JPS62135477A - セフアロスポリン抗生物質の製法 - Google Patents

セフアロスポリン抗生物質の製法

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JPS62135477A
JPS62135477A JP61276380A JP27638086A JPS62135477A JP S62135477 A JPS62135477 A JP S62135477A JP 61276380 A JP61276380 A JP 61276380A JP 27638086 A JP27638086 A JP 27638086A JP S62135477 A JPS62135477 A JP S62135477A
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chemical
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JP61276380A
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ルードビヒ・ミラー
ベルンハルト・クリスチャン・プラーゲル
ベルナー・ハイト
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Sandoz GmbH
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Biochemie GmbH
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はセファロスポリン抗生物質の製法、そ9製法に
用いられる新規中間体およびその製法に関する。
二発明の記f&1 本発明は式: で示されるセファロスポリンの新規な製法を提供する。
もよい5員の、酸素−1望素および/まr=ま硫黄−含
有複素環式基、 R2は水素、アセトキシ、メトキノ、カルバモイルオキ
シ、−s −’1’基(Yは非置換または置換複素環式
基)または式: [式中、R4およびR6は各々独立して水素、ハロゲン
、アルキル、ヒドロキシ、カボギシアミド、アルコキシ
カルボニル、アミノ、モノアルキルアミノ あるいは−緒になって所望により置換されていてもよい
5または6員の炭素環式基を意味する。コ で示される所望により置換されていてもよいピリジニウ
ム、 R,はカルボキシ、カルボキシレートまたはカルボン酸
エステル基を意味する。] 式■の化合物は公知の群に属する有用なセファロスポリ
ン抗生物質である。
R1における)(素環式シよ(は前記したように1つ以
上の酸素、硫黄および/まf二:ま窒素原子をへテロ、
甲子として含む。適当な曳索環式基には、例えばピラゾ
リル、フリル、ヂエニル、デアゾリル、チアジアゾリル
、テトラゾリル、オキサシリルおよびオキサジアゾリル
が包含されろ。複素環式環は非置換またはアミノて置換
されてらよい。好よしくはR1はチェニルまたは(10
)−テトラゾリルである。
R,は水素とすることかできる。まfこ、カルバモイル
オキシであってらよい。R,は好ましくはアセトキノ、
−S−Yまたは所望により置換されていてもよいピリジ
ニウムである。Yとしての適当な複素環式環は公知であ
る。好ましい複素環式環は、例えばチアノアゾリル、ノ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアゾリル、
チアトリアゾリル、オキサシリル、オキサノアゾリル、
トリアゾリルピリジル、プリニル、ピリノル、ピリミジ
ニル、ピリダジニル、ピラゾリルおよびトリアノニルで
ある。これらの複素環式環は非置換または、例えば3回
まで置換されもよい。適当な置換基には炭素数1〜4の
アルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、ハロゲン、トリ
ハロー炭素ml〜4のアルキル、ヒドロキシ、オキソ、
メルカプト、アミノ、カルボキン、カルバモイル、ジ−
炭素数1〜4のアルキルアミノ、カルボキシメチル、カ
ルバモイルメチル、スルホメチル、およびメトキノカル
ボニルアミノが包含されろ。文献に特に好ましいと記載
されている複素環式環はテトラゾリル、とくにl−メチ
ル−IH−テトラゾール−5−イル、チアジアゾリル、
とくに1.2.3−チアジアゾール−5−イル、2−メ
チル−1.3.4−チアジアゾール−5−イルおよびト
リアジニル、とくに1、2,5.6−テトラヒドロ−2
−メチル−5.6−シオキソーasートリアジンー3ー
イル、2.5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル
−5−オキソ−as−トリアジン−3−イルまたは1.
4。
5、6−チトラヒドロー・1−メチル−5.6−シオキ
ソーaSートリアノンー3ーイルである。R,は好まし
くはアセトキノ、l−メチル−III−テトラ′ゾール
ー5ーイルチオ、ピリジニウム士f二(ま2−メチル−
1.3.4−チアノアゾリル−5−チオである。
セファロスポリンの分野で知られているように、該化合
物は遊離酸(R3= C O O It)まfこは塩の
形、例えばアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、
好ましくはナトリウム塩のようなアルカリ金属塩で存在
し得る。また、該化合物はエステル形、例えばピバロイ
ルオキツメチル−エステルであってもよい。他のエステ
ル形成残基の例はアセトキンエチル、l−アセトキンエ
チル、1−エトキシ力ルポニルオキシエヂル、5−イン
ダノイルであって、好ましくはヘキザノイルメヂル、フ
タリジル、カルボエトキシメトキンメチルまたは3−カ
ルボエトキシ−1−アセトニルである。R,か所望によ
り置換されていてらよいピリジニウム括である場合、式
Iの化合物はまた分子内塩として存在4−ることかでき
る。
特に好ましい式Iの化合物は式: 二式中、 R3゛は2−チェニルまf二はI−(IH)テトラゾリ
ル、 Rz’は水素、アセトキシまfこは−9−Y(Yは2−
メチル−1,3,4−チアジアゾール−5−イルまfこ
は1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)、 R3”はカルボキシまたはカルボキシレートを意味する
。] て示される化合物である。
前記しfこように、式Iの化合物は公知であって、その
製法は種々提案されている。こ7.tらの製法の1つに
は対応する所望により保護さl、−fニア−アミノセフ
ァ0スボラン酸誘導体を式: %式%() [式中、R1は前記と同じ意味。] で示される酸の反応性誘導体でアシル化することが包含
される。
かかるアシル化はしばしば低温(−30〜0℃)で行な
う必要がある。副生物の形成および脱色1ノ\しばしば
起こり、そのためわずられしい精製工程か必要になる。
さらに、公知方法は、R,かアミノ置換基を有する複素
環である場合には、競合反応が目的生成物収率の大幅な
減少をもたらすので後者を酸性基の活性化前に保護しな
ければならないという欠点によって特徴付けられる。ア
シル化工程前の保護基の導入およびその後の該保護基の
除去は一般に収率の減少および目的生成物の純度の減少
並びに反応時間、エネルギー、労苦およびコストの著し
い増加が伴う。
本発明は、式Iの化合物の改善されfこ製法を提fJ’
する。該方法は経済的であって、式Iの化合物を高収率
および高純度で製造することができろ。
加えて、所望により存在する残基R2のアミノ置換基は
保護する必要がない。
さらに具体的には、本発明は式: %式% 二式中、 R1”は所望によりアミノまf二は保護されrニアミノ
て置換されていてもよい5員の酸素−1窒素および/ま
たは硫黄−含有複素環式基、 素環式基(該環は、窒素原子に加え、さらに酸素、窒素
または硫黄−から選ばれる1または2個のヘテロ原子を
有してもよく、また置換されてもよく、所望により置換
されていてもよいベンゼン環と縮合してもよい)を意味
する。] で示される化合物を式。
3式中、R3は前記と同じ色味、R8は水素またはアミ
ノ保護基、R2゛はカルボキシ、保護されたカルボキシ
基、カルボキンレートまたはカルボン酸エステル基を色
味する。] て示される化合物と反応させ、要すれば得られた化合物
を脱保護し、所望により得られた化合物(R3がCoo
l−1)をその塩に変換するか、またはその逆を行うこ
とからなろ式Iの化合物およびその塩の製法を提供する
式■の化合物はまた式IVaの形で存在することしてき
、その際2つの形の化合物の比率は反応成分および反応
条件に依存して変る。都合上、式■の化合物は式■aの
構造を有する化合物を包含する乙のと考えることにする
該方法は、好ましくは不活性溶媒または該溶媒と水の混
合物、例えばエタノールのような低板アルコール、ジク
ロロメタンのような塩素化炭化水素、酢酸エチルのよう
な酸エステル、アセトン、ジメヂルポルムアミドまたは
ノメチルスルホキシド中で行なわれる。反応温度は、好
ましくは−40〜−60°C1とくに一15〜+25℃
、とくに0〜20℃である。反応時1i、iJは約数9
〜48時間である。弐mおよび弐■の反応体は化学量論
量で用いるのが好適である。また25%過剰までの式■
の化合物を用いるのも好適で)ろ。
R3かG OOr−1およびその塩である式Iの化合物
を製造する場合、式■のカルボン酸基は保護することか
てきる。適当な保護基は公知であって、エステル基につ
いて可能な定義として前記したようなしのばかりでなく
、シリルエステル保護基、とくにトリメチルノリル基が
包含されるが、これは例えば遊離酸とN 、 O−ビス
−トリメデルシリルアセトアミドとの反応によって導入
することができる。
式■の出発物質の7−アミノ基らまた保護することがで
きる。適当な保護基は公知であって、例えばトリメチル
シリル基が包含され、これは例えばカルボン酸基の保護
と同時に導入される。
弐■の化合物においてR1”がアミノ置換基を有する複
素環式環である場合、出発物質のアミノ活は遊離または
保護形とすることかて3る。前記したように、残2rk
 n 、”のアミンの保護は必要でない。
しかしながら、保護が所望ならば、こシーは公知の保護
基を用い公知の方法で行うことができる。
式■の化合物と弐■の化合物との反応後の脱保護は常法
で行うことができろ。同様に、遊離酸(R、== CO
OH)のその塩への変換は常法で行なうことができる。
目的生成物は常法で単離および精製することかできる。
本発明の方法において、弐■の複素環式チオエステルは
式Aの酸の反応性誘導体として使用できる。式■の化合
物は新規であって、本発明の一部を構成する。該化合物
は式■の化合物のアノル化に使用でき、それによって式
Iのセファロスポリンを高収率および高純度で製造でき
る有用な中間体である。さらに、本発明の利点は式■の
反応性中間体が純粋な結晶形で製造することがてき、例
えば弐■の化合物との反応に用い得ることである。
要すれば、式■の化合物を単離しないで、弐mの化合物
と直接反応させることもてきる。本発明の別の利点は全
ての処理工程、すなわち弐■の中間体の製造並びにその
式mの化合物との反応工程は低い反応温度を用いずに通
常の温度で行うことができる。
さらに加えて、驚くべきことに、二ltらチオエステル
の複素環にアミノ基か存在してし、該チオエステルは自
己反応しないことか判明した。したかって、後の弐■の
化合物との反応におけるアミノ基の保護は必要かない。
他方、所望により、これが別の理由で反応に望ましいな
らばアミノ基を保護することもできる。
のタイプは制限的でなく、好ましい化合物は形成の容易
さおよび出発物質の入手可能性のようなファクターで決
定される。しかしなから好ましくは、鎖環は2−ピリジ
ルまたはとくに2−ベンゾチアゾリルまたはチアゾリル
とすることD\できる。
式■の好ましい化合物は式: で示されるものである。
式■の化合物は式: R1−CH2C0OH(V) [式中、R,”は前記と同じ意味。二 で示される化合物を式: て示される化合物と反応させることによって製造するこ
とができる。
この反応は、好ましくはトリ(低板アルキル)−または
トリ(アリール)−ホスフィンまたはホスファイト、と
くにトリフェニルホスフィンの存在下、七しyt’h7
.−kl  ノIJ  ’)l’l−y :l’16/
”  L/+−Q0〜÷25°Cで行なわれる。好まし
くは、ヒドロキノ基を含まない不活性溶媒、例えばジク
ロロメタンのような塩素化炭化水素か使用される。R1
“が保護アミノ基て;η換されj:、 >u素環である
式IVの化合物か所望の場合、該アミン保護基は反応の
前後で導入することかできる。
式Iの化合物は有用な抗生物質である。該化合物は例え
ば0.O1〜50μ9の心変での系列希釈テストにおけ
ろイン・ビトロ、および例えば0゜1−100彎/動物
体重1kgの用量で、種々の株、例えばスタフィロコッ
カス・アウレウス(s taphylococcus 
 aureus)、スタフィロコッカス◆ピオケネス(
S taphylococcus  pyogenes
)、スタフィロコッカス・フェカリス(S taphy
lococcus  raecalis)、エノエリヒ
ア・コリ(rシ5herichia  coli)、プ
ロテウス・ブルガリス(P roLeus  vulg
aris)、プロテウス・ミラヒリス(ProLeus
  m1rabilis)、プロテウスΦモルガニイ(
P roteus  moruganii)、ンゲラ・
ディセンチリア(Shigella  dysente
ria)、ンゲラ・フレックスネリ(Shigella
  flexneri)、アルカリゲネス・フェカリス
(Alcaligenes  f’X1ecalis)
、クレブシェラ・アエロケネス(Klebsiella
  aarogenes)、クレブシェラ・ニュウノミ
アエ(K 1ebsiella  pneunomia
e)、セラターマルセセンス(S erraLa  m
ar’cescens)、サルモネラ−ハイデルベルグ
(S almonella  I(eidelberg
)、サルモネラ・チフィムリウム(S almonel
la  typhimurium)、サルモネラ−xン
テリヂジス(S almonel 1aenLerit
idis)およびネイセリア・コリルホアエ(Meis
seria  gonorrhoae)を用いたマウス
におけるイン・ビボで示されるような抗菌活性を示す。
従って、該化合物は抗菌活性抗生物質として有用である
。この用途には、該用量はもちろん用いた化合物、投与
方法および所望の治療により広範に変化さ仕ることがで
きる。しかし、一般的には満足な結果は、好ましくは1
日当たり、1〜69の用量が得られるように、約0.2
5〜3gの分割した用量の化合物を1日2〜4回投与す
るか、または徐放性の形で投与する場合に得られる。
R3がC0OHの式Iの化合物は遊離酸形または薬理上
許容される塩の形で投与することができろ。かかる塩の
形は遊離酸形と同じオーダーの活性を有する。適当な塩
形にはアルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩、とくにナ
トリウム塩形のようなアルカリ金属塩か包含される。該
化合物は通常の医薬上許容される希釈剤および担体、お
よび所望により他の賦形剤と混合し、カプセルまたは注
入用製剤のような形で投与することができろ。
つぎに実施例をクトげて本発明をさらに詳しく説明オろ
。該実施例において、温度は全て摂氏で示す。
実施例1 7−(2−ヂエニルアセトアミド)セファロスポラン酸
ナトリウム塩1セフアロヂンニ (a)2−チェニル酢酸 2−ヘンジチアゾリルチオエ
ステル 1001のジクロロメタン中、Ll、39の2−ヂエニ
ル酢酸および30gのトリフェニルホスフィンの懸濁液
に、撹はん下室111Aで339の2.2°−かった固
体が沈澱した。混合物を約20℃で3時間位はんした。
反応の完了を薄層クロマロトゲラフイーで測定した。つ
いで得られた反応混合物を後の工程に直接用いろか、ま
たは0℃に冷却し、ろ過して標記化合物27g(93%
)を得た。
(b)7−(2−チェニルアセトアミド)セファロスポ
ラン酸ナトリウム塩 200aQのジクロロメタン中、229の7−アミツセ
フ70スボラン酸懸&l液に、22gのN、0−ヒス(
トリメチルシリル)アセトアミドを加えfこ。
混合物を25℃で2時間位はんして透明な溶液を得、こ
れを約20℃で実施例1(a)の標記化合物の懸濁液ま
たは単離した標記化合物1(a)のいずれかで処理した
。温度かわずかに上がり、該混合物を約20℃でさらに
80分間撹はんした。ついで、混合物を1OL+Cのア
セトンおよび2′rIQ、の水で処理しfこ。アセトン
中ナトリウム2−エチルへギサノエート(20g)溶液
の滴下により、標記化合物が容易にろ過可能な結晶形で
析出した。0°C燥した。精製形の標記化合物の収量は
319(91゜5%)であった。
実1i恒例2 7−〔1〜(IH)−テトラゾリルアセトアミド)−3
−C5−(2−メチル−1,3,4−チアノアゾリル)
チオメチル−3−セファム−4−カルボン酸[セファゾ
リンコ (a) 1−(i o)−テトラゾリル酢酸 2−ベン
ゾチアゾリル チオエステル 12.8gの1−(IH)−テトラゾリル酢酸を120
πQのジクロロメタンに懸濁し、トリフェニルポスフィ
ン30gで処理した。混合物を激しく撹はんし、18〜
23℃で339の2,2゛−ノチオビスニベンゾチアゾ
ール]で処理し几。反応混合物を約20°Cで・1時間
撹はんすると、淡黄色の結晶が析出した。得られfコ懸
副液は次の工程に直接用いることができろか、または0
°Cに冷却し、ろ過することもてきる。析出物を冷ノク
ロロメタンで洗浄し、真空下で乾燥して標記化合物25
g(90%)を得た。
(b) 7−E 1−(l H)−テトラゾリルアセト
アミド)−3−C5−(2−メヂル用、 3、−1−デ
アノアゾリル)チオメチル]−3−セフェムー4−カル
ボン酸250mσのジクロロメタン中、27.8gの7
−アミノ−3−[5−(2−メチル−1,3,4−デア
ノアゾリル)チオメチル]−3−セフェムー4−カルボ
ン酸の酸懸濁液に、269のN、O−ヒス(トリメチル
シリル)アセトアミドを加えた。混合物を25℃で2時
間撹はんし、18〜23℃で工作(a)の標記化合物の
懸濁液または工程(a)から単離した標記化合物のいず
れかで処理ずろと、発熱反応が生起した。該混合物を約
20℃でさらに120分間撹はんした。ついで、混合物
を100′!IQのメタノールで処理し、室温で5時間
撹はんすると、無色結晶の標記化合物が析出した。2時
間0°Cて冷却して該結晶をろ過し、冷メタノール、つ
いてアセトンで洗浄した。真空下で乾燥後、32g(8
7%)の標記化合物が得られた。
実施例3 7−(2−チェニルアセトアミド)−3−C5−(2−
メチル−1,3,4−チアジアゾリル)チオメチル]−
3−セフェムー4−カルボン酸ナトリウム塩3001!
IQのジクロロメタン中、27.69の7−アミノ−3
−C5−(2−メチル−1,3,4−チアノアゾリル)
ヂオメチル]−3−セフェム−・1−カルボン酸の懸濁
液に、26gのN、0−ヒス(トリメチルシリル)アセ
トアミドを加えた。混合物を25〜30°Cで2時間撹
はんし、18℃に冷却し、ついで実施例】(a)の標記
化合物の懸濁液または実施例1(a)から単離した標記
化合物のいずれかで処理すると、穏やかな発熱反応が生
起した。反応混合物を約20℃でさらに100分間撹は
んし、ついで、150!1f)のアセトンおよび3,1
Qの水で処理した。撹はん下にアセトン50mQ、中ナ
トリウム2−エヂルヘキサノエーt−(20g)溶液の
添加により、標記化合物が析出した。析出物をろ過し、
アセトンで洗浄して標記化合物369(93%)を得た
生成物を3(JmQの水に溶解し、活性炭で処理し、7
50πQのエタノールを淡黄色ろ液に添加して精1−1
1イIIS/7+41・Jl”7’lt’、qli’1
M1jイに)−phph<≦::、(1,tk+ナー−
N?vLR(D、O)ニア、3および7.0(3r(,
2m;チェニル−プロトン);5 、 60(l l−
1,dj= 5 Hz。
C7−1−1);5 、 02(L H,d、j= 5
 Hz、Ce−[();442および4.00(2H,
Al3q、J=I4t(z、C3−CHI):3.88
(2H,S、チェニル−CI−L):3゜66および3
.30(2H,ABq、J= 18Hz、C2−CH2
);2.72(3H,S、チアジアゾリン−CH*) 実施例11 7−(2−チェニルアセトアミド)−3−C5−(1−
メチル−1,2,3,4−テトラゾリル)チオメチルニ
ー3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩300皮
Qのジクロロメタン中、26.29の7−アミノ−3−
[5−(+−メチル−1,2,3,,1−テトラゾリル
)チオメチルヨー3−セフェム−・1−カルボン酸の懸
濁液に、26gのN、O−ビス(1−リメヂルンリル)
アセトアミドを加えに。混合物を25〜30°Cて2時
間撹はんし、得られた透明溶液を約18°Cに4却し、
実施例1(a)の標記化合物の懸δa液または実施例+
 (a)から!)1離した漂記化合物のいずれかで処理
した。室温で1時間位はん後、赤味がかった透明溶液を
エタノール200τQ中ナトリウム2−エチルヘキザノ
ール209および水39の7でt夜で処理オろと、標記
化合物が聞出しfこ。ろ過少、エタノールで洗浄し、乾
燥して337gの標記化合物を得た。
N:’vlR(DtO)、ニア、3および7.0(3H
,2m;チェニル−プロトン): 5 、 45 (I
 II 、d、j= 51−[z。
C7−11):5,02(I H,dj=511z、c
o−H):4゜30および4.07(2H,A[3Q、
J=I4I−iz、C3−CI、);4.00(31−
1s、N−Cl−13);3.86(21(、S、チェ
ニル−C112);3.68および336(2+1.A
Bq、、J二I 8 [I Z、 C2−CI−t 、
)実j点例5 7−(2−ヂエニルアセトアミド)−3−メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩250yQのジ
クロロメタン中、17.29の7−アミノ−3−デスア
セトキノセファ0スボラン酸の懸濁液に、269のN 
、 O−ヒス(トリメチルノリル)アセトアミドを加え
た。25〜30℃で2時間位はん後、得られ7こほぼ透
明な溶液を約18°Cに冷却し、実施例1 (a)の標
記化合物の懸濁液または実在例1 (a)から単離した
標記化合物のいずれかで処理した。室温で2時間位はん
後、100m(lのアセトンおよび3gの水を加え、混
合物を真空下で蒸発さ仕た。残さを100Rf7のアセ
トン/水(1:1)に取り、活性炭で処理し、ろ過した
。ろ液を300xQのアセトンおよびloomf2の2
0%ナトリウム2−エチルヘキサノエート溶液で処理す
ると、標記化合物か析出した。収量229(76%)。
NMrl(D、O):、7.30および7.00(30
゜2m;チェニルプロトン):5.56(II−1,d
、j=5[1z、C,−H);5 、00(l I−1
,dj= 514z、Ca−H);3,85(2H,S
、チェニル−CI(2);3 、47および3.10(
2H,ABq、J=i8Hz、C,−CH、);1.9
3(3H,S、C3−CI−13)実施例6 7−(2−チェニルアミド)−3−メトキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩実施例5と同
様の方法において、7−アミノ−3−デスアセトキノセ
ファロスポラン酸の代わりに19.5gの7−アミノ−
3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸を
用い、無色結晶の標記化合物を得た。収量26.59(
83%)。
NMR(DtO)ニア、30および7.00(314゜
2m;ヂエニルプロトン);5.64(LH,d、j=
5Hz、C7+−1):  D  。  I  0(I
II、dj=51(z、C,−H);4.23(2H,
S、C3−C112):3.88(2H。
S、チェニル−C14t);3 、 55および3.3
5(211、ABq、、J=  1 8Hz、C2−C
H2);3.  3 8(3H1S 、OC1−1,) 特許出願人 ビオヘミ−・ゲゼルノヤフト・ミツト・ペ
ンユリンクテル・ ハフラング

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 R_1は所望によりアミノで置換されていてもよい5員
    の、酸素−、窒素および/または硫黄−含有複素環式基
    、 R_2は水素、アセトキシ、メトキシ、カルバモイルオ
    キシ、−S−Y基(Yは非置換または置換複素環式基)
    またはR_2は式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R_4およびR_5は各々独立して水素、ハロ
    ゲン、アルキル、ヒドロキシ、カボキシアミド、アルコ
    キシカルボニル、アミノ、モノアルキルアミノまたはジ
    アルキルアミノ、あるいは一緒になって所望により置換
    されていてもよい5または6員の炭素環式基を意味する
    。] で示される所望により置換されていてもよいピリジニウ
    ム、 R_3はカルボキシ、カルボキシレートまたはカルボン
    酸エステル基を意味する。] で示される化合物またはその医薬上許容される塩を製造
    するにあたり、式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) および/または式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IVa) [式中、 R_1”は所望によりアミノまたは保護されたアミノで
    置換されていてもよい5員の酸素−、窒素および/また
    は硫黄−含有複素環式基、 ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
    式、表等があります▼は、各々5または6員の複素環式
    基(該環は、窒素原子に加え、さらに酸素、窒素または
    硫黄から選ばれる1または2個のヘテロ原子を有しても
    よく、また置換されてもよく、所望により置換されてい
    てもよいベンゼン環と縮合してもよい)を意味する。] で示される化合物を式: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、R_2は前記と同じ意味、R_6は水素または
    アミノ保護基、R_3’はカルボキシ、保護されたカル
    ボキシ基、カルボキシレートまたはカルボン酸エステル
    基を意味する。] で示される化合物と反応させ、要すれば得られた化合物
    を脱保護し、所望により得られた化合物(R_3がCO
    OH)をその塩に変換するか、またはその逆を行うこと
    を特徴とする製法。 2、式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) [式中、 R_1’は2−チエニルまたは1−(1H)テトラゾリ
    ル、 R_2’は水素、アセトキシまたは−S−Y(Yは2−
    メチル−1,3,4−チアジアゾール−5−イルまたは
    1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)、 R_3’はカルボキシまたはカルボキシレートを意味す
    る。] で示される化合物またはその医薬上許容される塩を製造
    する特許請求の範囲第1項記載の製法。 3、式IVの化合物において、▲数式、化学式、表等があ
    ります▼が2−ベンゾチアゾリルである特許請求の範囲
    第1項記載の製法。 4、特許請求の範囲第1項記載の式IVの化合物を製造す
    るにあたり、式: R_1”−CH_2−COOH (V) [式中、R_1”は特許請求の範囲第1項と同じ意味。 ]で示される化合物を式: ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) [式中、2つの▲数式、化学式、表等があります▼基は
    同じであって、特許請求の範囲第1項と同じ意味。] で示される化合物を反応させることを特徴とする製法。 5、特許請求の範囲第1項記載の式IVの化合物。 6、式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IVb) [式中、R_1”は2−チエニルまたは1−(1H)テ
    トラゾリル、▲数式、化学式、表等があります▼は特許
    請求の範囲第1項と同じ意味。] で示される化合物。 7、2−チエニル酢酸 2−ベンゾチアゾリルチオエス
    テルである特許請求の範囲第5項記載の化合物。 8、1−(1H)テトラゾリル酢酸2−ベンゾチアジア
    ゾリル チオエステルである特許請求の範囲第5項記載
    の化合物。
JP61276380A 1985-11-20 1986-11-19 セフアロスポリン抗生物質の製法 Pending JPS62135477A (ja)

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