JPS62132541A - 反応器の内部温度制御方法 - Google Patents

反応器の内部温度制御方法

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JPS62132541A
JPS62132541A JP27197785A JP27197785A JPS62132541A JP S62132541 A JPS62132541 A JP S62132541A JP 27197785 A JP27197785 A JP 27197785A JP 27197785 A JP27197785 A JP 27197785A JP S62132541 A JPS62132541 A JP S62132541A
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JP
Japan
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reactor
temperature
internal temperature
controlling
heating
Prior art date
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Application number
JP27197785A
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English (en)
Inventor
Katsutomo Hanakuma
花熊 克友
Toru Nagaseko
長迫 透
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、例えばバッチ反応器の内部温度をジャケット
温度によって制御する場合に、予測操作量を算出して先
行制御することにより、反応器内部の温度を時間遅れな
く、しかもオーバーシュートを防止した状態で最適に制
御する反応器の内部温度制御方法に関する。
[従来の技術] 従来、パッチ反応器の内部温度制御は、反応器の内部温
度をジャケット温度によって調節するカスケード方式の
フィードバック制御により行なっていた。
すなわち、例えば第6図に示すように、反応器1の周囲
に温度調節用のジャケット2を設けるとともに、反応器
1の内部温度を検出する内温温度計21と、この温度計
21からの検出温度と設定温度の差にもとづいた信号を
出力するバッチスイッチ付の内温:A百計22、および
ジャケット2の温度を検出する外温温度計23と、この
温度計23からの検出温度と上記内温調節計22からの
設定温度との差に応じた制御信号を出力するジャケット
温度調節計24、さらにジャケット温度調節計24から
の信号にもとづいてジャケット2に供給する蒸気と冷却
水の量を調節する調節弁25.26とを備えた構成とし
てあった。
そして、その制御は、第7図に示すようにバッチスイッ
チ付の内温調節計22を、時間t1の間一定出力値とし
、ジャケット2に供給する蒸気の調節弁25を開けて急
速に加熱昇温させ、反応器lの内温か操作出力上限設定
値に達した段階、すなわちターニングポイントにおいて
内温調節計22の出力を下げてバイアス設定値だけ降温
させ、その後PID制御させることによって行なってい
た。
[解決すべき問題点] 上述した従来の反応器の内部温度制御方法は、ジャケッ
ト温度を変化させて応答するまでに数分以上の時間遅れ
があり、かつフィードバック制御のため行き過ぎ制御と
なりやすかった。そのため、ジャケット温度が大きく変
動してオーバーシュートや暴走などの現象を生じ、反応
器の内部温度が不安定になりやすいといった問題があっ
た。そこで、制御にあたっては、オペレータの経験をも
とに、ジャケット温度の変化速度、あるいは加熱から冷
却への温度切替のためのターニングポイントの設定時間
などを調節して行なっていた。この結果、オペレータの
熟練度によって制御の良否に差が出るとともに、未熟練
のオペレータの場合には制御性が非常に悪くなるといっ
た問題点があった。
本発明は上記の問題点にかんがみてなされたもので、評
価関数を最小とする所定時間先の予測操作量を求め、こ
の予測操作量にもとづいて加熱手段または冷却手段を制
御することにより、オペレータの熟練度等に関係なく最
適制御を行なえる反応器の内部温度制御方法の提供を目
的とする。
[問題点の解決手段] 上記目的を達成するため本発明の反応器の内部温度制御
方法は、反応器の内部温度設定値および測定値とから算
出した評価関数J Y+  (k十見):設定値、Ys  (k):測定値
を最小とする予測操作量を求め、この予測操作量にもと
づいて反応器の加熱手段または冷却手段を予測先行制御
するようにしである。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を:A1図乃至第4図にもとづ
いて説明する。
第1図は本実施例の方法を実施する装置の構成図、第2
a図および第2b図は本実施例のフローチャート図、第
3図および第4図は本実施例の方法を採用した場合の操
作量と内部温度の関係図および制御結果を表わした図を
示す。
第1図において、1は反応器であり、その周囲には反応
器の内部温度を制御するジャケット2が設けである。3
はジャケット2に供給する加熱または冷却媒体の供給管
で、熱交換姦4において加8蒸気または冷却水と熱交換
が行なわれ温度管理される。5は加熱蒸気あるいは冷却
水の供給管6に設けである温度制御用の流量7ArIJ
弁である。7は反応器1の内部温度を検出する温度検出
器、8はジャケット2の温度を検出する温度検出器、9
は加熱または冷却媒体の温度を検出する温度検出器であ
り、これらによって検出された各温度信号は、予測制御
装2110に入力される。
予測制御装置ioは、各温度計7.8.9からの測定値
と反応器1の内部温度設定値にもとづいて予測操作量を
算出する演算装置である。そして、この予^−制御装置
10は、非線形微分方程式で設定された反応器連続モデ
ルを線形化する手段と、この線形化した式をマトリック
スで表現させる手段と、この線形化して得られたマトリ
ックスを離散化する手段と、#教化した式をインパルス
応答モデルに変換する手段と、このインパルス応答モデ
ルを差分化する手段と、ダイナミックス−マトリックス
により予測モデルを設定する手段と、前記内部温度の設
定値および各部側定値から算出した評価関数を最小とす
る予測操作量を算出する子役とを備えている。
次に、第2a図および第2b図のフローチャートにより
実施例の方法について詳細に説明する。
■ まず、バッチ反応器連続モデルの非線形連立微分方
程式を設定する(第2a図における101のプロセス)
反応系における基本式 ○反応器の物質収支(原料モノマーQの転化速度は次式
で表わされる) dx/dt =k  (T++  )   (f  −Cz  ) 
 へ  (1−x)・・・・・・ (1) ここで、アレm=ウスの式より k (TR)=ko  exp (−h/Tt+ )k
O:頻度因子 り二内部エネルギ O反応器の熱収支 dTR/dt = 1/Cp@Ws  ”  (k (TR)  (f
−CZ )^(1−x)ΔH・Wo −U RA R(
TR−TC) l          ・・・・・・(
2)○熱交換器の熱収支 d TC/ d t = 1/CpeWc  −(URAR(TR−Tc )
−Ut AE  (TC−Ts ))    ・−・・
(3)ここでUE = f (Ws ) = ks  
6WS上記(1)〜(3)式における記号は次の通り。
X:原料上ツマ−Qの濃度 t:時 間 に:定 数 C1:触媒濃度 f:生成ポリマーにより決定される定数A:反応系によ
り決定される定数 TR:反応器内部温度 TC:ジャケット温度 Ts :加熱または冷却媒体の温度 Cρ自自互反応器内容物平均比熱 Cpc:加熱または冷却媒体の比熱 ΔH:反応熱(k call / kg腸oJL −Q
)W−:反応器内容物の重量 Wo :原料モノマーQの重量 Wc :加熱または冷却媒体の重量 UR:総括伝熱係数 AR:反応器の伝熱面積 A[:熱交換器の伝熱面積 Ws :加熱蒸気または冷却水の1&量ks:定 数 fz = (f*cl)八として(1)、(2)。
(3)式の係数を簡略化する。
d x / d t =k (TR) fz  (1−x)     ・・・
・・・(4)dTR/dt = 1/CpsWm ・ (k (TR)fl (1−
X)・ΔHWo −URAR(TR−Tc ))・・・
・・・(5) dTc/dt = 1 / CptWc  ・(URAR(TRTC)
−f (Ws ) AE  (TCTS ) l −−
(6)■ 次いで、非線形微分方程式で設定された反応
器連続モデルを線形化する手段で、次の処理を行なう(
第2a図における102のプロセス)。
前記(4)、(5)、(6)式の非線形微分方程式を逐
次、定常状態のまわりでティラー級数展開し、2次以降
の高次項を無視した式とする(本は動作点におtする伯
)。
k (TR”) = ko e x p (−h/TR
’)を代入して d (Δx)/dt =−k (TR’) f /ΔX + ko  e  x  p  (−h/Tシつ (1
/Ta”)φ hf7  (1−X”  )  ΔTR
・”−・ (7)d (ΔTR)  / d  t =ΔHWQ / Ca*W−(−k (TRつf/ΔX
+ko  exp  (h/TR”)  (1/TR”
  )−hfl  (1−X”)  ΔTR)   1
 / CpmW@−(URARΔTRXf  /1.8
 −URARΔT c )・・・・・・ (8) d (ΔTc)/dt =  1/CpcWc  (URARΔTR−u、、 
ARΔTc −f (Ws”) AEΔTc−AE  
 (Tc拳−T s ” )  Δ f  (WS  
)  )・・・・・・ (9) ■ 次いで、線形化した式をマトリックスで表現させる
手段において、次の処理を行なう(第2a図における1
03のプロセス)。
前記(7)、(8)、(9)式をマトリックスで表現す
る。
状態方程式 ・・−・・(10) 似下余白) 状態方程式 %式%() 出力方程式 y  (t)  =l)r  X  (t)ここでDT
 = Co : t : O)■ 次いで、線形化して
得られたマトリックスを離散化する手段で、次の処理を
行なう(第2Jにおける104のプロセス)。
連続系から離散系に変換する。
連続系 dX (t)/d t =FX (t)+GU (t)
Y (t) =DT X (t)  ;V1期値X(O
)=OU (t)=U (k); kT<t< (k+
L)T離散系 離散化式(11)  、  (12)により次式で表わ
すことができる。
離散化式 τ・・・時間きざみ Φ= 6 Fτ(I+Fτ+F2 ?2 /2 !+−
)・・・・・・(11) =τ(I +Fτ/21+F2 τ2/3!+・・・)
・G         ・・・・・・(12)■ 次い
で、離散化した式をインパルス応答モデルに変換する手
段において、次の処理を行なう(第2α図における10
5のプロセス)。
離散化した式をインパルス応答モデルに変換する。
Y(k+1) =Dr X (k+1) =DT  (KIX  (k)  + pT  ru 
 (k)=DT   (り2   X  (k−1) 
  +DT   4)  r U  (k−1)+DI
  rU (k) =ZD’ e”−1rU (k−1+1)+D[ΦN 
X (k−M+ 1) =ΣheU  (k−1+1) α・1 +D’  +HX  (k−N+  1)ココテ、he
=D’++し1r (見=t、2.3+・・・・・・、N)インパルス応答
モデルは次式で表わすことができる。
■ 次いで、インパルス応答モデルを差分化する手段で
、次の処理を行なう(第2゜L図におLする106のプ
ロセス)。
インパルス応答モデルを差分化する。
インパルス応答モデル 変換式 %式%1) ■ 次いで、ダイナミックス・マトリックスにより予測
モデルを設定する手段で、次の処理を行なう(第2し図
における107のプロセス)。
予測モデルを設定する。
!段目の予測モデル Y(k十立) 過  去 未  来 修正項 見=1,2.・・・・・・、p(p:予測限界)■ 次
いで、評価11a数を最小とする予測操作量を算出する
手段で、次の処理を行なう(第2し図における108の
プロセス)。
予測操作量を算出する。
評価IAI数J となるΔU(k)、ΔU(k+1)、・・・・・・。
ΔU (k+M−1)を求める。
(7丁 (k生立):設定値パターン)誤差ベクトルe
 (k+1) ダイナミックス°マトリフクス           
       ・・・・・・ (14)ここで修正項は
次のようにして求めたものである。
Y(k) d(k) (Y@  (k):測定値) 予測操作量は次式により求める。
= (AT  *A)−1ATe (k+1)(以下余
白) ここで誤差は 昇温バダーン    測定値 過  去   現  在   未  来■ 次いで、反
応器の加熱または冷却手段によって、次の処理を行なう
(第2b図における109のプロセス)。
予測制御装置lOにおいて算出された予測操作量を電気
信号等として出力し、この出力に応じて流量調節弁5の
駆動モータ等を作動させて弁の開度を調節して、熱交換
器4に供給する加熱蒸気あるいは冷却水の流量をyA節
する。
[相] これにより、ジャケット2に供給される加熱あ
るいは冷却媒体の温度が制御され、反応器lの内部温度
の制御がなされる(第2b図における110のプロセス
)。
このような制御方法を採用した場合には、第3図に示す
ような操作量と内部温度の関係が得られ、その結果第4
図に示すような反応器とジャケットの温度変化が期待で
きる、したがって、反応器1の内部温度が昇温し設定温
度で安定する際に、オーバーシュートを生じることがな
い。
なお、予測制御袋HIOで算出された予測操作量に応じ
て調節される加熱あるいは冷却手段としては、第5図に
示すようにジャケット2に供給する加熱または冷却媒体
の流量を調節弁5でJ4節するようにしたものであって
もよい。
このように評価関数を最小とする予測操作量を求めて予
測先行制御する温度制御方法によれば、制御の遅れやオ
ーバーシュートをなくすことができるとともに、プロセ
ス運転の安全性を確保でき、ジャケット温度の設定変更
の操作も必要なくなる。
[発明の効果] 以上のように本発明によれば、オペレータの熟練度等に
影響されることなく反応器内部の最適な温度制御を自動
的に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第5図は本発明の実施例に関する図で、第1
図は実施装置の構成図、第2a図および第2b図はフロ
ーチャート図、第3図は操作量と内部温度の関係グラフ
図、第4図は制御結果を示した図、第5図は実施装置の
他の構成図であり、:56図は従来例の実施装と構成図
、第7図は従来例の制御結果を示した図である。 ■−反応器      2:ジャケット3:加熱または
冷却媒体の供給管 4:熱交換器     5:調節弁 6:蒸気または冷却水の供給管

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)反応器内部温度の設定値、および測定値とから算
    出した評価関数を最小とする予測操作量を求め、この予
    測操作量にもとづいて反応器の加熱手段または冷却手段
    を調節し、反応器の内部温度を予測先行制御することを
    特徴とした反応器の内部温度制御方法。
  2. (2)イ、反応器の物質収支、反応器の熱収支、熱交換
    器の熱収支の非線形化連立微分方程式を線形化するプロ
    セス、 ロ、前記線形化して得られたマトリックスを離散化式と
    するプロセス、 ハ、前記離散化した式をインパルス応答モデルに変換す
    るプロセス、 ニ、前記インパルス応答モデルを差分処理するプロセス
    、 ホ、ダイナミックスマトリックスを用いて、反応器内部
    温度の設定値、および測定値とから算出した評価関数を
    最小とする予測操作量を求めるプロセス、 ヘ、前記予測操作量にもとづいて反応器の加熱手段また
    は冷却手段を調節するプロセス、とからなることを特徴
    とした特許請求の範囲第1項記載の反応器の内部温度制
    御方法。
  3. (3)上記測定値が、反応器の内部温度、ジャケット温
    度、加熱または冷却媒体の温度の測定値であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の反応
    器の内部温度制御方法。
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