JPS62130207A - 金属粉末の製造方法 - Google Patents
金属粉末の製造方法Info
- Publication number
- JPS62130207A JPS62130207A JP26996185A JP26996185A JPS62130207A JP S62130207 A JPS62130207 A JP S62130207A JP 26996185 A JP26996185 A JP 26996185A JP 26996185 A JP26996185 A JP 26996185A JP S62130207 A JPS62130207 A JP S62130207A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vessel
- container
- specific gas
- gas
- molten metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は容器上部から溶湯を流下させるとともに該溶湯
に不活性ガスを噴射して該容器内に溶湯を噴霧すること
により金属粉末を製造する方法に関するものである。
に不活性ガスを噴射して該容器内に溶湯を噴霧すること
により金属粉末を製造する方法に関するものである。
従来法を第３図に示す。図において、（１）は容器であ
り上部には開口部（２）が設けられ、下部はロート状に
されて底部に取出口（３）が設けられている。
り上部には開口部（２）が設けられ、下部はロート状に
されて底部に取出口（３）が設けられている。
そして開口部（２）の胸囲には開口部（２）に同けて不
活性ガスの噴射ノズル（４）が配置される。（５）は浴
湯容器であり該溶湯容器（５）の底部には該容器（１）
の開口部（２）に対向する８：湯ノズル（６）が取付け
られている。
活性ガスの噴射ノズル（４）が配置される。（５）は浴
湯容器であり該溶湯容器（５）の底部には該容器（１）
の開口部（２）に対向する８：湯ノズル（６）が取付け
られている。
上記構成においては溶湯容器（５）から溶湯（７）を容
器（１）の開口部（２）に向けて流下させるとともに該
溶湯流に噴射ノズル（４）から不活性ガスを噴射する。
器（１）の開口部（２）に向けて流下させるとともに該
溶湯流に噴射ノズル（４）から不活性ガスを噴射する。
このような不活性ガスの噴射によって溶湯流は飛散せら
れて液滴となって容器（ＩＩ内に噴霧され冷却固化して
金属粉末となる６）得られた金属粉末は容器（１）の取
出口（３）から取出される。
れて液滴となって容器（ＩＩ内に噴霧され冷却固化して
金属粉末となる６）得られた金属粉末は容器（１）の取
出口（３）から取出される。
上記従来法においては例えば容器（１１内雰囲気の酸素
濃度は容器（１）内界囲気が噴射される不活性ガスによ
り置換されることにより該不活性ガス中に含まれる酸素
濃度と等しくなる。そして製造される金属粉末には該容
器（１）内界囲気の酸素分圧と平衡に達する量の酸素が
含゛まれる。酸素分圧と金属粉末の酸素含有量との関係
は金稿の種類や余端の噴霧条件によって影響されるが通
常容器（１）内界囲気中の酸素濃度が３０ｐｐｍでは金
属粉末の酸素含有量が５０ ｐｐｍ程度である。
濃度は容器（１）内界囲気が噴射される不活性ガスによ
り置換されることにより該不活性ガス中に含まれる酸素
濃度と等しくなる。そして製造される金属粉末には該容
器（１）内界囲気の酸素分圧と平衡に達する量の酸素が
含゛まれる。酸素分圧と金属粉末の酸素含有量との関係
は金稿の種類や余端の噴霧条件によって影響されるが通
常容器（１）内界囲気中の酸素濃度が３０ｐｐｍでは金
属粉末の酸素含有量が５０ ｐｐｍ程度である。
しかしながら金属粉末の用途によっては加工性や得られ
る製品の品質向上のために金属粉末の酸素含有ｆＩｉを
例えば１００ ｐｐｍ以上に増加せしめることが望まし
い場合もある。更に金属粉末の物性を調節するために酸
素以外窒素や水素の含有量を調節することも望ましいこ
とである。従来の方法ではこのような金属粉末中に含ま
れているガスの量を調節することは出来ない。
る製品の品質向上のために金属粉末の酸素含有ｆＩｉを
例えば１００ ｐｐｍ以上に増加せしめることが望まし
い場合もある。更に金属粉末の物性を調節するために酸
素以外窒素や水素の含有量を調節することも望ましいこ
とである。従来の方法ではこのような金属粉末中に含ま
れているガスの量を調節することは出来ない。
本発明は上記問題点を解決する手段として、容器（１）
上部から溶湯（２）を流下させるとともに該溶湯（７）
に不活性ガスを噴射して該容器（１）内に該溶湯（力を
噴霧することによシ金属粉末を製造する方法において、
該容器（１）内界囲気の特定ガス濃度を調節することに
よって製造される金属粉末中の特定ガス含有量を調節す
るものである。
上部から溶湯（２）を流下させるとともに該溶湯（７）
に不活性ガスを噴射して該容器（１）内に該溶湯（力を
噴霧することによシ金属粉末を製造する方法において、
該容器（１）内界囲気の特定ガス濃度を調節することに
よって製造される金属粉末中の特定ガス含有量を調節す
るものである。
本発明の作用は下記の通りである。
容器上部から流下する溶訃に不活性ガスを噴射すると該
溶湯は徽細な液滴となって容器内に噴霧され冷却固化し
て金属粉末となる。このような金属粉未形成過程におい
て金属粉末に含有されている特定ガスの量は容器内雰囲
気に含有されている特定ガスの量（分圧）と平衡に達す
る。そこで容器内雰囲気中の特定ガス濃度（分圧）を調
節することによ多金属粉末中の特定ガス含有量を調節す
ることが可能である。容器内雰囲気中の特定ガス濃度の
調節は容器内に該特定ガスを吹込むことによって行われ
る。即ち容器内の特定ガスの量は噴射される不活性ガス
に含１れる特定ガスの量と容器内に吹込まれる特定ガス
の量との和になる。
溶湯は徽細な液滴となって容器内に噴霧され冷却固化し
て金属粉末となる。このような金属粉未形成過程におい
て金属粉末に含有されている特定ガスの量は容器内雰囲
気に含有されている特定ガスの量（分圧）と平衡に達す
る。そこで容器内雰囲気中の特定ガス濃度（分圧）を調
節することによ多金属粉末中の特定ガス含有量を調節す
ることが可能である。容器内雰囲気中の特定ガス濃度の
調節は容器内に該特定ガスを吹込むことによって行われ
る。即ち容器内の特定ガスの量は噴射される不活性ガス
に含１れる特定ガスの量と容器内に吹込まれる特定ガス
の量との和になる。
本発明においてはしたがって金属粉末中の特定ガス含有
量をＷｒ望の値に調節出来ることが簡羊に出来、所定の
加工性や物理的性質を有する金属粉末を容易に得ること
が出来る。
量をＷｒ望の値に調節出来ることが簡羊に出来、所定の
加工性や物理的性質を有する金属粉末を容易に得ること
が出来る。
本発明を第１図に示す一実施例によって説明すれば、（
１）は容器であり上部には開口５（２）が設けられ、下
部はロート状にされて底部に取出口（３）が設けられ、
該開口部（２）の周囲には開口部（２）に向けて不活性
ガスの噴射ノズル（４）が配置ちれる。（５）は例えば
ターンディツシュのような浴湯容器であり該溶湯容器（
５）の底部には該容器（１１の開口部（２）に対向する
注湯ノズル（６）が取付けられている。（８）は容器（
１）内に連絡する特定ガス（例えば酸素）の注入径路で
あシ該注入径路（８）には電磁弁（８）Ａが介在し、該
電磁弁（８）Ａは容器（１）内に挿入されている特定ガ
ス濃度センサ（９）（例えば酸素センサ）と連絡してい
る。
１）は容器であり上部には開口５（２）が設けられ、下
部はロート状にされて底部に取出口（３）が設けられ、
該開口部（２）の周囲には開口部（２）に向けて不活性
ガスの噴射ノズル（４）が配置ちれる。（５）は例えば
ターンディツシュのような浴湯容器であり該溶湯容器（
５）の底部には該容器（１１の開口部（２）に対向する
注湯ノズル（６）が取付けられている。（８）は容器（
１）内に連絡する特定ガス（例えば酸素）の注入径路で
あシ該注入径路（８）には電磁弁（８）Ａが介在し、該
電磁弁（８）Ａは容器（１）内に挿入されている特定ガ
ス濃度センサ（９）（例えば酸素センサ）と連絡してい
る。
上記構成において、容器（１）内を所望なれば真空にし
く通常約ＩＴｏｒｒ以下）、次いで特定ガスを所定濃度
で含有する所定のガスにより容器（１）内を置換する。
く通常約ＩＴｏｒｒ以下）、次いで特定ガスを所定濃度
で含有する所定のガスにより容器（１）内を置換する。
容器（１１を真空にすることは省略避れてもよい。特定
ガスとは例えば酸素、窒素、水素等の適用される金属に
取入れられることが出来るガスであり、所定のガスとは
例えばアルゴン、ネオン、窒素等の適用される金属に取
入れられない不活性ガスである。該特定ガスは金属に取
入れられて金属と化合物を形成するかあるいは金属内部
に固溶する。上記のようにして特定ガスが所定濃度存在
する雰囲気を内部に有する容器（１）の開口部に向けて
溶湯容器（５）から溶湯（力を流下させるとともに該溶
湯流に噴射ノズル（４）から例えばアルゴン。
ガスとは例えば酸素、窒素、水素等の適用される金属に
取入れられることが出来るガスであり、所定のガスとは
例えばアルゴン、ネオン、窒素等の適用される金属に取
入れられない不活性ガスである。該特定ガスは金属に取
入れられて金属と化合物を形成するかあるいは金属内部
に固溶する。上記のようにして特定ガスが所定濃度存在
する雰囲気を内部に有する容器（１）の開口部に向けて
溶湯容器（５）から溶湯（力を流下させるとともに該溶
湯流に噴射ノズル（４）から例えばアルゴン。
ネオン、窒素等の不活性ガスを噴射する。該不活性ガス
は上記容器（１）内を置換した不活性ガスと同種である
ことが望ましい。このような不活性ガスの噴射によって
溶湯流は飛散せられて液滴となって容器（１）内に噴霧
され冷却固化して金属粉末となる。このような金属粉末
の形成過程において金属粉末中の特定ガス含有量は容器
（１）内界囲気の特定ガス濃度（分圧）と平衡に達する
。例えば特定ガスを酸素とした場合容器（１）内界囲気
中の酸素濃度と得られる金属粉末中の酸素含有量との関
係は第２図のようＫなる。第２図において通用される金
属は鉄基合金である。したがって第２図によりＤ「望の
酸素含有量の金属粉末を得るに必要な容器（１）内界囲
気の酸素濃度を求め、容器（１）内を該酸素濃度を有す
る雰囲気に置換し以後容器ｆＩＩ内雰内気囲気素濃度を
このＩｆｔＫ維持する。容器（１）内界囲気の酸素濃度
は不活性ガスの噴射、酸素の金属粉末への取入れ等によ
り変化するから容器（１１内雰囲気の酸素濃度を酸素セ
ンサ（９）で測定し、その結果によって電磁弁（８）Ａ
を開閉して注入径路（８）から酸素、あるいは空気のよ
うな酸素含有ガスを容器（１）内に注入することによシ
容器（１）内界囲気の酸素濃度を所定の値に維持する。
は上記容器（１）内を置換した不活性ガスと同種である
ことが望ましい。このような不活性ガスの噴射によって
溶湯流は飛散せられて液滴となって容器（１）内に噴霧
され冷却固化して金属粉末となる。このような金属粉末
の形成過程において金属粉末中の特定ガス含有量は容器
（１）内界囲気の特定ガス濃度（分圧）と平衡に達する
。例えば特定ガスを酸素とした場合容器（１）内界囲気
中の酸素濃度と得られる金属粉末中の酸素含有量との関
係は第２図のようＫなる。第２図において通用される金
属は鉄基合金である。したがって第２図によりＤ「望の
酸素含有量の金属粉末を得るに必要な容器（１）内界囲
気の酸素濃度を求め、容器（１）内を該酸素濃度を有す
る雰囲気に置換し以後容器ｆＩＩ内雰内気囲気素濃度を
このＩｆｔＫ維持する。容器（１）内界囲気の酸素濃度
は不活性ガスの噴射、酸素の金属粉末への取入れ等によ
り変化するから容器（１１内雰囲気の酸素濃度を酸素セ
ンサ（９）で測定し、その結果によって電磁弁（８）Ａ
を開閉して注入径路（８）から酸素、あるいは空気のよ
うな酸素含有ガスを容器（１）内に注入することによシ
容器（１）内界囲気の酸素濃度を所定の値に維持する。
このようにして得られた特定ガスを所定量含有する金属
粉末は容器（１）の散出口（３）から取出される。
粉末は容器（１）の散出口（３）から取出される。
本発明は上記実施例によって限定されるものではなく、
例えば特定ガスがアルゴン、ネメン、窒素等の場合には
酸素センサ（９）に代えて容器（１）Ｋサンプリング回
路を連絡し、該サンプリング回路から容器（１）内界囲
気をサンプリングし、このよう圧して得られたサンプル
の分子吸光等を測定することによｐ雰囲気中の特定ガス
濃度を測定し、得られた測定値によって弁（８）Ａ全自
動あるいは手動で開閉してもよい。また特定ガスの注入
状況をコンビエータ−に記憶させ該コンピューターによ
り容器（１１内の雰囲気の特定ガス濃度を測定すること
なく弁（８）Ａを制御してもよい。
例えば特定ガスがアルゴン、ネメン、窒素等の場合には
酸素センサ（９）に代えて容器（１）Ｋサンプリング回
路を連絡し、該サンプリング回路から容器（１）内界囲
気をサンプリングし、このよう圧して得られたサンプル
の分子吸光等を測定することによｐ雰囲気中の特定ガス
濃度を測定し、得られた測定値によって弁（８）Ａ全自
動あるいは手動で開閉してもよい。また特定ガスの注入
状況をコンビエータ−に記憶させ該コンピューターによ
り容器（１１内の雰囲気の特定ガス濃度を測定すること
なく弁（８）Ａを制御してもよい。
第１図は本発明の一実施例の模式図、第２図は容器内雰
囲気の酸素濃度と金属粉末中の酸素官有量との関係を示
すグラフ、第３図は従来例の模式図中 （１）・・・容
器、（２）・・・開口部、（４）・・・噴射ノズル、（
力・・・溶湯、（８）・・・注入径路特許出願人
大同特殊鋼株式会社 □ ・； １シーλ！− 弁 １ 図
囲気の酸素濃度と金属粉末中の酸素官有量との関係を示
すグラフ、第３図は従来例の模式図中 （１）・・・容
器、（２）・・・開口部、（４）・・・噴射ノズル、（
力・・・溶湯、（８）・・・注入径路特許出願人
大同特殊鋼株式会社 □ ・； １シーλ！− 弁 １ 図
Claims (1)
- 容器上部から溶湯を流下させるとともに該溶湯に不活性
ガスを噴射して該容器内に該溶湯を噴霧することにより
金属粉末を製造する方法において、該容器内雰囲気の特
定ガス濃度を調節することによって製造される金属粉末
中の特定ガス含有量を調節することを特徴とする金属粉
末の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26996185A JPS62130207A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 金属粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26996185A JPS62130207A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 金属粉末の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62130207A true JPS62130207A (ja) | 1987-06-12 |
Family
ID=17479629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26996185A Pending JPS62130207A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 金属粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62130207A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5255525A (en) * | 1991-10-22 | 1993-10-26 | Mg Industries | System and method for atomization of liquid metal |
| KR100386895B1 (ko) * | 2002-05-28 | 2003-06-18 | 에드호텍(주) | 금속용탕 미립화 방법 |
| JP2005123531A (ja) * | 2003-10-20 | 2005-05-12 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 電磁波吸収体用粉末 |
| WO2023219067A1 (ja) * | 2022-05-13 | 2023-11-16 | Ａｇｃ株式会社 | 硫化物系固体電解質粉末の製造方法及び製造装置 |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP26996185A patent/JPS62130207A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5255525A (en) * | 1991-10-22 | 1993-10-26 | Mg Industries | System and method for atomization of liquid metal |
| KR100386895B1 (ko) * | 2002-05-28 | 2003-06-18 | 에드호텍(주) | 금속용탕 미립화 방법 |
| JP2005123531A (ja) * | 2003-10-20 | 2005-05-12 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 電磁波吸収体用粉末 |
| WO2023219067A1 (ja) * | 2022-05-13 | 2023-11-16 | Ａｇｃ株式会社 | 硫化物系固体電解質粉末の製造方法及び製造装置 |
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