JPS62135477A - セフアロスポリン抗生物質の製法 - Google Patents
セフアロスポリン抗生物質の製法Info
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- JPS62135477A JPS62135477A JP61276380A JP27638086A JPS62135477A JP S62135477 A JPS62135477 A JP S62135477A JP 61276380 A JP61276380 A JP 61276380A JP 27638086 A JP27638086 A JP 27638086A JP S62135477 A JPS62135477 A JP S62135477A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はセファロスポリン抗生物質の製法、そ9製法に
用いられる新規中間体およびその製法に関する。
用いられる新規中間体およびその製法に関する。
二発明の記f&1
本発明は式:
で示されるセファロスポリンの新規な製法を提供する。
もよい5員の、酸素−1望素および/まr=ま硫黄−含
有複素環式基、 R2は水素、アセトキシ、メトキノ、カルバモイルオキ
シ、−s −’1’基(Yは非置換または置換複素環式
基)または式: [式中、R4およびR6は各々独立して水素、ハロゲン
、アルキル、ヒドロキシ、カボギシアミド、アルコキシ
カルボニル、アミノ、モノアルキルアミノ あるいは−緒になって所望により置換されていてもよい
5または6員の炭素環式基を意味する。コ で示される所望により置換されていてもよいピリジニウ
ム、 R,はカルボキシ、カルボキシレートまたはカルボン酸
エステル基を意味する。] 式■の化合物は公知の群に属する有用なセファロスポリ
ン抗生物質である。
有複素環式基、 R2は水素、アセトキシ、メトキノ、カルバモイルオキ
シ、−s −’1’基(Yは非置換または置換複素環式
基)または式: [式中、R4およびR6は各々独立して水素、ハロゲン
、アルキル、ヒドロキシ、カボギシアミド、アルコキシ
カルボニル、アミノ、モノアルキルアミノ あるいは−緒になって所望により置換されていてもよい
5または6員の炭素環式基を意味する。コ で示される所望により置換されていてもよいピリジニウ
ム、 R,はカルボキシ、カルボキシレートまたはカルボン酸
エステル基を意味する。] 式■の化合物は公知の群に属する有用なセファロスポリ
ン抗生物質である。
R1における)(素環式シよ(は前記したように1つ以
上の酸素、硫黄および/まf二:ま窒素原子をへテロ、
甲子として含む。適当な曳索環式基には、例えばピラゾ
リル、フリル、ヂエニル、デアゾリル、チアジアゾリル
、テトラゾリル、オキサシリルおよびオキサジアゾリル
が包含されろ。複素環式環は非置換またはアミノて置換
されてらよい。好よしくはR1はチェニルまたは(10
)−テトラゾリルである。
上の酸素、硫黄および/まf二:ま窒素原子をへテロ、
甲子として含む。適当な曳索環式基には、例えばピラゾ
リル、フリル、ヂエニル、デアゾリル、チアジアゾリル
、テトラゾリル、オキサシリルおよびオキサジアゾリル
が包含されろ。複素環式環は非置換またはアミノて置換
されてらよい。好よしくはR1はチェニルまたは(10
)−テトラゾリルである。
R,は水素とすることかできる。まfこ、カルバモイル
オキシであってらよい。R,は好ましくはアセトキノ、
−S−Yまたは所望により置換されていてもよいピリジ
ニウムである。Yとしての適当な複素環式環は公知であ
る。好ましい複素環式環は、例えばチアノアゾリル、ノ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアゾリル、
チアトリアゾリル、オキサシリル、オキサノアゾリル、
トリアゾリルピリジル、プリニル、ピリノル、ピリミジ
ニル、ピリダジニル、ピラゾリルおよびトリアノニルで
ある。これらの複素環式環は非置換または、例えば3回
まで置換されもよい。適当な置換基には炭素数1〜4の
アルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、ハロゲン、トリ
ハロー炭素ml〜4のアルキル、ヒドロキシ、オキソ、
メルカプト、アミノ、カルボキン、カルバモイル、ジ−
炭素数1〜4のアルキルアミノ、カルボキシメチル、カ
ルバモイルメチル、スルホメチル、およびメトキノカル
ボニルアミノが包含されろ。文献に特に好ましいと記載
されている複素環式環はテトラゾリル、とくにl−メチ
ル−IH−テトラゾール−5−イル、チアジアゾリル、
とくに1.2.3−チアジアゾール−5−イル、2−メ
チル−1.3.4−チアジアゾール−5−イルおよびト
リアジニル、とくに1、2,5.6−テトラヒドロ−2
−メチル−5.6−シオキソーasートリアジンー3ー
イル、2.5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル
−5−オキソ−as−トリアジン−3−イルまたは1.
4。
オキシであってらよい。R,は好ましくはアセトキノ、
−S−Yまたは所望により置換されていてもよいピリジ
ニウムである。Yとしての適当な複素環式環は公知であ
る。好ましい複素環式環は、例えばチアノアゾリル、ノ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアゾリル、
チアトリアゾリル、オキサシリル、オキサノアゾリル、
トリアゾリルピリジル、プリニル、ピリノル、ピリミジ
ニル、ピリダジニル、ピラゾリルおよびトリアノニルで
ある。これらの複素環式環は非置換または、例えば3回
まで置換されもよい。適当な置換基には炭素数1〜4の
アルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、ハロゲン、トリ
ハロー炭素ml〜4のアルキル、ヒドロキシ、オキソ、
メルカプト、アミノ、カルボキン、カルバモイル、ジ−
炭素数1〜4のアルキルアミノ、カルボキシメチル、カ
ルバモイルメチル、スルホメチル、およびメトキノカル
ボニルアミノが包含されろ。文献に特に好ましいと記載
されている複素環式環はテトラゾリル、とくにl−メチ
ル−IH−テトラゾール−5−イル、チアジアゾリル、
とくに1.2.3−チアジアゾール−5−イル、2−メ
チル−1.3.4−チアジアゾール−5−イルおよびト
リアジニル、とくに1、2,5.6−テトラヒドロ−2
−メチル−5.6−シオキソーasートリアジンー3ー
イル、2.5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル
−5−オキソ−as−トリアジン−3−イルまたは1.
4。
5、6−チトラヒドロー・1−メチル−5.6−シオキ
ソーaSートリアノンー3ーイルである。R,は好まし
くはアセトキノ、l−メチル−III−テトラ′ゾール
ー5ーイルチオ、ピリジニウム士f二(ま2−メチル−
1.3.4−チアノアゾリル−5−チオである。
ソーaSートリアノンー3ーイルである。R,は好まし
くはアセトキノ、l−メチル−III−テトラ′ゾール
ー5ーイルチオ、ピリジニウム士f二(ま2−メチル−
1.3.4−チアノアゾリル−5−チオである。
セファロスポリンの分野で知られているように、該化合
物は遊離酸(R3= C O O It)まfこは塩の
形、例えばアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、
好ましくはナトリウム塩のようなアルカリ金属塩で存在
し得る。また、該化合物はエステル形、例えばピバロイ
ルオキツメチル−エステルであってもよい。他のエステ
ル形成残基の例はアセトキンエチル、l−アセトキンエ
チル、1−エトキシ力ルポニルオキシエヂル、5−イン
ダノイルであって、好ましくはヘキザノイルメヂル、フ
タリジル、カルボエトキシメトキンメチルまたは3−カ
ルボエトキシ−1−アセトニルである。R,か所望によ
り置換されていてらよいピリジニウム括である場合、式
Iの化合物はまた分子内塩として存在4−ることかでき
る。
物は遊離酸(R3= C O O It)まfこは塩の
形、例えばアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、
好ましくはナトリウム塩のようなアルカリ金属塩で存在
し得る。また、該化合物はエステル形、例えばピバロイ
ルオキツメチル−エステルであってもよい。他のエステ
ル形成残基の例はアセトキンエチル、l−アセトキンエ
チル、1−エトキシ力ルポニルオキシエヂル、5−イン
ダノイルであって、好ましくはヘキザノイルメヂル、フ
タリジル、カルボエトキシメトキンメチルまたは3−カ
ルボエトキシ−1−アセトニルである。R,か所望によ
り置換されていてらよいピリジニウム括である場合、式
Iの化合物はまた分子内塩として存在4−ることかでき
る。
特に好ましい式Iの化合物は式:
二式中、
R3゛は2−チェニルまf二はI−(IH)テトラゾリ
ル、 Rz’は水素、アセトキシまfこは−9−Y(Yは2−
メチル−1,3,4−チアジアゾール−5−イルまfこ
は1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)、 R3”はカルボキシまたはカルボキシレートを意味する
。] て示される化合物である。
ル、 Rz’は水素、アセトキシまfこは−9−Y(Yは2−
メチル−1,3,4−チアジアゾール−5−イルまfこ
は1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)、 R3”はカルボキシまたはカルボキシレートを意味する
。] て示される化合物である。
前記しfこように、式Iの化合物は公知であって、その
製法は種々提案されている。こ7.tらの製法の1つに
は対応する所望により保護さl、−fニア−アミノセフ
ァ0スボラン酸誘導体を式: %式%() [式中、R1は前記と同じ意味。] で示される酸の反応性誘導体でアシル化することが包含
される。
製法は種々提案されている。こ7.tらの製法の1つに
は対応する所望により保護さl、−fニア−アミノセフ
ァ0スボラン酸誘導体を式: %式%() [式中、R1は前記と同じ意味。] で示される酸の反応性誘導体でアシル化することが包含
される。
かかるアシル化はしばしば低温(−30〜0℃)で行な
う必要がある。副生物の形成および脱色1ノ\しばしば
起こり、そのためわずられしい精製工程か必要になる。
う必要がある。副生物の形成および脱色1ノ\しばしば
起こり、そのためわずられしい精製工程か必要になる。
さらに、公知方法は、R,かアミノ置換基を有する複素
環である場合には、競合反応が目的生成物収率の大幅な
減少をもたらすので後者を酸性基の活性化前に保護しな
ければならないという欠点によって特徴付けられる。ア
シル化工程前の保護基の導入およびその後の該保護基の
除去は一般に収率の減少および目的生成物の純度の減少
並びに反応時間、エネルギー、労苦およびコストの著し
い増加が伴う。
環である場合には、競合反応が目的生成物収率の大幅な
減少をもたらすので後者を酸性基の活性化前に保護しな
ければならないという欠点によって特徴付けられる。ア
シル化工程前の保護基の導入およびその後の該保護基の
除去は一般に収率の減少および目的生成物の純度の減少
並びに反応時間、エネルギー、労苦およびコストの著し
い増加が伴う。
本発明は、式Iの化合物の改善されfこ製法を提fJ’
する。該方法は経済的であって、式Iの化合物を高収率
および高純度で製造することができろ。
する。該方法は経済的であって、式Iの化合物を高収率
および高純度で製造することができろ。
加えて、所望により存在する残基R2のアミノ置換基は
保護する必要がない。
保護する必要がない。
さらに具体的には、本発明は式:
%式%
二式中、
R1”は所望によりアミノまf二は保護されrニアミノ
て置換されていてもよい5員の酸素−1窒素および/ま
たは硫黄−含有複素環式基、 素環式基(該環は、窒素原子に加え、さらに酸素、窒素
または硫黄−から選ばれる1または2個のヘテロ原子を
有してもよく、また置換されてもよく、所望により置換
されていてもよいベンゼン環と縮合してもよい)を意味
する。] で示される化合物を式。
て置換されていてもよい5員の酸素−1窒素および/ま
たは硫黄−含有複素環式基、 素環式基(該環は、窒素原子に加え、さらに酸素、窒素
または硫黄−から選ばれる1または2個のヘテロ原子を
有してもよく、また置換されてもよく、所望により置換
されていてもよいベンゼン環と縮合してもよい)を意味
する。] で示される化合物を式。
3式中、R3は前記と同じ色味、R8は水素またはアミ
ノ保護基、R2゛はカルボキシ、保護されたカルボキシ
基、カルボキンレートまたはカルボン酸エステル基を色
味する。] て示される化合物と反応させ、要すれば得られた化合物
を脱保護し、所望により得られた化合物(R3がCoo
l−1)をその塩に変換するか、またはその逆を行うこ
とからなろ式Iの化合物およびその塩の製法を提供する
。
ノ保護基、R2゛はカルボキシ、保護されたカルボキシ
基、カルボキンレートまたはカルボン酸エステル基を色
味する。] て示される化合物と反応させ、要すれば得られた化合物
を脱保護し、所望により得られた化合物(R3がCoo
l−1)をその塩に変換するか、またはその逆を行うこ
とからなろ式Iの化合物およびその塩の製法を提供する
。
式■の化合物はまた式IVaの形で存在することしてき
、その際2つの形の化合物の比率は反応成分および反応
条件に依存して変る。都合上、式■の化合物は式■aの
構造を有する化合物を包含する乙のと考えることにする
。
、その際2つの形の化合物の比率は反応成分および反応
条件に依存して変る。都合上、式■の化合物は式■aの
構造を有する化合物を包含する乙のと考えることにする
。
該方法は、好ましくは不活性溶媒または該溶媒と水の混
合物、例えばエタノールのような低板アルコール、ジク
ロロメタンのような塩素化炭化水素、酢酸エチルのよう
な酸エステル、アセトン、ジメヂルポルムアミドまたは
ノメチルスルホキシド中で行なわれる。反応温度は、好
ましくは−40〜−60°C1とくに一15〜+25℃
、とくに0〜20℃である。反応時1i、iJは約数9
〜48時間である。弐mおよび弐■の反応体は化学量論
量で用いるのが好適である。また25%過剰までの式■
の化合物を用いるのも好適で)ろ。
合物、例えばエタノールのような低板アルコール、ジク
ロロメタンのような塩素化炭化水素、酢酸エチルのよう
な酸エステル、アセトン、ジメヂルポルムアミドまたは
ノメチルスルホキシド中で行なわれる。反応温度は、好
ましくは−40〜−60°C1とくに一15〜+25℃
、とくに0〜20℃である。反応時1i、iJは約数9
〜48時間である。弐mおよび弐■の反応体は化学量論
量で用いるのが好適である。また25%過剰までの式■
の化合物を用いるのも好適で)ろ。
R3かG OOr−1およびその塩である式Iの化合物
を製造する場合、式■のカルボン酸基は保護することか
てきる。適当な保護基は公知であって、エステル基につ
いて可能な定義として前記したようなしのばかりでなく
、シリルエステル保護基、とくにトリメチルノリル基が
包含されるが、これは例えば遊離酸とN 、 O−ビス
−トリメデルシリルアセトアミドとの反応によって導入
することができる。
を製造する場合、式■のカルボン酸基は保護することか
てきる。適当な保護基は公知であって、エステル基につ
いて可能な定義として前記したようなしのばかりでなく
、シリルエステル保護基、とくにトリメチルノリル基が
包含されるが、これは例えば遊離酸とN 、 O−ビス
−トリメデルシリルアセトアミドとの反応によって導入
することができる。
式■の出発物質の7−アミノ基らまた保護することがで
きる。適当な保護基は公知であって、例えばトリメチル
シリル基が包含され、これは例えばカルボン酸基の保護
と同時に導入される。
きる。適当な保護基は公知であって、例えばトリメチル
シリル基が包含され、これは例えばカルボン酸基の保護
と同時に導入される。
弐■の化合物においてR1”がアミノ置換基を有する複
素環式環である場合、出発物質のアミノ活は遊離または
保護形とすることかて3る。前記したように、残2rk
n 、”のアミンの保護は必要でない。
素環式環である場合、出発物質のアミノ活は遊離または
保護形とすることかて3る。前記したように、残2rk
n 、”のアミンの保護は必要でない。
しかしながら、保護が所望ならば、こシーは公知の保護
基を用い公知の方法で行うことができる。
基を用い公知の方法で行うことができる。
式■の化合物と弐■の化合物との反応後の脱保護は常法
で行うことができろ。同様に、遊離酸(R、== CO
OH)のその塩への変換は常法で行なうことができる。
で行うことができろ。同様に、遊離酸(R、== CO
OH)のその塩への変換は常法で行なうことができる。
目的生成物は常法で単離および精製することかできる。
本発明の方法において、弐■の複素環式チオエステルは
式Aの酸の反応性誘導体として使用できる。式■の化合
物は新規であって、本発明の一部を構成する。該化合物
は式■の化合物のアノル化に使用でき、それによって式
Iのセファロスポリンを高収率および高純度で製造でき
る有用な中間体である。さらに、本発明の利点は式■の
反応性中間体が純粋な結晶形で製造することがてき、例
えば弐■の化合物との反応に用い得ることである。
式Aの酸の反応性誘導体として使用できる。式■の化合
物は新規であって、本発明の一部を構成する。該化合物
は式■の化合物のアノル化に使用でき、それによって式
Iのセファロスポリンを高収率および高純度で製造でき
る有用な中間体である。さらに、本発明の利点は式■の
反応性中間体が純粋な結晶形で製造することがてき、例
えば弐■の化合物との反応に用い得ることである。
要すれば、式■の化合物を単離しないで、弐mの化合物
と直接反応させることもてきる。本発明の別の利点は全
ての処理工程、すなわち弐■の中間体の製造並びにその
式mの化合物との反応工程は低い反応温度を用いずに通
常の温度で行うことができる。
と直接反応させることもてきる。本発明の別の利点は全
ての処理工程、すなわち弐■の中間体の製造並びにその
式mの化合物との反応工程は低い反応温度を用いずに通
常の温度で行うことができる。
さらに加えて、驚くべきことに、二ltらチオエステル
の複素環にアミノ基か存在してし、該チオエステルは自
己反応しないことか判明した。したかって、後の弐■の
化合物との反応におけるアミノ基の保護は必要かない。
の複素環にアミノ基か存在してし、該チオエステルは自
己反応しないことか判明した。したかって、後の弐■の
化合物との反応におけるアミノ基の保護は必要かない。
他方、所望により、これが別の理由で反応に望ましいな
らばアミノ基を保護することもできる。
らばアミノ基を保護することもできる。
のタイプは制限的でなく、好ましい化合物は形成の容易
さおよび出発物質の入手可能性のようなファクターで決
定される。しかしなから好ましくは、鎖環は2−ピリジ
ルまたはとくに2−ベンゾチアゾリルまたはチアゾリル
とすることD\できる。
さおよび出発物質の入手可能性のようなファクターで決
定される。しかしなから好ましくは、鎖環は2−ピリジ
ルまたはとくに2−ベンゾチアゾリルまたはチアゾリル
とすることD\できる。
式■の好ましい化合物は式:
で示されるものである。
式■の化合物は式:
R1−CH2C0OH(V)
[式中、R,”は前記と同じ意味。二
で示される化合物を式:
て示される化合物と反応させることによって製造するこ
とができる。
とができる。
この反応は、好ましくはトリ(低板アルキル)−または
トリ(アリール)−ホスフィンまたはホスファイト、と
くにトリフェニルホスフィンの存在下、七しyt’h7
.−kl ノIJ ’)l’l−y :l’16/
” L/+−Q0〜÷25°Cで行なわれる。好まし
くは、ヒドロキノ基を含まない不活性溶媒、例えばジク
ロロメタンのような塩素化炭化水素か使用される。R1
“が保護アミノ基て;η換されj:、 >u素環である
式IVの化合物か所望の場合、該アミン保護基は反応の
前後で導入することかできる。
トリ(アリール)−ホスフィンまたはホスファイト、と
くにトリフェニルホスフィンの存在下、七しyt’h7
.−kl ノIJ ’)l’l−y :l’16/
” L/+−Q0〜÷25°Cで行なわれる。好まし
くは、ヒドロキノ基を含まない不活性溶媒、例えばジク
ロロメタンのような塩素化炭化水素か使用される。R1
“が保護アミノ基て;η換されj:、 >u素環である
式IVの化合物か所望の場合、該アミン保護基は反応の
前後で導入することかできる。
式Iの化合物は有用な抗生物質である。該化合物は例え
ば0.O1〜50μ9の心変での系列希釈テストにおけ
ろイン・ビトロ、および例えば0゜1−100彎/動物
体重1kgの用量で、種々の株、例えばスタフィロコッ
カス・アウレウス(s taphylococcus
aureus)、スタフィロコッカス◆ピオケネス(
S taphylococcus pyogenes
)、スタフィロコッカス・フェカリス(S taphy
lococcus raecalis)、エノエリヒ
ア・コリ(rシ5herichia coli)、プ
ロテウス・ブルガリス(P roLeus vulg
aris)、プロテウス・ミラヒリス(ProLeus
m1rabilis)、プロテウスΦモルガニイ(
P roteus moruganii)、ンゲラ・
ディセンチリア(Shigella dysente
ria)、ンゲラ・フレックスネリ(Shigella
flexneri)、アルカリゲネス・フェカリス
(Alcaligenes f’X1ecalis)
、クレブシェラ・アエロケネス(Klebsiella
aarogenes)、クレブシェラ・ニュウノミ
アエ(K 1ebsiella pneunomia
e)、セラターマルセセンス(S erraLa m
ar’cescens)、サルモネラ−ハイデルベルグ
(S almonella I(eidelberg
)、サルモネラ・チフィムリウム(S almonel
la typhimurium)、サルモネラ−xン
テリヂジス(S almonel 1aenLerit
idis)およびネイセリア・コリルホアエ(Meis
seria gonorrhoae)を用いたマウス
におけるイン・ビボで示されるような抗菌活性を示す。
ば0.O1〜50μ9の心変での系列希釈テストにおけ
ろイン・ビトロ、および例えば0゜1−100彎/動物
体重1kgの用量で、種々の株、例えばスタフィロコッ
カス・アウレウス(s taphylococcus
aureus)、スタフィロコッカス◆ピオケネス(
S taphylococcus pyogenes
)、スタフィロコッカス・フェカリス(S taphy
lococcus raecalis)、エノエリヒ
ア・コリ(rシ5herichia coli)、プ
ロテウス・ブルガリス(P roLeus vulg
aris)、プロテウス・ミラヒリス(ProLeus
m1rabilis)、プロテウスΦモルガニイ(
P roteus moruganii)、ンゲラ・
ディセンチリア(Shigella dysente
ria)、ンゲラ・フレックスネリ(Shigella
flexneri)、アルカリゲネス・フェカリス
(Alcaligenes f’X1ecalis)
、クレブシェラ・アエロケネス(Klebsiella
aarogenes)、クレブシェラ・ニュウノミ
アエ(K 1ebsiella pneunomia
e)、セラターマルセセンス(S erraLa m
ar’cescens)、サルモネラ−ハイデルベルグ
(S almonella I(eidelberg
)、サルモネラ・チフィムリウム(S almonel
la typhimurium)、サルモネラ−xン
テリヂジス(S almonel 1aenLerit
idis)およびネイセリア・コリルホアエ(Meis
seria gonorrhoae)を用いたマウス
におけるイン・ビボで示されるような抗菌活性を示す。
従って、該化合物は抗菌活性抗生物質として有用である
。この用途には、該用量はもちろん用いた化合物、投与
方法および所望の治療により広範に変化さ仕ることがで
きる。しかし、一般的には満足な結果は、好ましくは1
日当たり、1〜69の用量が得られるように、約0.2
5〜3gの分割した用量の化合物を1日2〜4回投与す
るか、または徐放性の形で投与する場合に得られる。
。この用途には、該用量はもちろん用いた化合物、投与
方法および所望の治療により広範に変化さ仕ることがで
きる。しかし、一般的には満足な結果は、好ましくは1
日当たり、1〜69の用量が得られるように、約0.2
5〜3gの分割した用量の化合物を1日2〜4回投与す
るか、または徐放性の形で投与する場合に得られる。
R3がC0OHの式Iの化合物は遊離酸形または薬理上
許容される塩の形で投与することができろ。かかる塩の
形は遊離酸形と同じオーダーの活性を有する。適当な塩
形にはアルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩、とくにナ
トリウム塩形のようなアルカリ金属塩か包含される。該
化合物は通常の医薬上許容される希釈剤および担体、お
よび所望により他の賦形剤と混合し、カプセルまたは注
入用製剤のような形で投与することができろ。
許容される塩の形で投与することができろ。かかる塩の
形は遊離酸形と同じオーダーの活性を有する。適当な塩
形にはアルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩、とくにナ
トリウム塩形のようなアルカリ金属塩か包含される。該
化合物は通常の医薬上許容される希釈剤および担体、お
よび所望により他の賦形剤と混合し、カプセルまたは注
入用製剤のような形で投与することができろ。
つぎに実施例をクトげて本発明をさらに詳しく説明オろ
。該実施例において、温度は全て摂氏で示す。
。該実施例において、温度は全て摂氏で示す。
実施例1
7−(2−ヂエニルアセトアミド)セファロスポラン酸
ナトリウム塩1セフアロヂンニ (a)2−チェニル酢酸 2−ヘンジチアゾリルチオエ
ステル 1001のジクロロメタン中、Ll、39の2−ヂエニ
ル酢酸および30gのトリフェニルホスフィンの懸濁液
に、撹はん下室111Aで339の2.2°−かった固
体が沈澱した。混合物を約20℃で3時間位はんした。
ナトリウム塩1セフアロヂンニ (a)2−チェニル酢酸 2−ヘンジチアゾリルチオエ
ステル 1001のジクロロメタン中、Ll、39の2−ヂエニ
ル酢酸および30gのトリフェニルホスフィンの懸濁液
に、撹はん下室111Aで339の2.2°−かった固
体が沈澱した。混合物を約20℃で3時間位はんした。
反応の完了を薄層クロマロトゲラフイーで測定した。つ
いで得られた反応混合物を後の工程に直接用いろか、ま
たは0℃に冷却し、ろ過して標記化合物27g(93%
)を得た。
いで得られた反応混合物を後の工程に直接用いろか、ま
たは0℃に冷却し、ろ過して標記化合物27g(93%
)を得た。
(b)7−(2−チェニルアセトアミド)セファロスポ
ラン酸ナトリウム塩 200aQのジクロロメタン中、229の7−アミツセ
フ70スボラン酸懸&l液に、22gのN、0−ヒス(
トリメチルシリル)アセトアミドを加えfこ。
ラン酸ナトリウム塩 200aQのジクロロメタン中、229の7−アミツセ
フ70スボラン酸懸&l液に、22gのN、0−ヒス(
トリメチルシリル)アセトアミドを加えfこ。
混合物を25℃で2時間位はんして透明な溶液を得、こ
れを約20℃で実施例1(a)の標記化合物の懸濁液ま
たは単離した標記化合物1(a)のいずれかで処理した
。温度かわずかに上がり、該混合物を約20℃でさらに
80分間撹はんした。ついで、混合物を1OL+Cのア
セトンおよび2′rIQ、の水で処理しfこ。アセトン
中ナトリウム2−エチルへギサノエート(20g)溶液
の滴下により、標記化合物が容易にろ過可能な結晶形で
析出した。0°C燥した。精製形の標記化合物の収量は
319(91゜5%)であった。
れを約20℃で実施例1(a)の標記化合物の懸濁液ま
たは単離した標記化合物1(a)のいずれかで処理した
。温度かわずかに上がり、該混合物を約20℃でさらに
80分間撹はんした。ついで、混合物を1OL+Cのア
セトンおよび2′rIQ、の水で処理しfこ。アセトン
中ナトリウム2−エチルへギサノエート(20g)溶液
の滴下により、標記化合物が容易にろ過可能な結晶形で
析出した。0°C燥した。精製形の標記化合物の収量は
319(91゜5%)であった。
実1i恒例2
7−〔1〜(IH)−テトラゾリルアセトアミド)−3
−C5−(2−メチル−1,3,4−チアノアゾリル)
チオメチル−3−セファム−4−カルボン酸[セファゾ
リンコ (a) 1−(i o)−テトラゾリル酢酸 2−ベン
ゾチアゾリル チオエステル 12.8gの1−(IH)−テトラゾリル酢酸を120
πQのジクロロメタンに懸濁し、トリフェニルポスフィ
ン30gで処理した。混合物を激しく撹はんし、18〜
23℃で339の2,2゛−ノチオビスニベンゾチアゾ
ール]で処理し几。反応混合物を約20°Cで・1時間
撹はんすると、淡黄色の結晶が析出した。得られfコ懸
副液は次の工程に直接用いることができろか、または0
°Cに冷却し、ろ過することもてきる。析出物を冷ノク
ロロメタンで洗浄し、真空下で乾燥して標記化合物25
g(90%)を得た。
−C5−(2−メチル−1,3,4−チアノアゾリル)
チオメチル−3−セファム−4−カルボン酸[セファゾ
リンコ (a) 1−(i o)−テトラゾリル酢酸 2−ベン
ゾチアゾリル チオエステル 12.8gの1−(IH)−テトラゾリル酢酸を120
πQのジクロロメタンに懸濁し、トリフェニルポスフィ
ン30gで処理した。混合物を激しく撹はんし、18〜
23℃で339の2,2゛−ノチオビスニベンゾチアゾ
ール]で処理し几。反応混合物を約20°Cで・1時間
撹はんすると、淡黄色の結晶が析出した。得られfコ懸
副液は次の工程に直接用いることができろか、または0
°Cに冷却し、ろ過することもてきる。析出物を冷ノク
ロロメタンで洗浄し、真空下で乾燥して標記化合物25
g(90%)を得た。
(b) 7−E 1−(l H)−テトラゾリルアセト
アミド)−3−C5−(2−メヂル用、 3、−1−デ
アノアゾリル)チオメチル]−3−セフェムー4−カル
ボン酸250mσのジクロロメタン中、27.8gの7
−アミノ−3−[5−(2−メチル−1,3,4−デア
ノアゾリル)チオメチル]−3−セフェムー4−カルボ
ン酸の酸懸濁液に、269のN、O−ヒス(トリメチル
シリル)アセトアミドを加えた。混合物を25℃で2時
間撹はんし、18〜23℃で工作(a)の標記化合物の
懸濁液または工程(a)から単離した標記化合物のいず
れかで処理ずろと、発熱反応が生起した。該混合物を約
20℃でさらに120分間撹はんした。ついで、混合物
を100′!IQのメタノールで処理し、室温で5時間
撹はんすると、無色結晶の標記化合物が析出した。2時
間0°Cて冷却して該結晶をろ過し、冷メタノール、つ
いてアセトンで洗浄した。真空下で乾燥後、32g(8
7%)の標記化合物が得られた。
アミド)−3−C5−(2−メヂル用、 3、−1−デ
アノアゾリル)チオメチル]−3−セフェムー4−カル
ボン酸250mσのジクロロメタン中、27.8gの7
−アミノ−3−[5−(2−メチル−1,3,4−デア
ノアゾリル)チオメチル]−3−セフェムー4−カルボ
ン酸の酸懸濁液に、269のN、O−ヒス(トリメチル
シリル)アセトアミドを加えた。混合物を25℃で2時
間撹はんし、18〜23℃で工作(a)の標記化合物の
懸濁液または工程(a)から単離した標記化合物のいず
れかで処理ずろと、発熱反応が生起した。該混合物を約
20℃でさらに120分間撹はんした。ついで、混合物
を100′!IQのメタノールで処理し、室温で5時間
撹はんすると、無色結晶の標記化合物が析出した。2時
間0°Cて冷却して該結晶をろ過し、冷メタノール、つ
いてアセトンで洗浄した。真空下で乾燥後、32g(8
7%)の標記化合物が得られた。
実施例3
7−(2−チェニルアセトアミド)−3−C5−(2−
メチル−1,3,4−チアジアゾリル)チオメチル]−
3−セフェムー4−カルボン酸ナトリウム塩3001!
IQのジクロロメタン中、27.69の7−アミノ−3
−C5−(2−メチル−1,3,4−チアノアゾリル)
ヂオメチル]−3−セフェム−・1−カルボン酸の懸濁
液に、26gのN、0−ヒス(トリメチルシリル)アセ
トアミドを加えた。混合物を25〜30°Cで2時間撹
はんし、18℃に冷却し、ついで実施例】(a)の標記
化合物の懸濁液または実施例1(a)から単離した標記
化合物のいずれかで処理すると、穏やかな発熱反応が生
起した。反応混合物を約20℃でさらに100分間撹は
んし、ついで、150!1f)のアセトンおよび3,1
Qの水で処理した。撹はん下にアセトン50mQ、中ナ
トリウム2−エヂルヘキサノエーt−(20g)溶液の
添加により、標記化合物が析出した。析出物をろ過し、
アセトンで洗浄して標記化合物369(93%)を得た
。
メチル−1,3,4−チアジアゾリル)チオメチル]−
3−セフェムー4−カルボン酸ナトリウム塩3001!
IQのジクロロメタン中、27.69の7−アミノ−3
−C5−(2−メチル−1,3,4−チアノアゾリル)
ヂオメチル]−3−セフェム−・1−カルボン酸の懸濁
液に、26gのN、0−ヒス(トリメチルシリル)アセ
トアミドを加えた。混合物を25〜30°Cで2時間撹
はんし、18℃に冷却し、ついで実施例】(a)の標記
化合物の懸濁液または実施例1(a)から単離した標記
化合物のいずれかで処理すると、穏やかな発熱反応が生
起した。反応混合物を約20℃でさらに100分間撹は
んし、ついで、150!1f)のアセトンおよび3,1
Qの水で処理した。撹はん下にアセトン50mQ、中ナ
トリウム2−エヂルヘキサノエーt−(20g)溶液の
添加により、標記化合物が析出した。析出物をろ過し、
アセトンで洗浄して標記化合物369(93%)を得た
。
生成物を3(JmQの水に溶解し、活性炭で処理し、7
50πQのエタノールを淡黄色ろ液に添加して精1−1
1イIIS/7+41・Jl”7’lt’、qli’1
M1jイに)−phph<≦::、(1,tk+ナー−
N?vLR(D、O)ニア、3および7.0(3r(,
2m;チェニル−プロトン);5 、 60(l l−
1,dj= 5 Hz。
50πQのエタノールを淡黄色ろ液に添加して精1−1
1イIIS/7+41・Jl”7’lt’、qli’1
M1jイに)−phph<≦::、(1,tk+ナー−
N?vLR(D、O)ニア、3および7.0(3r(,
2m;チェニル−プロトン);5 、 60(l l−
1,dj= 5 Hz。
C7−1−1);5 、 02(L H,d、j= 5
Hz、Ce−[();442および4.00(2H,
Al3q、J=I4t(z、C3−CHI):3.88
(2H,S、チェニル−CI−L):3゜66および3
.30(2H,ABq、J= 18Hz、C2−CH2
);2.72(3H,S、チアジアゾリン−CH*) 実施例11 7−(2−チェニルアセトアミド)−3−C5−(1−
メチル−1,2,3,4−テトラゾリル)チオメチルニ
ー3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩300皮
Qのジクロロメタン中、26.29の7−アミノ−3−
[5−(+−メチル−1,2,3,,1−テトラゾリル
)チオメチルヨー3−セフェム−・1−カルボン酸の懸
濁液に、26gのN、O−ビス(1−リメヂルンリル)
アセトアミドを加えに。混合物を25〜30°Cて2時
間撹はんし、得られた透明溶液を約18°Cに4却し、
実施例1(a)の標記化合物の懸δa液または実施例+
(a)から!)1離した漂記化合物のいずれかで処理
した。室温で1時間位はん後、赤味がかった透明溶液を
エタノール200τQ中ナトリウム2−エチルヘキザノ
ール209および水39の7でt夜で処理オろと、標記
化合物が聞出しfこ。ろ過少、エタノールで洗浄し、乾
燥して337gの標記化合物を得た。
Hz、Ce−[();442および4.00(2H,
Al3q、J=I4t(z、C3−CHI):3.88
(2H,S、チェニル−CI−L):3゜66および3
.30(2H,ABq、J= 18Hz、C2−CH2
);2.72(3H,S、チアジアゾリン−CH*) 実施例11 7−(2−チェニルアセトアミド)−3−C5−(1−
メチル−1,2,3,4−テトラゾリル)チオメチルニ
ー3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩300皮
Qのジクロロメタン中、26.29の7−アミノ−3−
[5−(+−メチル−1,2,3,,1−テトラゾリル
)チオメチルヨー3−セフェム−・1−カルボン酸の懸
濁液に、26gのN、O−ビス(1−リメヂルンリル)
アセトアミドを加えに。混合物を25〜30°Cて2時
間撹はんし、得られた透明溶液を約18°Cに4却し、
実施例1(a)の標記化合物の懸δa液または実施例+
(a)から!)1離した漂記化合物のいずれかで処理
した。室温で1時間位はん後、赤味がかった透明溶液を
エタノール200τQ中ナトリウム2−エチルヘキザノ
ール209および水39の7でt夜で処理オろと、標記
化合物が聞出しfこ。ろ過少、エタノールで洗浄し、乾
燥して337gの標記化合物を得た。
N:’vlR(DtO)、ニア、3および7.0(3H
,2m;チェニル−プロトン): 5 、 45 (I
II 、d、j= 51−[z。
,2m;チェニル−プロトン): 5 、 45 (I
II 、d、j= 51−[z。
C7−11):5,02(I H,dj=511z、c
o−H):4゜30および4.07(2H,A[3Q、
J=I4I−iz、C3−CI、);4.00(31−
1s、N−Cl−13);3.86(21(、S、チェ
ニル−C112);3.68および336(2+1.A
Bq、、J二I 8 [I Z、 C2−CI−t 、
)実j点例5 7−(2−ヂエニルアセトアミド)−3−メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩250yQのジ
クロロメタン中、17.29の7−アミノ−3−デスア
セトキノセファ0スボラン酸の懸濁液に、269のN
、 O−ヒス(トリメチルノリル)アセトアミドを加え
た。25〜30℃で2時間位はん後、得られ7こほぼ透
明な溶液を約18°Cに冷却し、実施例1 (a)の標
記化合物の懸濁液または実在例1 (a)から単離した
標記化合物のいずれかで処理した。室温で2時間位はん
後、100m(lのアセトンおよび3gの水を加え、混
合物を真空下で蒸発さ仕た。残さを100Rf7のアセ
トン/水(1:1)に取り、活性炭で処理し、ろ過した
。ろ液を300xQのアセトンおよびloomf2の2
0%ナトリウム2−エチルヘキサノエート溶液で処理す
ると、標記化合物か析出した。収量229(76%)。
o−H):4゜30および4.07(2H,A[3Q、
J=I4I−iz、C3−CI、);4.00(31−
1s、N−Cl−13);3.86(21(、S、チェ
ニル−C112);3.68および336(2+1.A
Bq、、J二I 8 [I Z、 C2−CI−t 、
)実j点例5 7−(2−ヂエニルアセトアミド)−3−メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩250yQのジ
クロロメタン中、17.29の7−アミノ−3−デスア
セトキノセファ0スボラン酸の懸濁液に、269のN
、 O−ヒス(トリメチルノリル)アセトアミドを加え
た。25〜30℃で2時間位はん後、得られ7こほぼ透
明な溶液を約18°Cに冷却し、実施例1 (a)の標
記化合物の懸濁液または実在例1 (a)から単離した
標記化合物のいずれかで処理した。室温で2時間位はん
後、100m(lのアセトンおよび3gの水を加え、混
合物を真空下で蒸発さ仕た。残さを100Rf7のアセ
トン/水(1:1)に取り、活性炭で処理し、ろ過した
。ろ液を300xQのアセトンおよびloomf2の2
0%ナトリウム2−エチルヘキサノエート溶液で処理す
ると、標記化合物か析出した。収量229(76%)。
NMrl(D、O):、7.30および7.00(30
゜2m;チェニルプロトン):5.56(II−1,d
、j=5[1z、C,−H);5 、00(l I−1
,dj= 514z、Ca−H);3,85(2H,S
、チェニル−CI(2);3 、47および3.10(
2H,ABq、J=i8Hz、C,−CH、);1.9
3(3H,S、C3−CI−13)実施例6 7−(2−チェニルアミド)−3−メトキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩実施例5と同
様の方法において、7−アミノ−3−デスアセトキノセ
ファロスポラン酸の代わりに19.5gの7−アミノ−
3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸を
用い、無色結晶の標記化合物を得た。収量26.59(
83%)。
゜2m;チェニルプロトン):5.56(II−1,d
、j=5[1z、C,−H);5 、00(l I−1
,dj= 514z、Ca−H);3,85(2H,S
、チェニル−CI(2);3 、47および3.10(
2H,ABq、J=i8Hz、C,−CH、);1.9
3(3H,S、C3−CI−13)実施例6 7−(2−チェニルアミド)−3−メトキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩実施例5と同
様の方法において、7−アミノ−3−デスアセトキノセ
ファロスポラン酸の代わりに19.5gの7−アミノ−
3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸を
用い、無色結晶の標記化合物を得た。収量26.59(
83%)。
NMR(DtO)ニア、30および7.00(314゜
2m;ヂエニルプロトン);5.64(LH,d、j=
5Hz、C7+−1): D 。 I 0(I
II、dj=51(z、C,−H);4.23(2H,
S、C3−C112):3.88(2H。
2m;ヂエニルプロトン);5.64(LH,d、j=
5Hz、C7+−1): D 。 I 0(I
II、dj=51(z、C,−H);4.23(2H,
S、C3−C112):3.88(2H。
S、チェニル−C14t);3 、 55および3.3
5(211、ABq、、J= 1 8Hz、C2−C
H2);3. 3 8(3H1S 、OC1−1,) 特許出願人 ビオヘミ−・ゲゼルノヤフト・ミツト・ペ
ンユリンクテル・ ハフラング
5(211、ABq、、J= 1 8Hz、C2−C
H2);3. 3 8(3H1S 、OC1−1,) 特許出願人 ビオヘミ−・ゲゼルノヤフト・ミツト・ペ
ンユリンクテル・ ハフラング
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 R_1は所望によりアミノで置換されていてもよい5員
の、酸素−、窒素および/または硫黄−含有複素環式基
、 R_2は水素、アセトキシ、メトキシ、カルバモイルオ
キシ、−S−Y基(Yは非置換または置換複素環式基)
またはR_2は式: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R_4およびR_5は各々独立して水素、ハロ
ゲン、アルキル、ヒドロキシ、カボキシアミド、アルコ
キシカルボニル、アミノ、モノアルキルアミノまたはジ
アルキルアミノ、あるいは一緒になって所望により置換
されていてもよい5または6員の炭素環式基を意味する
。] で示される所望により置換されていてもよいピリジニウ
ム、 R_3はカルボキシ、カルボキシレートまたはカルボン
酸エステル基を意味する。] で示される化合物またはその医薬上許容される塩を製造
するにあたり、式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) および/または式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IVa) [式中、 R_1”は所望によりアミノまたは保護されたアミノで
置換されていてもよい5員の酸素−、窒素および/また
は硫黄−含有複素環式基、 ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
式、表等があります▼は、各々5または6員の複素環式
基(該環は、窒素原子に加え、さらに酸素、窒素または
硫黄から選ばれる1または2個のヘテロ原子を有しても
よく、また置換されてもよく、所望により置換されてい
てもよいベンゼン環と縮合してもよい)を意味する。] で示される化合物を式: ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、R_2は前記と同じ意味、R_6は水素または
アミノ保護基、R_3’はカルボキシ、保護されたカル
ボキシ基、カルボキシレートまたはカルボン酸エステル
基を意味する。] で示される化合物と反応させ、要すれば得られた化合物
を脱保護し、所望により得られた化合物(R_3がCO
OH)をその塩に変換するか、またはその逆を行うこと
を特徴とする製法。 2、式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) [式中、 R_1’は2−チエニルまたは1−(1H)テトラゾリ
ル、 R_2’は水素、アセトキシまたは−S−Y(Yは2−
メチル−1,3,4−チアジアゾール−5−イルまたは
1−メチル−1H−テトラゾール−5−イル)、 R_3’はカルボキシまたはカルボキシレートを意味す
る。] で示される化合物またはその医薬上許容される塩を製造
する特許請求の範囲第1項記載の製法。 3、式IVの化合物において、▲数式、化学式、表等があ
ります▼が2−ベンゾチアゾリルである特許請求の範囲
第1項記載の製法。 4、特許請求の範囲第1項記載の式IVの化合物を製造す
るにあたり、式: R_1”−CH_2−COOH (V) [式中、R_1”は特許請求の範囲第1項と同じ意味。 ]で示される化合物を式: ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) [式中、2つの▲数式、化学式、表等があります▼基は
同じであって、特許請求の範囲第1項と同じ意味。] で示される化合物を反応させることを特徴とする製法。 5、特許請求の範囲第1項記載の式IVの化合物。 6、式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IVb) [式中、R_1”は2−チエニルまたは1−(1H)テ
トラゾリル、▲数式、化学式、表等があります▼は特許
請求の範囲第1項と同じ意味。] で示される化合物。 7、2−チエニル酢酸 2−ベンゾチアゾリルチオエス
テルである特許請求の範囲第5項記載の化合物。 8、1−(1H)テトラゾリル酢酸2−ベンゾチアジア
ゾリル チオエステルである特許請求の範囲第5項記載
の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
AT0338185A AT383810B (de) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | Verfahren zur herstellung von cephalosporinderivaten |
AT3381/85 | 1985-11-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62135477A true JPS62135477A (ja) | 1987-06-18 |
Family
ID=3549668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61276380A Pending JPS62135477A (ja) | 1985-11-20 | 1986-11-19 | セフアロスポリン抗生物質の製法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62135477A (ja) |
AT (1) | AT383810B (ja) |
BE (1) | BE905783A (ja) |
CH (1) | CH671228A5 (ja) |
DE (1) | DE3639410A1 (ja) |
ES (1) | ES2002912A6 (ja) |
FR (1) | FR2590257A1 (ja) |
GB (1) | GB2183232B (ja) |
IT (1) | IT1195841B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6372692A (ja) * | 1986-02-07 | 1988-04-02 | エフ・ホフマン―ラ ロシユ アーゲー | カルボン酸アミドの製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT402928B (de) * | 1994-12-23 | 1997-09-25 | Biochemie Gmbh | Neues verfahren zur herstellung von cefotaxim |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0004570B1 (en) * | 1978-03-09 | 1982-04-14 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Thiol esters, process for their preparation, pharmaceutical compositions containing them and a process for preparing cephalosporin compounds using the same |
EP0137227B1 (en) * | 1980-09-02 | 1987-12-16 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for the preparation of cephalosporin derivatives using novel thioesters |
EP0060301B1 (en) * | 1980-09-19 | 1985-11-27 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing cephalosporin compounds |
US4327211A (en) * | 1980-11-26 | 1982-04-27 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for preparation of cephalosporin compounds |
WO1985004659A1 (en) * | 1984-04-10 | 1985-10-24 | Biochemie Gesellschaft M.B.H. | Intermediary products of cephalosporine, preparation process thereof and utilization thereof |
-
1985
- 1985-11-20 AT AT0338185A patent/AT383810B/de not_active IP Right Cessation
-
1986
- 1986-11-11 CH CH4494/86A patent/CH671228A5/de not_active IP Right Cessation
- 1986-11-17 GB GB8627404A patent/GB2183232B/en not_active Expired
- 1986-11-18 IT IT67857/86A patent/IT1195841B/it active
- 1986-11-18 DE DE19863639410 patent/DE3639410A1/de not_active Withdrawn
- 1986-11-18 FR FR8616024A patent/FR2590257A1/fr not_active Withdrawn
- 1986-11-19 JP JP61276380A patent/JPS62135477A/ja active Pending
- 1986-11-19 BE BE0/217434A patent/BE905783A/fr not_active IP Right Cessation
- 1986-11-20 ES ES8603111A patent/ES2002912A6/es not_active Expired
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6372692A (ja) * | 1986-02-07 | 1988-04-02 | エフ・ホフマン―ラ ロシユ アーゲー | カルボン酸アミドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2590257A1 (fr) | 1987-05-22 |
IT1195841B (it) | 1988-10-27 |
ATA338185A (de) | 1987-01-15 |
AT383810B (de) | 1987-08-25 |
CH671228A5 (ja) | 1989-08-15 |
IT8667857A0 (it) | 1986-11-18 |
GB2183232B (en) | 1989-11-15 |
DE3639410A1 (de) | 1987-05-21 |
GB8627404D0 (en) | 1986-12-17 |
BE905783A (fr) | 1987-05-19 |
ES2002912A6 (es) | 1988-10-01 |
GB2183232A (en) | 1987-06-03 |
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