JPS62132866A - ５−ジクロルアセトアミド−４−ニトロ−１−アリ−ル−ピラゾ−ル類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な５−ジクロルアセトアミド−４−ニト
ロ−１−アリール−ピラゾール、そのいくつかの製造法
、そしてその除草剤及び生長調節剤としての使用法に関
する。

ある第１の５−ハロゲノアシルアミノ−４−ニトロ−１
−アリール−ピラゾール例、ｔば５−（ω−クロルブチ
ルアミド）−４−ニトロ−１−久）Ｋ＊（２，６−ジク
ロル−４−トリフルオルメチルフェニル）−ピラゾール
が除草性を有することはすでに公知である（参照、独国
公開特許第４４０２゜３０８号）。

しかしながらこれらの公知の化合物の、問題の雑草に対
する除草活性は、重要な有用植物に対するその許容性と
同様に、すべての使用分野において必ずしも完全にｈａ
足されない。

今回一般式（り 〔式中　Ｒ１は水素、弗素、塩素又は臭素を表わし、 Ｒ２は水素、弗素又は塩素を表わし、 Ｒ”Ｕ／’ロゲン、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコ
キシ、ハロゲノアルキルチオ又はハロゲンアルキルスル
ホニルを表わし、 Ｒ４は水素、弗素、又は塩素を我わし、そして Ｒ１１は弗素、塩素又は臭素を表わし、但しＲ１とＲ１
が同時に塩素を表わし且つ東にＲ２及びＲ４が同時に水
素を表わす場合　Ｈａは塩素又はトリフルオルメチルを
表わさない〕の新規な５−ジクロルアセトアミド−４−
二トロ−１−アリール−ピラゾールが発見された。

更に今回、一般式（Ｉ） 〔式中　１１は水素、弗素、塩素又は臭素を表わし、 Ｒ１は水素、弗素又は塩素を表わし、 Ｒ１はハロゲン、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキ
シ、ハロゲノアルキルチオ又はハロゲンアルキルスルホ
ニルを表わし、 Ｒ４は水素、弗素、又は塩素を表わし、そして Ｒ“は弗素、塩素又は臭素を表わし、但しＲ１とＲ５が
同時に塩素を表わし且つ更にＲ２及びＲ４が同時に水素
を表わす場合、Ｒａは塩素又はトリフルオルメチルを表
わさない〕の５−ジクロルアセトアミド−４−ニトロ−
１−アリールービラゾールは、 ＋Ｌ）式（ＩＩ） Ｃ式中、Ｒ’　、　Ｒ”　、Ｒ’　、　Ｒ’　及ヒＲ’
　Ｉｄ、上述の意味を肩する〕 の５−アミノ−４−ニトロ−１−７リールービラゾール
を、適当ならば希釈剤の存在下に及び適当ならば酸又は
塩基触媒の存在下に式（ｆｉりＣ１，ＣＨ−Ｃ−Ｅ　　
　　（ＩＩＩ）〔式中、Ｅは電子吸引性の開裂基を表わ
す〕のジクロルアセチル化合物と反応させる、或いはｂ
）４−位が未置換の式（ＩＶ） の５−ジクロルアセトアミド−１−アリール−ピラゾー
ルを、適当ならば希釈剤の存在下ＶＣ及び適当ならば触
媒の存在下に硝酸と反応させる、場合に得られることか
発見された。

最後に、式（Ｉ）の新規な５−ジクロルアセトアミド−
４−ニトロ−１−アリール−ピラゾールハ除草及び生長
調節作用を有することが発見された。

鴬くことに、本発明による一般式（Ｉ）の５−ジクロル
アセトアミド−４−ニトロ−１−アリール−ピラゾール
は、化学的に且つ作用の観点から非常に関連する化合物
である従来法で公知の５−ハロゲノアシルアミノ−４−
ニトロ−１−アリール−ピラゾール、例えば５−（ω−
クロルブチルアミド）−４−ニトロ−１−（２，６−ジ
クロル−４−トリフルオルメチルフェニル）−ピラゾー
ルよりかなシ良好な問題の雑草に対する除草活性を、対
比しうる良好な有用植物に対する選択性と兼ね備えてい
る。

一般式（Ｉ）は本発明による５−ジクロルアセトアミド
−４−ニトロ−１−アリール−ピラゾールの一般的な定
義を与える。式（Ｉ）の好適な化合物は、Ｒ１が水素、
弗素、塩素又はＡ累を表わし１Ｒ２が水素、弗素又は塩
素を戎わし、 Ｂａが弗素、塩素、臭素或いはそれぞれ炭素数１〜４及
び同一の又は異なるハロゲン原子数１〜９を有するハロ
ゲノアルキル、／−１０ゲノアルコキシ、ハロゲノアル
キルチオ又はハロゲンアルキルスルホニルｔ−六ワＬ、 Ｒ４が水素、弗素又は塩素′ｊｋ表わし、そしてＲ６が
弗素、塩素又は臭素を表わし、但しＲ１及びＲ５が同時
に塩素を表わし且つ史にＲ２及びＲ４が同時に水素を表
わす場合Ｒ１は塩素又はトリフルオルメチルを表わさな
い、 ものである。

式（Ｉ）の特に好適な化合物は、 Ｒ１が水素、弗素、塩素又は臭素を表わし、Ｒ１が水素
、弗素又は塩素を表わし、 Ｒ１が弗素、塩素、臭素、トリフルオルメチル、ジフル
オルメチル、フルオルメチル、トリクロルメチル、ジク
ロルフルオルメチル、ジフルオルクロルメチル、ペンタ
フルオルエチル、トリフルオルメトキシ、トリクロルメ
トキシ、トリフルオルメチルチオ、トリフルオルメチル
スルホニル、シフルオルクロルメチルスルホニル、ジク
ロルフルオルメチルスルホニル又はインタフルオルエチ
ルスルホニルヲ表わし、 Ｒ４が水素、弗素又は塩素を表わし、そしてＲ８が弗素
、塩素又は臭素を表わし、但しＲ１及びＲ１が同時に塩
素を表わし且つ更にＲ２及びＲ′が同時に水素を表わす
場合Ｒ１は塩素又はトリフルオルメチルを表わさない、 ものである。

製造例に言及する式（Ｉ）の各化合物を参照することが
できる。

例えば５−アミノ−４−ニトロ−１−（２，ｉ６−　）
　１／　クロル−４−トリフルオルメチルフェニル）−
ピラゾール及び無水ジクロル酢酸を出発物質として用い
る場合、本発明による方法（−）の反応過程は次の方程
式で表わすことができる：例えば５−ジクロルアセトア
ミド−１−（２，６−−／クロル−４−トリフルオルメ
チルフェニル）−ピラゾールを出発化合物として用いる
場合、本発明による方＠（ｂ）の反応過程は次の方程式
で表わすことができる： Ｓ　Ｏ，ＣＦ３ 式（ＩＤは本発明による方法（＾）を行なうだめの出発
物質として心安とされる５−アミノ−４−ニトロ−ピラ
ゾールの一般的な定義を与える。この式（ＩＩ）におい
て、Ｒ’　、Ｒ”　、Ｒ”　、Ｒ’　及びＲ’　ｉｄ好
ましくは本発明による式（Ｉ）の物質の記述と関連し、
これらの置換基に対して好適なものとしてすでに言及し
た基を衣わす。

式（ＩＩ）の５−アミノ−４−ニトロ−ピラゾールｔｄ
公知であ＃）（参照、独国公開特許第へ４０２゜３０８
号）、そしてこれに記述されている方法によって製造す
ることができる。

式（■亀） ＣＦ。

〔式中、ＲＩ−１、Ｒ２−１及びＲ４−１は互いに独立
にそれぞれ水素、弗素又は塩素を表わし、ぞして ＲＩ−１は弗素又は塩素を表わし、但しＲ１−Ｉ　ＳＲ
２−１、Ｒ４−１及びＲ３−１が同時に弗素を衣わし、 Ｒ１−１、Ｒ２−１、Ｒ４″″１及びＲ１−１が同時に
塩素を表わし、 Ｒ’−’　及びＲ’−’　：ＡＥ塩素を表わＬ且つＲ”
−’及びＲ′−１が同時に水素又は弗素を表わし、そし
てＲ１−１，Ｒ２−１及びＲ４−１が水素を表わし且り
Ｒ５−１が同時に塩素を表わし、またＲ１″″ｌ、Ｒ１
−１及びＲｓ″″息が塩素を表わし且つＲ４−１が同時
に水素を表わす場合を除く〕の５−アミノ−４−ニトロ
ピラゾールは今日まで公知でない。

式（Ｉｌａ）の好適な化合物は、Ｒ１−１、Ｂ　２−１
、Ｒ４−１及びＲ５−１が式（至）のフェニルヒドラジ
ンの記述において言及した好適な意味を有する。

式（Ｉｌｍ）の化合物は、式（■ 〔式中、Ｒ１″　Ｂ　Ｎ　−＊　、Ｈ４−ｊ及びＲ６−
１は上述の意味を有する〕 のアリールヒドラジンを、最初第１段階において、適当
ならば希釈剤例えば氷酢酸又はエタノールの存在下に、
及び適当ならば反応助剤例えば酢酸ナトリウムの存在下
に式ＣＭ） 〔式中、Ｈａｔはハロゲノ、特に塩素又は臭素を表わす
〕 の２−ハロゲノアクリロニトリルと一２０℃〜＋２０℃
の温度で反応させて式（■） 〔式中％　Ｒ’−、”　、Ｒ”−”　、Ｒ’−’　ｓ　
Ｒ’−”　及ＵＭａｌは上述の意味を有する〕 のアリールヒドラジンを製造し、そしてこれを、第２段
階において、適当ならば希釈剤例えばエチレンクリコー
ルモノエチルエーテルの存在下ニ及び適当ならば酸触媒
の存在下に＋５０〜＋１５０℃の温度で環化させ、或い
は環化を１反応工程で、適当ならば希釈剤例えばエチレ
ングリコールモノエチＡ／欺エーテル又はエタノールの
存在下に式（■）の中間体を分離しないで＋５０〜＋１
５０℃の温度で直接性ない、そして４−位が未置換で、
ｌ且つこのようにして得られる式（■）〔式中、Ｒ’″
″１、Ｈ！−１，１４″″１及びＲ５−１は上述の意味
を有する〕 の５−アミノピラゾールを、続く反応において、適当な
らば希釈剤例えば氷酢酸の存在下且つ適当ならば反応助
剤例えば無水酢酸の存在下に及び−２０℃〜＋５０℃の
湯度下にニトロ化剤でニトロ化する、方法によって製造
することができる。

適当ならばこの場合、ニトロ化反応の前にビラゾール環
の５位のアミノ基を通常の保護基技術により、例えばア
シル化によシ保護し、そしてこのアミン保護基を同様に
常法により、例えば水性又はアルコール性塩基での加水
分解によルニトロ化を行なった後に再び開裂させること
が有利である。

適当な濃度において、式（ＩＩ−ａ）の新規な５−アミ
ノ−４−ニトロピラゾールも非常に良好な除草活性、特
に選択的除草活性を示す。

式（ｖ） 〔式中、Ｒ１−１、Ｒｆｆｉ−１及びＲ′−１は互いに
独立にそれぞれ水素、弗素又は塩素を表わし、そして ＲＩ−１は弗素又は塩素を表わし、但しＲ１−１，Ｒ２
“ｌ、Ｒ４−１及びＲ１−１が同時に弗素を表わし、 Ｒ１−１、Ｂ！−１、Ｒ４−１及びＲ１−１が同時に塩
素を表わし、 Ｒ１−１及びＲ６−１が塩素を表わし且つＲ２−１及び
Ｒ′−１が同時に水素又は弗素を表わし、そしてＲ１−
１、Ｂｔ″″Ｋ及びＲ４″″１が水素を表わし且つＲ１
−１が同時に塩素を表わし、またＲ”−’　、Ｒ”−”
　＆ＵＲ”−”　か塩Ｒｔ表ｂｌ、［つＲ４−１が同時
に水素を表わす場合を除く〕のアリールヒドラジンは新
規であシ、本発明の主題を形成する。

式（Ｖ）の次の化合物は好適である： Ｒ２−五　　　　　　Ｒ４−Ｉ　　　　　　　Ｈ！−鳳
ＣＩ　　　　　ＨＰ　　　　　ＣＩ ＨＨＣＩ　　　　　ＣＩ ＨＦ　　　　　ＨＣｌ Ｃｌ　　　　　Ｆ　　　　　Ｆ　　　　　ＦＣＩ　　　
　　Ｆ　　　　　ＨＦ ＣＩ　　　　　ＨＨＦ Ｆ　　　　　Ｆ　　　　　ＨＦ ＨＦ　　　　　　　　Ｆ　　　　　　　　　ＦＣＩ　　
　　　ＨＦ　　　　　Ｆ 例えば式（至）の新規なアリールヒドラジンは、式ＣＤ
（） 〔式中、Ｒ１−１、Ｈ＊−１、Ｒ４−１及びＲ１−１は
上述の意味を有し、そして Ｈａ　１　’はハロゲン、特に弗素又は塩素を表わす〕 のハロゲノ芳香族化合物を、適当ならば希釈剤の存在下
にヒドラジン又はヒドラジン水和物と反応させる場合に
得られる。

式（Ｍ）の２−ハロゲノアクリロニトリル及び式（ＩＫ
）のハロゲノ芳香族は一般に有機化学で公知の化合物で
ある（参照、例えばヨーロッパ特許願第５４，４０２号
及び米国特許第４．５Ｂ＆４７２号）。

本発明による式（至）のアリールヒドラジンの製造反応
は一般に溶媒の存在下に行なわれる。適当な溶ｍ　（７
）例ｔｉアルコール、エーテル、エーテルアルコール、
第三級アミン及びスルホンである。エタノール、ジオキ
サン、グリコールそツメチルエーテル、トリエチルアミ
ン、ピリジン、ピコリン及びテトラメチレンスルホンは
特に適当である。

この反応に対して適当な温度は例えば５０〜１２０℃の
範囲でう９、好ましくは特に反応性の小さい式（ＩＸ）
の化合物を用いる場合５０〜１２０℃の範囲の温度が用
いられる。一般に大気圧において所望の反応温度以下で
るる沸点を有する溶媒中で反応を行ないたい場合を除い
て、加圧を用いることは必ずしも必要でない。

一般に反応は、少しだけ過剰量のヒドラジンが反応中に
存在する場合に有利である。それ故に好ましくは、式（
ＩＸ）の化合物を適当ならば溶媒と一緒に先ず導入し、
次いでヒドラジンを添加する。

更に比較的多量のヒドラジン、例えば式（ＩＸ）の化合
物１モル当り１．２モルよシ多いヒドラジンの使用を避
けることが一般に有利である。

Ｈａｌ’＝塩素の式（ＩＸ）の化合物を用いる場せ、塩
基例えばピリジンを溶媒としてすでに用いていないなら
ば、塩基を添加することが非常に有利である。適当な塩
基の例は、第三級アミン例えばトリエチルアミン、ピリ
ジン及びピコリン、そしてアルカリ金属の炭酸塩、炭酸
水素塩及び酢酸塩例えば酢酸カリウム、酢酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム
、水散化カルシウム、及びカルシウムである。ヒドラジ
ンは適当ならばこの塩基としても役立つ。

ヒドラジンは例えばヒドラジン水和物の形で、並びに無
水形で或いは水を８０重量％まで含有するヒドラジンと
して使用できる。

一般に反応は１〜１５時間後に完結する。次いで反応混
合物は、例えば適当ならば存在する溶媒の少くとも半分
、好ましくは少くとも８０重量％を留去しくこの溶媒は
再使用できる）、次いで反応混合物を冷水中Ｋｌｌ押し
、結晶形で得られた式（Ｖ］の生成物を分離し、必要な
らば少量の水でゆすぎ、乾燥するという方法によって処
理することができる。所望によシ、この生成物は例えば
シクロヘキサン又はトルエンから再結晶してもよい。

式（■の化合物は室温で結晶性であり、記述される方法
によル良好な収率で及び良好な純度で得ることができる
。例えばＣｒ２基に関してｐ−位取外の位置にＮＨｌＮ
Ｈ−基が入ることによって生成する比較的少量の異性体
は、記述される処理法によって実質的に処理しうる。

式（ＩＩＩ）は本発明による方法（ａ）を行なうための
出発物質として更に必要とされるジクロルアセチル化合
物の一般的な定義を与える。この式（Ｉ０）において、
Ｅは好ましくはハロゲン特に塩素又は臭素或いはジクロ
ルアセチロキシ基を表わす。

式（Ｉ［ｌ）のジクロルアセチル化合物は一般に有機化
学で公知の化合物である。

式（ｆＶ）は４−位が未置換であシ且つ本発明による方
法（ｂ）を行なう丸めの出発物質として必要とされる５
−ジクロルアセトアミド−１−アリール−ピラゾールの
一般的な定義を与える。この式％式％ Ｒ′は本発明による式（Ｉ）の物質の記述と関連し、こ
れらの置換基に対して好適なものとしてすでに言及した
基を表わす。

Ａ−位が未置換である式（ＩＶ）の５−ジクロルアセト
アミド−１−アリール−ピラゾールは未だに公知でない
。しかしながらこれらは公知の方法（Ｃ照、例えば独国
公開特許第３，４０２，３０８号）と同様にして、式（
４） Ｃ式中、Ｒ’　％　Ｒ”　、Ｒ”　Ｎ　Ｒ’　及ヒＲ’
　［［：述の意味を有する〕 の４−未置換５−アミノ−ピラゾールを、本発明による
方法（ａ）と同様に適当ならば希釈剤例えば塩化メチレ
ンの存在下に及び適当ならば酸結合剤例えばピリジンの
存在下に一２０℃〜＋１２０℃の温度において、式（Ｉ
） ％式％（） 〔式中、Ｅは上述の意味を有する〕 のジクロルアセチル化合物でアシル化する場合に得られ
る。

４−位が置換されていない弐■の５−アミノ−ピラゾー
ルのいくつかは公知であシ（参照例えば独国公開特許第
３．４０２，３０８号）、またいくつかは新規化合物で
あって（一般式（■）の化合物を参照）、公知の方法と
同様にして製造することができる。

本発明による方法（＃Ｌ）を行なうための適当な希釈剤
は不活性な有機溶媒である。

これらは特に脂肪族、脂環族又は芳香族の、随時ハロゲ
ン化された炭化水素例えばベンジン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロルベンゼン、石油エーテル、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、塩化メチレン、クロロホルム又は
四塩化炭素、エーテル例えはジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン又はエチレングリコールジメ
チル又はジエチルエーテル、ケトン例えばアセトン又は
ブタノン、ニトリル例えはアセトニトリル又はプロピオ
ニトリル、アミド例えばジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチ
ルピロリドン又はヘキサメチルシＩ］リアミド、エステ
ル例えば酢酸エチル、スルホキシド例えばジメチルスル
ホキシド及びカルボン酸例えば酢酸を含む。

本発明による方＠　（＆）は適当ならば酸又は塩基触媒
の存在下に行なわれる。

適当な触媒はすべての通常の無機又は有機塩基又は無水
プロトン酸である。これらは例えばアルカリ金属水絵化
物例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム、アルカ
リ金属炭酸塩例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は
炭酸水素ナトリウム、及び第三級アミン例えばトリエチ
ルアミン、Ｎ。

Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノピリジン、ジアザビシクロオクタン（Ｄ　Ａ　Ｂ　
ＣＯ）　、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、ジアザビ
シクロウンデセン（ＤＢＵ）、及び無水硫酸、燐酸及び
塩酸を含む。

反応温度は本発明による方法（＆）を行なう場合、実質
的な範囲内で変えることができる。反応は一般に一２０
℃〜＋１５０℃、好ましくはＯ℃〜＋１２０℃の湿度で
行なわれる。

本発明による方法（＾）を行なう場合、式（Ｉ）の５−
アミノ−４−ニトロ−１−アリール−ピラゾール１モル
当シ、一般に１．０〜５．０モル、好ましくは１．０〜
２．０モルの式（Ｉｎ）のジクロルアセチル化合物及び
適当ならば１．０〜５．０モル、好ましくは１．０〜２
．０モルの酸結合剤が使用される。この反応を行なった
後、式（りの反応生成物の処理及び単離は常法によシ行
なわれる。

本発明による方法（ｈ）を行なうための可能な希釈剤は
そのようなニトロ化反応に普通使用できるすべての溶媒
である。試薬として適当な酸、又はこの触媒酸例えば硫
酸、硝酸、無水酢酸又は硝酸との混合物は好ましくは同
時に希釈剤として使用される。適当ならば不活性な有機
溶媒例えば氷酢酸或いは塩素化炭化水素例えば塩化メチ
レン、クロロホルム又は四塩化炭素も希釈剤として適当
である。

本発明による方法（ｂ）を行なうのに他の適当な触媒又
は反応助剤はこの極のニトロ化に通常の触媒である。鈑
記媒例えば硫酸又は無水酢酸が好適に使用される。

反応温度は本発明による方法（ｂ）を行なう場合、実質
的な範囲内で変えることができる。反応は一般に一５０
℃〜＋１５０℃、好ましくは一２０℃〜＋１２０℃の温
度で行なわれる。

本発明による方法（ｈ）を行なう場合、４−位が未置換
の式（ＩＶ）の５−フルオルアシルアミノ−１一アリー
ルーピラゾール１モル当シ、一般に１．０〜１０αＯモ
ル、好−ＩＬ＜Ｆｉｌ、０〜５α０モルの硝酸及び適当
ならばｃＬ１〜１０モルの触媒が使用される。反応方法
、処理及び式（Ｉ）の反応生成物の単離は一般に公知の
常法によって行なわれる。

本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の
破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まない
場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による
物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または選
択的除草剤として作用する。

本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して使
用することができる： 次の属の双子葉雑草二カラン属（Ｓｉｎａｐｌａ）、マ
メグンパイナズナ属（Ｌ・ｔｐｉｄｉｕｍ）、ヤエムグ
ラ属（Ｇａｌｔｕｍ）、ハコベ属（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ
）、シカギク属（Ｍａｔ　ｒ　ｔ　ｅａ　ｒ　１ｍ　）
、カミツレモドキ属（Ａｎｔｈａｍｉｓ）、ガリンソガ
属（Ｇａｌｉｎｇｏｇａ八アカザ属（Ｃｈへｎｏｐｏｄ
ｉｕｍ）、イラクサ縞（Ｕｒｔｉｃａ）、キオン属（Ｓ
ｅｎｅｃｌｏ）、ヒエ属（Ａｍａｒａｎｔｈｕａ八スベ
リヒュＪ！ＡへＦｏｒｔｕｌａｃｍ）、オナモミ＠（Ｘ
ａｎｔｈｉｕｍ）、ヒルカオ籾（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕ
ｓ）、サツフイモ属（Ｉｐｏｍｏｅａ）。

タデ属（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、セスパニア属（Ｓｓｓ
ｂａｎｉａ））オナモミ属（Ａｍｈｒｏｓｉａ）−アザ
ミ属（Ｃｌｒａｉｕｍ八ヒレアザミ１Ａ（Ｃａｒｄｕｕ
ａ）、ノゲシ属（Ｓｏｎｃｈｕｓ）、ナス属（Ｓｏｌａ
ｎｕｍ）、イヌガラシ属（Ｒｏｒｉｐｐｍ）、キカシグ
サ属（Ｒｏｔａｌｍ）、アゼナ属（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ
）、ラミラムｈ４（Ｌａｍｉｕｍ）、クワガタソウ属（
Ｖｅｒｏｎｉｅａ）、イチビ属（Ａｂｕｔｉｌｏｎ）、
エメクス属（Ｅｍｅｘ）、チョウセンアサガオ属（Ｄａ
ｔｕｒａ）、スミレ属（Ｖｉｏｌｍ）、ナシマオドリコ
ｈｉ（Ｇａｌｅｏｐｓｉｍ）、ケシ属（Ｐａｐｘｖｅｒ
）及びセンタウレア属（Ｃｓｎｔａａｒｅａ）。

次の属の双子葉截培植物：ワタ属（Ｇｏｓａｙｐｉｕｍ
）、ダイズ踊（Ｇｌｙｃｉｎｅ）、フダンソウ属（Ｂｅ
ｔａ）、二：ｙ　シンｌｔ４　（Ｄａｕ　ｃｕｔ　）、
インゲンマメ属（Ｐｈａｓａｏｌｕａ）、エントウＭ　
（Ｐ　ｉ　ｓ　ｕ　ｎ　）、ナス属（Ｓｏｌａｎｕｍ）
、ア”’ｆｉ（Ｌｉｎｕｍ）、サツマイモ、＠（Ｉｐｏ
ｍｏｅａ）、ソラマメ属（Ｖｔｃｉａ）、タバコ属（Ｎ
ｌｃｏｔｌａｎａ）、）ヤト）ｆ４（Ｌｙｃｏｐｅｒｓ
　１ｃｏｎ）。

ラッカセイ属（Ａｒａａｈｉｍ）、アブラナ属（Ｂｒａ
ａｓｉｃａ）、アキノノゲシ属（Ｌａｃｔｕｃａ）、キ
ュウリ属（Ｃｕｃｕｍｌｍ）及びウリ属（Ｃｕｃｕｒｂ
ｉｔａ）。

次の躯の単子葉堆草：ヒエ属（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ
）、エノコログサＭ（Ｓｅｔａｒｌａ）、キビ属（Ｐａ
ｎｌｃｕｍ）、メヒシバ属ＣＤ１ｇ１ｔａｒｉａ）、ア
ワガリエ属（Ｐｈｌｅｕｍ）、スズメノカタビラ属（Ｐ
ｏａ）、クシノケグサ属（Ｆｅｓｔｕｃａ）、オヒシバ
属（Ｅｌｅｕｓｌｎｅ）、プラキアリア属（Ｂｒａｃｈ
ｉａｒｉａ）、ドグムギ属（Ｌｏｌｉｕｍ）、スズメノ
テヤヒキ＃４（Ｂｒｏｒｒｔｕｓ）、カラスムギ属（Ａ
ｖｅｎａ）、カヤツリグサ１ｓ４（Ｃｙｐｅｒｕｓ）、
モロコシ属（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、カモジグサ属（Ａｇｒ
ｏｐｙｒｏｎ）、ジノトンＪｇ（Ｃｙｎｏｄｏｎ）１ミ
ズアオイ属（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、テンツキ属（Ｆ
ｌｍｂｒｉａｔｙｌｉｓ）、オモダカ属（Ｓａｇｉｔｔ
ａｒｌａ）、ハリイ属（Ｅｌｅｏｃｈａｒｌｓ）、ホタ
ルイ属（Ｓｃｉｒｐｕａ）、パスパルム楓（Ｐａｓｐａ
ｌｕｍ）Ｘカモノハシ）ｆｊ４　（Ｉｓ　ｅｈａｅｍｕ
ｍ））スフニックレアＭ（Ｓｐｈｅｎｏｃｌｅａ）、ダ
クチロクテニウム属（Ｄａｃｔｙｌｏｃｔ＠ｎｉｕｍ）
、ヌカボ属（ＡｇｒｏＬ口１１）、スズメノテツボウ属
（Ａｌｏｐｅｅｕｒｕｓ）及びアペラ属（Ａｐｓｒａ）
。

次の属の単子葉栽培植物：イネＪ＠（Ｏｒｙｚａ）、ト
ウモロコシ属（Ｚｅａ）、コムギ属 （Ｔｒｉｔｉａｕｍ）、オオムギＪｇ（Ｈｏｒｄｅｕｍ
）、カラスムギ属（Ａｖｅｎａ）、ライムギ属（Ｓｅｅ
ａｌｅ）Ｓモロコシ属（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、キビ属（Ｐ
ａｎｉｅｕｍ）、サトウキビＭ（Ｓａｅａｈａｒｕｍ）
、アナナス属（Ａｎａｎａｓ）、クサスギカズラＦＡ　
（Ａａｐａｒａｇｕａ）、およびネギＭＣＡ目１ｕｍ）
。

しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれら
の楓にまったく限定されず、同じ方法で他の植物に及ぶ
。

化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線
路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び四角
い広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は
多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果ｍ園、ブド
ウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植
林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油ヤ
シの植林、カカオの植林、小果樹の植え付は及びホップ
の栽培植物の中の雑草の防除に、そして１年少栽培植物
中の雑草の選択的防除に使用することができる。

本発明による活性化合物は、特に単子葉植物例えばオオ
ムギ又はコムギにおける単子葉及び双子葉雑草の選択的
駆除に対して特に成功裏に使用することができる。

式（ＩＶ）の前駆体も、適当な量で用いる場合に良好な
除草活性を有する。

本発明による活性化合物は植物の代謝作用に関係し、従
って生長調節剤として用いることができる。

植物生長調節剤の作用方法の今日までの経験から、活性
化合物が植物にいくつかの異なる作用を及ぼすことが分
っている。化合物の作用は本質的に該化合物を使用する
時点、植物の発育段階、並びに植物Ｋまたはその周りに
適用する活性化合物の量及び化合物の適用方法に依存す
る。各々の場合に、生長調節剤が特定の所望の方法で穀
物植物に影響を及はすようにする。

植物における葉の賞を生長調節剤の影響下で調節するこ
とができ、従って所望の時点で植物の落葉が行える。か
かる落葉は綿の機械的収穫に際して極めて重要であるが
、しかしまた他の作物、例えはぶどう栽培における収穫
促進に対しても重要である。また植物の落葉は植物を移
植する前に植物の蒸散を低下させるために行うことがで
きる。

本活性化合物は普通の組成物例えば、溶液、乳液、水利
剤、懸濁剤、粉末、粉剤、塗布剤、可溶性粉剤、顆粒、
懸濁−乳液濃厚剤、泡沫剤、活性化合物を含浸させた天
然及び合成物質、柚子用の重合物質中の極く細かいカプ
セル及びコーティング組成物、並びにＵＬＶ組成物に変
えることができる。

これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合
物を伸展剤、即ち液体溶媒、加圧下の液化気体及び／ま
たは固体の担体と随時表面活性剤、即ち乳化剤及び／ま
たは分散剤及び／または発泡剤と混合して製造される。

伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒として有
機溶媒を用いることもできる。液体溶媒として、主に、
芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしくはアル
キルナフタレン、塩素化きれた芳香族もしくは塩素化さ
れた脂肪族炭化水素例えばクロロベンゼン、クロロエチ
レン４Ｌ＜Ｈ塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えばシク
ロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、アルコ
ール例えばブタノールもしくはグリコール並びにそのエ
ーテル及びエステル、ケトン例えばアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルインブチルケトンもしくはシクロヘ
キサノン、強い有極性溶媒例えばジメチルホルムアミド
及びジメチルスルホキシド並びに水が適している；液化
した気体の伸展剤または担体とは、常温及び常圧では気
体でるる液体を意味し、例えはハロゲン化された炭化水
素並びにブタン、プロパン、窒素及び二酸化炭素の如き
エアロゾル噴射基剤である。

固体の担体として、粉砕した天然鉱物、例えばカオリン
、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト
、モントモリロナイト、またはケイソウ上釜ひに粉砕し
た合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アルミナ及びシ
リケートが適している；粒剤に対する固体の担体として
、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理石、
軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のひきわシ
合成和粒及び有機勧賞の顆粒例えばおがくず、やしから
、トウモロコシ穂軸及びタバコ茎が適している；乳化剤
及び／または発泡剤として非イオン性及び陰イオン性乳
化剤例えばポリオキシエチレ７−脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例、ｔ　ハア
ルキルアリールポリクリコールエーテル、アルキルスル
ホネート、アルキルスルフェート、アリールスルホネー
ト基ひにアルブミン加水分解生成物が適している：分散
剤として、例えばリグニンスルファイト廃液及びメチル
セルロースが適している。

接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並ヒに粉状、
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及ヒポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質例えばセファリン及びレシチ
ン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる。

更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。

着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
グルシアンブルー並ひに有機染料例えばアリザリン染料
及び金属フタロシアニン染料、及び微蓋の栄養剤例えば
鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブテン及び
亜鉛の塩を用いることができる。

調製物は一般に活性化合物α１乃至９５重ｊｊｋｅＩＩ
間、好ましくはα５乃至９０重量％間を含有する。

また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調
製物の形態において、公知の除草剤との混合物として雑
草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合物
または種混合が可能でりる。

混合物に可能な共厄分は公知の除草剤、例えば穀類中の
雑草を駆除するための１−アミノ−６−エチルチオー３
−（２，２−ジメチルエチル）−１，３，５−トリアジ
ン−２，４（ＩＨ，５Ｈ）−ジオン又１１ｔＮ−（２−
ベンゾチアゾリル）−Ｎ、Ｎ’−ジメチル−尿素；サト
ウダイコン中の雑草を駆除するための４−アミノ−３−
メチル−６−フェニル−１，２，４−トリアジン−５（
４Ｈ）−オン、及びダイズ中の雑草を駆除するための４
−アミノ−６−（Ｉ，１−ジメチルエチル）−５−メチ
ルチオ−１，２，４−トリアジン−５（４Ｈ）−オンで
ある。

Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ’−（３−クロル−４−メチルフ
ェニル）−尿素：Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ’−（４−イソ
プロピルフェニル）−尿２：４−アミノー６−ｔ−ブチ
ル−６−ニチルテオー１゜２．４−）リアジン−５（４
Ｈ）−オン；２．４−ジクロルフェノキシ酸ｆｉ：２，
４−ジクロルフエノキシグロビオン赦；（２−メチル−
４−クロルフェノキシ）−ｍｌ：（４−クロル−２−メ
チルフェノキシ）−グロビオン酸；２−ベンジロキシエ
チル、トリメチルシリルメチル又は２．２−ジニトキシ
エチル２−（４−（３，５−ジクロルアリド−２−イロ
キシ）−フェノキシ〕−プロピオネート：メチル５−（
２，４−ジクロルフェノキシ）−２−ニトロベンゾエー
ト；３．５−ショート−４−ヒドロキシベンゾニトリル
；５−イソプロピル−２，１，３−ベンゾチアジアジン
−４−オン２．２−ジオキシド；２−クロル−Ｎ−（〔
（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン
−２−イル）−アミノコ−カルボニル）−ベンゼンスル
ホンアミド；４−エチルアミノ−２−ｔ−ブチルアミノ
−６−メチルチオ−ａ−）リアジン；Ｎ−メチル−２−
（Ｉ，３−ベンゾチアゾルー２−イロキシ）−アセトア
ニリド；５−（２，３，３−トリクロルアリル）Ｎ、Ｎ
−ジイソプロピル−チオール−カーバメート：Ｎ−（Ｉ
−エチルグロビル）−３，４−ジメチル−２，６−シニ
トロアニυン；３．５−ジブロム−４−ヒドロキシ−ベ
ンゾニトリル；及びメチル２−［４−（２，４−ジクロ
ルフェノキシ）−フェノキシクープロピオネートとの混
合物も適当な場合には有オＵである。驚くことに１いく
つかの混合物は相乗作用も示す。

また他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤、殺
虫剤（ｔｎｓｅｃｔｌｃｌｄｅｓ）、殺ダニ剤（ａｃａ
ｒ％ｃｉｄａｓ）、殺線虫剤（ｎｅｍａ　ｔｌ　Ｃ１ｄ
　ｅ　ａ　）。

小鳥忌避剤、植物栄養剤及び土壌改頁剤との混合物が可
能である。

本活性化合物はそのままで、或いはその配合物　　、の
形態またはその配付物から更に希釈して制波した使用形
幅、例えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及
び粒剤の形態で使用することができる。これらのものは
普通の方法で、例えば液剤散布（Ｗ＾ｔａｒｉｎｇ）、
スプレー、アトマイジング（ａｔｏｍｔｓ％ｎｇ）また
は粒剤散布（ｌＩＣ＾ｔｔｅｒ−１ｎｇ）によって施用
量れる。

本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に施
用することができる。また本化合物は種子をまく前に土
壌中に混入することができる。

本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えることが
できる。この意は本質的に所望の効果の特質に依存する
。一般に、施用量は土壌表面１ヘクタ一ルｆｉＤ活性化
合物α０１乃至１０４間、好ましくはα０５乃至５麺／
　ｈ　ａ間でるる。

植物生長調節剤として用いる場合、本発明による活性化
合物は他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤、
殺虫剤１．殺ダニ剤及び除草剤との混合物としＣ１並び
に肥料及び他の生長調節剤との混合物として調製物中に
存在することができる。

本活性化合物はそのままで、その調製物の形態或いは該
′Ａ製物から更に希釈して調製した使用形態、例えば？
Ａ＆１済液剤、乳化可能な濃厚物、乳剤、泡沫剤、懸濁
剤、水利剤、塗布剤、可溶性粉剤、粉剤及び粒剤の形態
で使用することができる。これらのものは普通の方法に
おいて、例えば液剤散布、スプレー、アト！イジング、
粒剤散布、粉剤散布、７オーミング（ｆｏａｍｔｎｇ）
、ブラッシング等によって施用される。更に、超低容量
法に従って活性化合物を施用するか、或いは活性化合物
のＶ＠製物または活性化合物自体を土壌中に注入するこ
とができる。また植物の種子を処理することもできる。

その施用量は実質的な範囲内で変えることができる。一
般に、土壌表面１ヘクタール当り活性化合物α０１〜５
０に１好ましくはα０５〜１０ｋを用いる。

施用時期に関しては、生長調節剤を好ましい時期内に施
用することが原則であり、その正確な定義は天候及び生
育環境に依存する。

本発明による活性化合物の製造及び使用法は以　　、下
の実施例から明らかである。

製造例 実施例　１ ＣＦ。

（方法ｂ） 氷酢叛１〇−中５−ジクロルアセトアミド−１”　（２
ｅ　５−６−ドリクロルー４−トリフルオルメチル−フ
ェニル）−ピラゾール５Ｆ（α０１１５モル）に、無水
酢ｍ　１．２　ｒｌｌｔ（α０１２９モル）及び９８チ
硝酸α６−（α０１４３モル）を連続的に室湛で添加し
た。混合物を２０時間撹押した後、これを真空下に回線
し、残渣を塩化メチレン５０ｒｕｅ中に入れ、溶液全飽
和炭酸水素ナトリウム溶液及び飽和塩化ナトリウム溶液
で連続的に洗浄した。

この有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、真空“下に溶
媒を除去した。この結果融点１１２〜１２０℃の５−ジ
クロルアセトアミド−４−ニトロ−１−（２，５，６−
ドリクロルー４−トリフルオルメチル−フェニル）−ピ
ラゾール４．２　ｔ　（理論量の７ｆ４％）を得た。

実施例　２ Ｓ　ｏＩＣＦ。

（方法ｈ） 氷酢酸１〇−中５−ジクロルアセトアミド−１−＜２．
６−ジｌロルー４−トリフルオルメチル−フェニル）−
ピラゾール５．２ｆ（α０１１０モル）に、無水酢酸ｔ
　２　ｍｔ　（Ｉ０１２９モル）及び９８％硝酸［Ｌ６
ｄ（α０１３９モル）を連続的に室温で添加した。反応
混合物を２０時間攪押した後、これを真空下に蒸発させ
、残渣をジクロルメタン５〇−中に入れ、得られた溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム酊液及び飽和塩化ナトリウム
溶液で連続的に洗浄した。有機相を硫酸！グネシウムで
乾燥し、溶媒を真空下に除去した。融点１３８〜１４２
℃の５−ジクロルアセトアミド−４−ニトロ−１−（２
，６−ジクロル−４−トリフルオルメチルスルホニル−
フェニル）−ピラゾール４．７ｆ（理論量の８五９チ）
を得た。

実施例　３ ＣＦ。

方法（ａ） ジクロル酢酸１〇−中５−アミノ−１−（２，６−ジク
ロル−３−フルオル−４−トリフルオルメチルフェニル
）−４−二トロビラソールＡＯｙ（ｌｏｏａ４モル）に
、ジクロルアセチルクロライド＆０−（Ｉ０３１モル）
及び９８％硫酸２滴を添加した。混合物を１４０℃で４
時間攪件し、次いで水５〇−及びジクロルメタン５〇−
中に入れた。この有機相を分離し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液及び飽和塩化す）　ＩＪウム溶液で連続的に洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そして溶媒を真空下
に除去した。融点１１５〜１１７℃の５−ジクロルアセ
トアミド−（２，６−ジクロル−３−フルオル−４−ト
リフルオルメチルフェニル）−４−二トロピラゾールＡ
　２　ｔ　（ｊ３１論量の８１．５％）を得た。

一般式（Ｉ）の次の５−ジクロルアセトアミド−４−ニ
トロ−１−アリールピラゾールを対応する方法で及び一
般的な製造法に従って製造した：＠１表 第１我（つづき） 第１表（つづき） 第１表（つづき） 実り一例　１ａ−Ｉ ＣＦ。

６７％硝酸ｚｓ−（ｕｏ３４−ｖ−ル）及び尿素α１ｔ
の水３０ｔｎｔ中沸とう溶液に、５−アミノ−１−（２
，６−ジクロル−３−フルオル−４−トリフルオルメチ
ルフェニル）−ピラゾール１０１Ｆ（α０３２モル）を
一部ずつ添加した。懸濁液を冷却し、沈殿全戸別し、真
空下に室温で乾燥した。

この乾燥沈殿を９８％硫酸４〇−中に一５℃で導入し、
混合物を０〜５℃で１２時間撹拌した。次いで反応混合
物を水３５０ｄ上に導入し、短時間沸とうさせ、室温ま
で冷却し、沈殿を戸別した。

沈殿を中性になるまで水洗し、４０〜５０℃で真空下に
乾燥した。融点１５６℃の５−アミノ−１−（２，６−
ジクロル−３−フルオル−４−トリフルオルメチルフェ
ニル）−４−ニトロピラ”／−ルア、　Ｏｔ　（理論量
の６１％）を得たニ一般式（Ｉ）の次の５−アミノ−１
−アリール−４−ニトロピラゾールを対応する方法で及
び一般的な製造法に従って製造した。

第２表 第２表（つづき） 実施例　■−Ｉ ＣＦ。

ジクロルメタン８０５ｇ中５−アミノ−１−（２，５，
６−ドリクロルー４−トリフルオルメチル−フェニル）
−ピラゾールａｏｌ：、ｍ水炭酸ナトリウム１５．５Ｆ
（α１４５モル）及び９８チジクロルアセテルクロライ
ド４．７６ｍｊ（（ＬＯ４８モル）を５〜１０℃で連続
的に添加した。この混合物を５〜１０℃で４時間及び室
温で１３時間攪拌した。この混合物をジクロルメタン８
０−で希釈し、−過し、そして水及び飽和塩化す）　Ｉ
Ｊウム溶液で連続的に洗浄した。有機相をｆｌｆ［ｋす
）　ＩＪウムで乾燥し、溶媒を真空下に除去した。融点
１５６〜１６１℃の５−ジクロルアセトアミド−１−（
２，３，６−）シクロルー４−トリフルオルメチル−フ
ェニル）−ピラゾール１αＯ２（理論量の９ム５％）を
得た。

４−位が未置換である一般式（ＩＶ）の次の５−ジクロ
ルアセトアミド−１−アリール−ピラゾールを対応する
方法で及び一般的な製造法に従って製造した： ８ｇ３表 第３表（つづき） 第３表（つづき） ｌ 第３表（つづき） 式（Ｖ）の出発物質の製造 実施例　Ｖ−１ １；ｌ エタノール１００〇−中３．５−ジクロル−２，４−ジ
フルオルベンゾトリフルオリド４７０ｆを最初に導入し
、ヒドラジン水和物を導入し、セして混合物を還流下に
５時間加熱した。

次いで溶媒を減圧下に留去し、残渣を冷水１を中で攬押
した。３０分後に混合物を吸引−過し、固体生成物を循
環炉中で乾燥した。融点５０〜５１℃の２．６−ジクロ
ル−３−フルオル−４−トリフルオルメチル−フェニル
ヒト２ジン４４５ｆ’ｉｉ得た。

実施例　Ｖ−２ ２、、５　、４−）リクロルベンゾトリフルオリド１０
０ｔを最初に導入し、ピリジン２００−を添加し、次い
でヒドラジン水利ａ／１Ｊ１００ｒを入れ、混合物を還
流下に１２時間加熱した。次いでピリジン９０％を留去
し、残フの残渣を水２５０−に混入した。結晶生成物を
吸引ｐ別し、少量の水で洗浄し、乾燥した。融点７９〜
８０℃の２．３−シクロルー４−　トリフルオルメチル
フェニルヒドラジン７８ｖを得た。

下表に示す式（Ｖ）の化合物を、対応する方法で、特に
実施例Ｖ−１と同様にして及び一般的な製造法に従って
！Ｒ遺した： 第４表 １”　　　　　Ｌ；１ 第４表（つづき） 実施例養分　　　　　　　　　　　　　　　融点　（’
Ｃ）ド Ｉ 実施例　■−１ ＣＦ。

２．６−ジクロル−５−フルオル−４−トリフルオルメ
チルフェニルヒドラジン４２．６Ｆ（α１６２モル）を
分析縁メタノール２５０−に溶解し、チトリグレツクス
１１１３５ｆを添加し、混合物を還流下に加熱した。こ
の温度において、９８％２−クロルアクリロニトリル４
０ｍ（＝４４　ｔ／α０４９モル）を３０分間にわたっ
て滴々に添加した。この混合物を還流温度で５時間攪拌
した。そして反応混合物を蒸発乾固した。

残渣をトリフルオル酢酸１００−に懸濁させ、ゆつくシ
加熱した。攪拌を８０〜８３℃で８時間継続した。トリ
フルオル酢酸を僅か々真空下に留去し、残渣をメタノー
ル２５０−に溶解し、無水炭酸ナトリウム５５ｔ（α５
２モル）を添加した。

この混合物を２時間攪拌し、溶媒を真空下に留去し、残
液を水ｊｔＫ懸濁させた。沈殿を吸引Ｐ別し、中性にな
るまで水性し、５０℃で真空下に乾燥した。

融点７０〜７８℃の５−アミノ−１−（２，６−ジクロ
ル−３−フルオル−４−トリフルオルメチルフェニル）
−ピラゾール４１．２　ｔ　（理論量の８１％）を得た
。

一般式（■）の次の５−アミノ−１−７＋７−　　ルビ
ラゾールを対応する方法で及び一般的製造法に従って製
造した。

第５表 第５表（つづき） 使用例 以下の使用実施例において、下記の化合物を対照物質と
して用いた： ５−（ω−クロルブチラミド）−４−ニド１＋−１−（
２，６−ジクロル−４−トリフルオルメチル−フェニル
）−ピラゾール （独国公開特許第４４０１０８号に開示されているもの
） 実施例　Ａ 発芽前試験 溶　媒ニア七トン５重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル１重
量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒と混合し、上記蓋の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。

試験植物の種子を通常の土壌中にまき、２４時間後、活
性化合物の調製物を液剤散布した。単位面積当りの水の
電を一定に保持することが適当である。調製物中の活性
化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当プ施用した活
性化合物の値のみが決めてとなる。３週間後、植物に対
する損傷の程度を、未処理対照植物の発育と比較して、
チ損傷として評価した。数字は次を意味する：０％＝作
用なしく未処理対照と同様） １００％＝全破壊 この試験において、例えば製造実施例１．２．３及び１
５による化合物は、ヒエ属、ヤエムグラ属、カラン属、
ハコベ属、そしてエノコログサ属に関して対照物質囚よ
シも明らかに優れた活性を示した。

実施例　Ｂ 発芽後試験 溶　媒：アセトン　５重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル　１
重振部 活性化合物の適当な１ｉ１４ＩＡ物を製造するために、
活性化合物１ｍｊｔ部を上記量の溶媒と混合し、上記量
の乳化剤を加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度
にし罠。

高さ５〜１５３の試験植物に１単位面積当シ所望の活性
化合物の特定の童が施用されるように、活性化合物の調
製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の活性化合物の特
定の量が１ヘクタール当シ水２０００ｔとして施用され
るように選定した。

３週間後、植物に対する損傷の程度を未処理対照の発育
と比較してチ損傷として評価した。数字は次の意味を表
わす： Ｏ％＝作用なしく未処理対照と同様） １００％＝全て撲滅 この試験において、例えば製造実施例２及び１５による
化合物は、コムギ中の雑草例えばヒエ属、ヤエムグラ属
、シロギク属、カラシ属及びキビ属に対して対照物質（
４）よりも明らかに優れた活性を示した。

実施例　Ｃ ワタの葉の落葉及び脱水 浴　媒ニジメチルホルムアミド　３０重量部乳化剤：ポ
リオキシエチレンソルビタンモノラウレート　１電量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この混
合物を水で所望の濃度にした。

ワタ植物を第５の第２葉が完全に開くまで温床で発育さ
せた。この段階で植物に活性化合物の調製物をしたたり
落る程度にぬれるまで噴霧した。

１週間後、葉の落葉及び脱水を対照植物と比較して評価
した。

記号は次の意味を表わす： ０；葉の脱水なし。葉の落葉なし ＋２葉のわずかの脱水、葉のわずかの落葉＋＋＝葉のき
びしい脱水、葉のきびしい落葉＋＋＋＝菓の極めてきび
しい脱水１ 葉の極めてきびしい落葉 この試験において、製造例１．３．４．９及び１５１Ｃ
よる化合物は明らかに効果的な落葉と脱水を示した。

第０表 未処置対照　　　　　　−＝　０ （Ｉ）　　　　　　　　α０５　　　　　　＋＋＋（３
）　　　　　　　　（Ｌ　０５　　　　　　＋　＋　＋
（４）　　　　　　　　α０５　　　　　　＋＋＋（９
）　　　　　　　　α０５　　　　　＋＋＋（Ｉ５）　
　　　　　α０５　　　　　　＋＋＋第０表（つづき） 活性物質 ＣＦ。

第０表（つづき） 活性物質 Ｆｓ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１は水素、弗素、塩素又は臭素を表わし、 Ｒ＾２は水素、弗素又は塩素を表わし、 Ｒ＾３はハロゲン、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコ
   キシ、ハロゲノアルキルチオ又はハロゲノアルキルスル
   ホニルを表わし、 Ｒ＾４は水素、弗素、又は塩素を表わし、そして Ｒ＾５は弗素、塩素又は臭素を表わし、但しＲ＾１とＲ
   ＾５が同時に塩素を表わし且つ更にＲ＾２及びＲ＾４が
   同時に水素を表わす場合、Ｒ＾３は塩素又はトリフルオ
   ルメチルを表わさない〕 の５−ジクロルアセトアミド−４−ニトロ−１−アリー
   ル−ピラゾール。 ２、Ｒ＾１が水素、弗素、塩素又は臭素を表わし、Ｒ＾
   ２が水素、弗素又は塩素を表わし、 Ｒ＾３が弗素、塩素、臭素或いは、それぞれ炭素数１〜
   ４及び同一の又は異なるハロゲン原子数１〜９を有する
   ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ、ハロゲノアル
   キルチオ又はハロゲノアルキルスルホニルを表わし、 Ｒ＾４が水素、弗素又は塩素を表わし、そしてＲ＾５が
   弗素、塩素又は臭素を表わし、但しＲ＾１及びＲ＾５が
   同時に塩素を表わし且つ更にＲ＾２及びＲ＾４が同時に
   水素を表わす場合Ｒ＾３は塩素又はトリフルオルメチル
   を表わさない、 特許請求の範囲第１項記載の式（ I ）の５−ジクロル
   アセトアミド−４−ニトロ−１−アリール−ピラゾール
   。 ３、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１は水素、弗素、塩素又は臭素を表わし、 Ｒ＾２は水素、弗素又は塩素を表わし、 Ｒ＾３はハロゲン、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコ
   キシ、ハロゲノアルキルチオ又はハロゲノアルキルスル
   ホニルを表わし、 Ｒ＾４は水素、弗素、又は塩素を表わし、そして Ｒ＾５は弗素、塩素又は臭素を表わし、但しＲ＾１とＲ
   ＾５が同時に塩素を表わし且つ更にＲ＾２及びＲ＾４が
   同時に水素を表わす場合、Ｒ＾３は塩素又はトリフルオ
   ルメチルを表わさない〕 の５−ジクロルアセトアミド−４−ニトロ−１−アリー
   ル−ピラゾールを製造するに当つて、ａ）式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５は
   上述の意味を有する〕 の５−アミノ−４−ニトロ−１−アリール−ピラゾール
   を、適当ならば希釈剤の存在下に及び適当ならば酸又は
   塩基触媒の存在下に式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中、Ｅは電子吸引性の開裂基を表わす〕のジクロル
   アセチル化合物と反応させる、或いはｂ）４−位が未置
   換の式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） の５−ジクロルアセトアミド−１−アリール−ピラゾー
   ルを、適当ならば希釈剤の存在下に及び適当ならば触媒
   の存在下に硝酸と反応させる、式（ I ）の５−ジクロ
   ルアセトアミド−４−ニトロ−１−アリール−ピラゾー
   ルの製造法。 ４、特許請求の範囲第１〜３項記載による式（ I ）の
   ５−ジクロルアセトアミド−４−ニトロ−１−ピラゾー
   ルを少くとも１種含有する除草剤及び植物生長調節剤。 ５、雑草を駆除するために及び／又は植物生長調節剤と
   して特許請求の範囲第１〜３項記載による式（ I ）の
   ５−ジクロルアセトアミド−４−ニトロ−１−アリール
   −ピラゾールを用いること。 ６、特許請求の範囲第１〜３項記載による式（ I ）の
   ５−ジクロルアセトアミド−４−ニトロ−１−アリール
   −ピラゾールを増量剤及び／又は表面活性物質と混合す
   る除草剤及び／又は植物生長調節剤の製造法。 ７、式（IIａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIａ） 〔式中、Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及びＲ＾４＾
   −＾１は互いに独立にそれぞれ水素、弗素又は塩素を表
   わし、そして Ｒ＾５＾−＾１は弗素又は塩素を表わし、但しＲ＾１＾
   −＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−＾１及びＲ＾５＾
   −＾１が同時に弗素を表わし、 Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−＾１及び
   Ｒ＾５＾−＾１が同時に塩素を表わし、 Ｒ＾１＾−＾１及びＲ＾５＾−＾１が塩素を表わし且つ
   Ｒ＾２＾−＾１及びＲ＾４＾−＾１が同時に水素又は弗
   素を表わし、そしてＲ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及
   びＲ＾４＾−＾１が水素を表わし且つＲ＾５＾−＾１が
   同時に塩素を表わし、またＲ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−
   ＾１及びＲ＾５＾−＾１が塩素を表わし且つＲ＾４＾−
   ＾１が同時に水素を表わす場合を除く〕の５−アミノ−
   ４−ニトロピラゾール。 ８、式（IIａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIａ） 〔式中、Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及びＲ＾４＾
   −＾１は互いに独立にそれぞれ水素、弗素又は塩素を表
   わし、そして Ｒ＾５＾−＾１は弗素又は塩素を表わし、但しＲ＾１＾
   −＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−＾１及びＲ＾５＾
   −＾１が同時に弗素を表わし、 Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−＾１及び
   Ｒ＾５＾−＾１が同時に塩素を表わし、 Ｒ＾１＾−＾１及びＲ＾５＾−＾１が塩素を表わし、且
   つＲ＾２＾−＾１及び４−１が同時に水素又は弗素を表
   わし、そしてＲ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及びＲ＾
   ４＾−＾１が水素を表わし且つＲ＾５＾−＾１が同時に
   塩素を表わし、またＲ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及
   びＲ＾５＾−＾１が塩素を表わし且つＲ＾４＾−＾１が
   同時に水素を表わす場合を除く〕の５−アミノ−４−ニ
   トロピラゾールを製造するに当つて、式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−
   ＾１及びＲ＾５＾−＾１は上述の意味を有する〕 のフェニルヒドラジンを、最初第１段階において、適当
   ならば希釈剤の存在下に及び適当ならば反応助剤の存在
   下に式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） 〔式中、Ｈａｌはハロゲン、特に塩素又は臭素を表わす
   〕 の２−ハロゲノアクリロニトリルと−２０℃〜＋２０℃
   の温度で反応させて式（VII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 〔式中、Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−
   ＾１、Ｒ＾５＾−＾１及びＨａｌは上述の意味を有する
   〕 のアリールヒドラジンを製造し、そしてこれを、第２段
   階において、適当ならば希釈剤の存在下に及び適当なら
   ば酸触媒の存在下に＋５０℃〜＋１５０℃の温度で環化
   し、そして４−位が未置換であり且つこのようにして得
   られる式（VIII）▲数式、化学式、表等があります▼（
   VIII） 〔式中、Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−
   ＾１及びＲ＾５＾−＾１は上述の意味を有する〕 の５−アミノピラゾールを、続く反応において、適当な
   らば希釈剤の存在下且つ適当ならば反応助剤の存在下に
   及び−２０℃〜＋５０℃の温度下にニトロ化剤でニトロ
   化する、式（IIａ）の５−アミノ−４−ニトロピラゾー
   ルの製造法。 ９、式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及びＲ＾４＾
   −＾１は互いに独立にそれぞれ水素、弗素又は塩素を表
   わし、そして Ｒ＾５＾−＾１は弗素又は塩素を表わし、但しＲ＾１＾
   −＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−＾１及びＲ＾５＾
   −＾１が同時に弗素を表わし、 Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−＾１、及
   びＲ＾５＾−＾１が同時に塩素を表わし、 Ｒ＾１＾−＾１及びＲ＾５＾−＾１が塩素を表わし且つ
   Ｒ＾２＾−＾１及びＲ＾４＾−＾１が同時に水素又は弗
   素を表わし、そしてＲ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及
   び４−１が水素を表わし且つＲ＾５＾−＾１が同時に塩
   素を表わし、またＲ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及び
   Ｒ＾５＾−＾１が塩素を表わし且つＲ＾４＾−＾１が同
   時に水素を表わす場合を除く〕のアリールヒドラジン。 １０、式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及びＲ＾４＾
   −＾１は互いに独立にそれぞれ水素、弗素又は塩素を表
   わし、そして Ｒ＾５＾−＾１は弗素又は塩素を表わし、但しＲ＾１＾
   −＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−＾１及びＲ＾５＾
   −＾１が同時に弗素を表わし、 Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−＾１及び
   Ｒ＾５＾−＾１が同時に塩素を表わし、 Ｒ＾１＾−＾１及びＲ＾５＾−＾１が塩素を表わし且つ
   Ｒ＾２＾−＾１及びＲ＾４＾−＾１が同時に水素又は弗
   素を表わし、そしてＲ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１及
   びＲ＾４＾−＾１が水素を表わし且つＲ＾５＾−＾１が
   同時に塩素を表わし、またＲ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−
   ＾１及びＲ＾５＾−＾１が塩素を表わし且つＲ＾４＾−
   ＾１が同時に水素を表わす場合を除く〕のアリールヒド
   ラジンを製造するに当つて、式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） 〔式中、Ｒ＾１＾−＾１、Ｒ＾２＾−＾１、Ｒ＾４＾−
   ＾１及びＲ＾５＾−＾１は上述の意味を有し、そして Ｈａｌはハロゲン、特に弗素又は塩素を表 わす〕 のハロゲノ芳香族化合物を、適当ならば希釈剤の存在下
   にヒドラジン又はヒドラジン水和物と反応させる、式（
   Ｖ）のアリールヒドラジンの製造法。