JPS62142729A - 浮揚式通板装置 - Google Patents
浮揚式通板装置Info
- Publication number
- JPS62142729A JPS62142729A JP28211885A JP28211885A JPS62142729A JP S62142729 A JPS62142729 A JP S62142729A JP 28211885 A JP28211885 A JP 28211885A JP 28211885 A JP28211885 A JP 28211885A JP S62142729 A JPS62142729 A JP S62142729A
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- Japan
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- force
- strip
- magnet
- shaped body
- band shaped
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は連続焼鈍ライ/、連続亜鉛メツキライン、カラ
ー鉄板コーティングライン等、磁性材料の帯状体を扱う
ラインの浮揚式通板装置に関する。
ー鉄板コーティングライン等、磁性材料の帯状体を扱う
ラインの浮揚式通板装置に関する。
従来例として、冷間圧延鋼板用連続焼鈍炉につき述べる
。ペイオフリールから繰り出されクリーニングタンクや
ルーパを通ったストリップは第7図に示す連続焼鈍炉に
供給される。
。ペイオフリールから繰り出されクリーニングタンクや
ルーパを通ったストリップは第7図に示す連続焼鈍炉に
供給される。
同図に示す炉中には、上方と下方とにロール2が配列さ
れており、ストリップ1は、このロール2間を上下方向
に走行しながら必要な加熱や冷却が行なわ?L、常温の
状態で所定の高い抗張力や良好な深絞り性等の材料的な
特質が付与される。より詳しくは、ストリップ1の鉄面
酸化の防止のために炉中には、還元性のHNガスが充満
され、ストリップ1は通常650〜750℃程度までラ
ジアントチューブ3により加熱帯で加熱され、その後数
十秒間均熱され、更に400℃程度でで急冷され、40
0C程度にて約2分間程の過時効処理?受け、最後に急
冷されて常温となるという工程を経る。
れており、ストリップ1は、このロール2間を上下方向
に走行しながら必要な加熱や冷却が行なわ?L、常温の
状態で所定の高い抗張力や良好な深絞り性等の材料的な
特質が付与される。より詳しくは、ストリップ1の鉄面
酸化の防止のために炉中には、還元性のHNガスが充満
され、ストリップ1は通常650〜750℃程度までラ
ジアントチューブ3により加熱帯で加熱され、その後数
十秒間均熱され、更に400℃程度でで急冷され、40
0C程度にて約2分間程の過時効処理?受け、最後に急
冷されて常温となるという工程を経る。
ところで、かかる連続焼鈍炉では、過時効帯で約2分の
長時間を要するので、ストリップの速度との関係から過
時効帯が長くなり、特に大形の連続焼鈍炉では、過時効
帯が100慣程反と長大になり、炉全体としてはtso
m8度と非常に長くなる。したがって、この過時効帯を
短縮できれば、炉が短く製作できて炉の建設コストを下
げられる。
長時間を要するので、ストリップの速度との関係から過
時効帯が長くなり、特に大形の連続焼鈍炉では、過時効
帯が100慣程反と長大になり、炉全体としてはtso
m8度と非常に長くなる。したがって、この過時効帯を
短縮できれば、炉が短く製作できて炉の建設コストを下
げられる。
この過時効帯を短縮する具体的な手段としては、ストリ
ップの材料成分をかえてストリップの加熱温度を従来よ
りも高くすればよいことが判明している。
ップの材料成分をかえてストリップの加熱温度を従来よ
りも高くすればよいことが判明している。
ところが、かかる過時効帯を短縮した炉を実現する場合
、ストリップとしては高温のものを扱うことになるので
、高温のストリップと冷たいロールとの接触になシ、こ
のため不均一な接触や圧延油中のカーボン等が付着した
不拘−ロール面との接触によるストリップの幅方向の不
均一冷却などに基づくストリップの変形が問題となる、
また、ストリップを上下の鉛直方向に走行させるとスト
リップ自重によるクリープ現象が生じて製品とならない
。このため、ストリップは水平に安定して走行させる必
要がある。
、ストリップとしては高温のものを扱うことになるので
、高温のストリップと冷たいロールとの接触になシ、こ
のため不均一な接触や圧延油中のカーボン等が付着した
不拘−ロール面との接触によるストリップの幅方向の不
均一冷却などに基づくストリップの変形が問題となる、
また、ストリップを上下の鉛直方向に走行させるとスト
リップ自重によるクリープ現象が生じて製品とならない
。このため、ストリップは水平に安定して走行させる必
要がある。
上述の問題から高温のストリップをロールと接触させず
しかもストリップを上下方向に走行させないためには、
第8図に示すように炉内にフロータ(浮揚器)4を、ス
トリップの下側又は上下両側に配列して、ストリップを
浮かせると共に水平方向に走行させるのが良い。第7図
においては、金属ス) IJツブ1は図中左から右に走
行しており、3はストリップ1の上面と下面とに設置さ
れたラジアントチューブ、4はHNガスを噴出してスト
リップとの間で圧力を生ぜしめてストリップの自重を支
持する70−タ、5はフロータ4への供給用ガスダクト
、6は炉壁である。
しかもストリップを上下方向に走行させないためには、
第8図に示すように炉内にフロータ(浮揚器)4を、ス
トリップの下側又は上下両側に配列して、ストリップを
浮かせると共に水平方向に走行させるのが良い。第7図
においては、金属ス) IJツブ1は図中左から右に走
行しており、3はストリップ1の上面と下面とに設置さ
れたラジアントチューブ、4はHNガスを噴出してスト
リップとの間で圧力を生ぜしめてストリップの自重を支
持する70−タ、5はフロータ4への供給用ガスダクト
、6は炉壁である。
更に、フロータ4は第9図に示す断面構造を有し、ガス
ダクト5に連通ずるフロータ4では、INガスの噴出口
にスリット9を有して、このスリット9から噴出したH
IJガスは流れ方向が急変させられその運動量変化によ
りストIJツブ1との間に圧力を生ぜしめるものである
。
ダクト5に連通ずるフロータ4では、INガスの噴出口
にスリット9を有して、このスリット9から噴出したH
IJガスは流れ方向が急変させられその運動量変化によ
りストIJツブ1との間に圧力を生ぜしめるものである
。
上述のように過時効帯を短くするためにストリップの加
熱温度を高め、更にこの高温の加熱温度による弊害を除
くためフロータを水平方向に配列した第8図に示す構成
としている。しがしながら、第8図に示すフロータでは
、ストリップ1の上下方向(重力方向)の力が発生する
ものの、ストリップの幅方向の力は全く生じないので幅
方向にス) IJツブがぶれた場合、それを正規のパス
ラインに戻すことができない。すなわち、センタリング
機能がない。したがって、ストリップの走行中にストリ
ップがぶれ出すと、ストリップが炉壁に接触する可能性
が犬きくなり、結局センタリング機能を必要としている
。
熱温度を高め、更にこの高温の加熱温度による弊害を除
くためフロータを水平方向に配列した第8図に示す構成
としている。しがしながら、第8図に示すフロータでは
、ストリップ1の上下方向(重力方向)の力が発生する
ものの、ストリップの幅方向の力は全く生じないので幅
方向にス) IJツブがぶれた場合、それを正規のパス
ラインに戻すことができない。すなわち、センタリング
機能がない。したがって、ストリップの走行中にストリ
ップがぶれ出すと、ストリップが炉壁に接触する可能性
が犬きくなり、結局センタリング機能を必要としている
。
本発明は上記問題点に鑑み、センタリング手段を備えた
浮揚式通板装置を提供しようとするものである。
浮揚式通板装置を提供しようとするものである。
上記目的を達成するために、本発明は、多数個配列され
た気体浮揚支持装置上に金属の帯状体を浮揚走行させる
装置において、1つまたは複数の電磁石または永久磁石
(以後磁石と称す)を走行する帯状体の幅方向に対して
その磁界により、帯状体のずれる方向と逆方向に力を発
生させるように配列したことを特徴とするものである。
た気体浮揚支持装置上に金属の帯状体を浮揚走行させる
装置において、1つまたは複数の電磁石または永久磁石
(以後磁石と称す)を走行する帯状体の幅方向に対して
その磁界により、帯状体のずれる方向と逆方向に力を発
生させるように配列したことを特徴とするものである。
すなわち本発明は、多数個配列された気体浮揚支持装置
上に金属の帯状体を浮揚走行させる装置において、1つ
又は複数の電磁石又は永久磁石を走行する金属の帯状体
の両側に、帯状体に接しないよう配置したことを特徴と
する浮揚式通板装置である。
上に金属の帯状体を浮揚走行させる装置において、1つ
又は複数の電磁石又は永久磁石を走行する金属の帯状体
の両側に、帯状体に接しないよう配置したことを特徴と
する浮揚式通板装置である。
上述の構成の結果、走行する帯状体が所定の位置からず
れて走行した場合、すなわち、蛇行に対して帯状体を所
定位置に押し戻す力(ステアリング力)が作用し、安定
な走行全可能にする。
れて走行した場合、すなわち、蛇行に対して帯状体を所
定位置に押し戻す力(ステアリング力)が作用し、安定
な走行全可能にする。
第1〜第6図と参照して本発明の詳細な説明する。
なお、第7〜第9図と同一部分には同符号を付す。
第1図において、1は磁性材の金属ストリップ(帯状体
)、4はフロータ、5はHNガス洪給田のガスダクト、
9はHNガスを噴出するスリットである。フロータ4、
ガスダクト5、スリット9は気体浮揚支持装置を構成す
る。
)、4はフロータ、5はHNガス洪給田のガスダクト、
9はHNガスを噴出するスリットである。フロータ4、
ガスダクト5、スリット9は気体浮揚支持装置を構成す
る。
一方、10A及び10Bは本発明にかかわる磁石であシ
、本実施例では2つの電磁石を気体浮揚支持装置4A、
ABの中間に配した例を示しているが、特に設置場所の
限定は無く、どこでもよい。また気体浮揚支持装置の中
に組み込むこともできる。
、本実施例では2つの電磁石を気体浮揚支持装置4A、
ABの中間に配した例を示しているが、特に設置場所の
限定は無く、どこでもよい。また気体浮揚支持装置の中
に組み込むこともできる。
第2図はこの磁石の構成図を示すもので、磁性金鴫材料
でなるいくつかの歯を有するヨーク12及び歯の周囲を
取りまくように巻かれたコイル11から構成される。
でなるいくつかの歯を有するヨーク12及び歯の周囲を
取りまくように巻かれたコイル11から構成される。
なお磁石にはこのコイル11にrLI7f、を流すため
の電源が接続されているがここでは図示分省略している
。また1!磁石の原理についても、周知の事実であるこ
とから説明を省略する。
の電源が接続されているがここでは図示分省略している
。また1!磁石の原理についても、周知の事実であるこ
とから説明を省略する。
第3図は、この磁石を帯状体1の下方に、ある空隙を置
いて、帯状体10幅方向の両端が磁石10A、10Bの
ヨーク12の長手方向に対してそれぞれ中心となるよう
に配置したセンタリング手段の一例を示す。ここで帯状
体の幅方向をX方向とし、それぞれの中心位置を原点と
し、右方向を正とする。帯状体1から磁石への上下方向
をY方向とする。ヨーク上方のX方向位置で磁石により
帯電体1が磁化され、帯状体と磁石との間で発生する力
をX、Y方向でそれぞれPg 、Fyとする。X方向の
力’Pxは帯状体を磁石10B側に引く方向を正方向と
し、Y方向の力IF7は帯状体が下方(磁石)側に引く
方向を正方向とする。
いて、帯状体10幅方向の両端が磁石10A、10Bの
ヨーク12の長手方向に対してそれぞれ中心となるよう
に配置したセンタリング手段の一例を示す。ここで帯状
体の幅方向をX方向とし、それぞれの中心位置を原点と
し、右方向を正とする。帯状体1から磁石への上下方向
をY方向とする。ヨーク上方のX方向位置で磁石により
帯電体1が磁化され、帯状体と磁石との間で発生する力
をX、Y方向でそれぞれPg 、Fyとする。X方向の
力’Pxは帯状体を磁石10B側に引く方向を正方向と
し、Y方向の力IF7は帯状体が下方(磁石)側に引く
方向を正方向とする。
第4図はY方向の力を示すものである。点線で示した力
Fy1は磁石10A、F72は磁石10Bによる力であ
り、IF、71とIF72を合成した力F7は実線で示
す。
Fy1は磁石10A、F72は磁石10Bによる力であ
り、IF、71とIF72を合成した力F7は実線で示
す。
第5図はX方向の力を示すものである。点線で示した力
PX1は磁石10A、FX2は磁石10Bによる力であ
シ、それぞれ帯状体が磁石よυ離れ去る近傍で引き戻す
力(X方向成分)が最大となる。PXはIFxlとFx
21f合成した力すなわち帯状体にかかるX方向の力で
あシ実線で示す。
PX1は磁石10A、FX2は磁石10Bによる力であ
シ、それぞれ帯状体が磁石よυ離れ去る近傍で引き戻す
力(X方向成分)が最大となる。PXはIFxlとFx
21f合成した力すなわち帯状体にかかるX方向の力で
あシ実線で示す。
なお、第4.第5図は実験にて得られたもので、本発明
は以上の特性を利用したものである。
は以上の特性を利用したものである。
すなわち、以上の特性は第6図のように説明される。
第6図において1は帯状体、1oは磁石を示す。
■〜■は磁石10上の帯状体1のエツジ位置の相対関係
を示すもので、グラフはそれぞれの状態における帯状体
を磁石側に引き戻そうとする力Fxの様子を示している
。
を示すもので、グラフはそれぞれの状態における帯状体
を磁石側に引き戻そうとする力Fxの様子を示している
。
■では、帯状体は磁石上に覆いかぶさっているため、下
方(Y方向)に引っ張る力のみでFx酸成分零である。
方(Y方向)に引っ張る力のみでFx酸成分零である。
■の状態では、帯状体のエツジ位置が磁石上に位置する
ため磁石10の左右両端での磁界分布が不均一になり、
帯状体を磁石側に引き戻そうとする力PKが発生するこ
とになる。
ため磁石10の左右両端での磁界分布が不均一になり、
帯状体を磁石側に引き戻そうとする力PKが発生するこ
とになる。
更に■では上記不均一は最大となり、よってFX も
最大値を示す。
最大値を示す。
■では帯状体は磁石より離れすぎるため、Fx酸成分あ
るもののしだいに減少してくる。
るもののしだいに減少してくる。
以上が第5図における、F′x2の特性を説明するもの
であり、FXlについては、カの方向が逆になるだけで
、全く同じ特性を示す。なお、F7構成についても同様
な考察により、第4図py1゜F72の特性が容易に説
明される。
であり、FXlについては、カの方向が逆になるだけで
、全く同じ特性を示す。なお、F7構成についても同様
な考察により、第4図py1゜F72の特性が容易に説
明される。
今、帯状体がヨークの中心位置からX方向の正側(磁石
10B)に移動した場合、第5図よりX方向の力pzは
、磁石10A側の力Fxjが増加し、磁石10B側の力
Fx2が減少することになり、帯状体は磁石10A側に
もどそうとする力となる。よって帯状体が移動しようと
するカ以上に磁石の力を強く保つことで帯状体の移動は
防げる。またY方向については、磁石10A側の力IP
71が減少し、磁石10B側のカF72が増加すること
になるが、合成される力F7は/よとんど変化しない。
10B)に移動した場合、第5図よりX方向の力pzは
、磁石10A側の力Fxjが増加し、磁石10B側の力
Fx2が減少することになり、帯状体は磁石10A側に
もどそうとする力となる。よって帯状体が移動しようと
するカ以上に磁石の力を強く保つことで帯状体の移動は
防げる。またY方向については、磁石10A側の力IP
71が減少し、磁石10B側のカF72が増加すること
になるが、合成される力F7は/よとんど変化しない。
Y方向の力FyVCよって帯状体は磁石側に引きつけら
れることになるが、これについては、フロータ4の浮揚
力によりY方向の力F’7とバランスさせることで、帯
状体と磁石との空隙を保つことができる。仮に磁石を帯
状体1の上方に配置した場合には、帯状体の張力でバラ
ンスさせる方法が考えられる。
れることになるが、これについては、フロータ4の浮揚
力によりY方向の力F’7とバランスさせることで、帯
状体と磁石との空隙を保つことができる。仮に磁石を帯
状体1の上方に配置した場合には、帯状体の張力でバラ
ンスさせる方法が考えられる。
なお、以上の説明は第3図に示すように帯状体1のステ
アリング位置を左右磁石の中心位置とする場合について
述べたが、特にそれにこだわる必要はなく、要は帯状体
が磁石を全て覆わない程度で、左右のエツジ位置を対称
にすればよいことは明らかである。
アリング位置を左右磁石の中心位置とする場合について
述べたが、特にそれにこだわる必要はなく、要は帯状体
が磁石を全て覆わない程度で、左右のエツジ位置を対称
にすればよいことは明らかである。
以上説明したように、本発明によれば、フロータを含む
気体浮揚支持装置上を走行する帯状体の下方あるいは上
方に一対又はそれ以上の電磁石又は永久磁石を配するこ
とにより帯状体の幅方向の振れ(蛇行)を抑制し、帯状
体の走行位置を安定に保持するオートステアリング機能
を付与することができる。
気体浮揚支持装置上を走行する帯状体の下方あるいは上
方に一対又はそれ以上の電磁石又は永久磁石を配するこ
とにより帯状体の幅方向の振れ(蛇行)を抑制し、帯状
体の走行位置を安定に保持するオートステアリング機能
を付与することができる。
第1図〜第6図は本発明の一実施例を説明するための図
で、第1図は全体の構成図、第2図は電磁石の概略図、
第3図は本発明に係わるステアリングの原理図、第4図
は電磁石によって発生する磁石側への力、第5図は電磁
石によって発生するステアリング力とそれぞれ示す図で
あり、第6図は帯状物と磁石の位置関係における帯状物
に作用する力を示す図、第7図〜第9図は、従来の連続
焼鈍炉の一例で、第7図は全体の構成図、第8図は部分
的構成図、第9図はフロータの断面図である。 図中 1は帯状体、4,4A、4Bはフロータ5はガス
ダクト、9はスリット 10.1OA、10Bは電磁石 11は電磁石コイル、12は電磁石ヨークIFx、Fc
l 、Fx2は帯状体に加わる幅方向の力Fy、Py1
.IPy2は帯状体に加わる上下方向の力である。 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫 第1図 X75向の力 第6図 口=コ ■用=□欣 口=コ 第7図 第8図 A
で、第1図は全体の構成図、第2図は電磁石の概略図、
第3図は本発明に係わるステアリングの原理図、第4図
は電磁石によって発生する磁石側への力、第5図は電磁
石によって発生するステアリング力とそれぞれ示す図で
あり、第6図は帯状物と磁石の位置関係における帯状物
に作用する力を示す図、第7図〜第9図は、従来の連続
焼鈍炉の一例で、第7図は全体の構成図、第8図は部分
的構成図、第9図はフロータの断面図である。 図中 1は帯状体、4,4A、4Bはフロータ5はガス
ダクト、9はスリット 10.1OA、10Bは電磁石 11は電磁石コイル、12は電磁石ヨークIFx、Fc
l 、Fx2は帯状体に加わる幅方向の力Fy、Py1
.IPy2は帯状体に加わる上下方向の力である。 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫 第1図 X75向の力 第6図 口=コ ■用=□欣 口=コ 第7図 第8図 A
Claims (1)
- 多数個配列された気体浮揚支持装置上に金属の帯状体を
浮揚走行させる装置において、1つ又は複数の電磁石又
は永久磁石を走行する金属の帯状体の両側に、帯状体に
接しないよう配置したことを特徴とする浮揚式通板装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28211885A JPS62142729A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | 浮揚式通板装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28211885A JPS62142729A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | 浮揚式通板装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62142729A true JPS62142729A (ja) | 1987-06-26 |
Family
ID=17648360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28211885A Pending JPS62142729A (ja) | 1985-12-17 | 1985-12-17 | 浮揚式通板装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62142729A (ja) |
-
1985
- 1985-12-17 JP JP28211885A patent/JPS62142729A/ja active Pending
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