＡＮｏ、７の合金を透過膜Ａと同様の条
件で膜体に圧縮成型し、この成型膜に水素の吸蔵、放出
を各２回繰り返したのち、やはり透過膜Ａと同じ成型後
の処理を施して、膜厚０　、４　ｍｍ、膜面型］８ｍ＋
ｎの透過膜Ｃを得た。

そして、この透過膜Ｃを実験例１に示した実験装置に取
り付け、膜温度を１００°Ｃ１原料室側の供給圧を３０
　ｋｇ／ｃｍ２−　Ｇに各々設定し、まずＮ２ガスを原
料室に流して精製室にＮｚｙスが透過しないことをガス
クロマトグラフで確認したのち、５−ナインの原料水素
ガスを供給圧５ｋｇ／ｃｍ２−Ｇ及び１０ｋｇ／ａｍ２
−Ｇの２段階に各々変化せしめて原料室に供給し、Ｎ２
透過量及びＮ２透過係数を夫々測定、算出して、原料室
への供給圧の変化が両透過数量に与える影響を実験した
。

第６図はその結果を示す図表であって、原料室への供給
圧が５ｋｇ／ｃ１１＋２Ｇから１０　ｋｇ／　ｃｎ＋２
−Ｇに増すと、Ｎ２透過量は６．２３９Ｘ１０−コ→１
．４３Ｘ１０−２０ｍコ／分、Ｎ２透過係数は３．６３
１Ｘ１０−　９→４．５　５Ｘ１　０−　９ｃｍコ　・
　ｃｍ／ｃ仔２・ｃｍＨｇ＊ｓｅｅに増加することが判
る。

【図面の簡単な説明】

ｆｊＳ１図は水素精製装置の縦断正面図、第２図は水素
精製の実験装置の概略説明図、第３図は本発明と先行技
術の透過膜を各々使用しｒこときの精製実験結果を示す
図表、第４図は本発明と従来の非多孔質高分子化合物の
透過膜を各々使用したときの精製実験結果を示す図表、
第５図は膜温度を、また、第６図は原料室への供給圧を
各々変化させた場合の本発明の透過膜に関する精製実験
結果を示す図表である。 ２０・・・透過膜、　３０・・・原料室、　４０・・・
精製室。 特許出願人　　工業技術院長　　等々力　達指定代理人
　　工業技術院大阪工業技術試験所長特許出願人　　岩
谷産業株式会社　　　〜″、−一

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、還元剤を含有する自己触媒型の無電解めっき液で水
   素吸蔵用合金粉末を処理して、当該合金の表面を少なく
   ともＣｕ、Ｎｉのいずれか一種でめっきしたのち、これ
   を膜状に加工し、当該膜に原料水素ガスを透過する水素
   ガスの精製方法において、めっき処理を施した上記合金
   粉末を高分子化合物を介して膜状に成型し、原料水素ガ
   スを原料室から膜を通して精製室に流し、高分子化合物
   で水素以外の不純ガスが膜を透過するのを阻止し、上記
   合金で水素を選択的に透過して、精製室で水素の分離、
   濃縮を行なうことを特徴とする水素吸蔵用合金による水
   素ガスの精製方法 ２、原料室に対して精製室を負圧にして水素の分離、濃
   縮を行なうことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
   載の水素吸蔵用合金による水素ガスの精製方法 ３、高分子化合物がエポキシ樹脂或いはフッ素系樹脂で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項
   に記載の水素吸蔵用合金による水素ガスの精製方法