JPS62129734A - 溶媒溢流式ガス洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、溶媒溢流式ガス洗浄装置に関するも■で、詳
しくはコークス炉ガス等の水分、アンモニア重質成分又
は微細同形物等の不純物を含むガスからこれらの不純物
を除去ないし減少させて分析用試料ガスを得る場合に有
用な溶媒溢流式ガス洗浄装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、コークス炉、高炉等の製造プラントにおいて発生
するガスを連続的に分析する場合、サンプルガスが水分
、重質成分、微細固形物またはミスト等の不純物を含む
場合は、溶媒を封入した洗浄瓶や固形吸収剤を充填した
吸収管を用いてサンプルガスを精製したのち分析計へ導
びいて測定を行なう方法が取られている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

前記従来の方法では、溶媒あるいは固体吸着剤を取換え
る時に、分析計を−たん停止するか或いはあらかじめ２
系列の洗浄ユニットを設けておいて切換えるかする必要
があり、そのため連続したデーターが得られないか或い
は２式分の設備費が掛かる等の欠点があった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、分析用サンプルガスの溶媒洗浄方法につ
いて種々検討を重ねた結果、洗浄容器を上下二つの槽に
仕切り、両槽の下部をパイプで連通ｔ、、サンフルガス
導入時にはサンプルガス中共に洗浄液を上槽に移動させ
てガスの洗浄を行なわせ、サンプルガス導入停止時に洗
浄液を下槽へ降下させて増量分の液を排出させる方法が
好ましいことを知得し、この知見にもとづいて本発明を
完成させた。

即ち本発明は、仕切板によシ上槽と下帯とに区分された
容器と、上槽の下部と下槽の下部とを連通ずる１本又は
複数本のパイプと、上槽内に開口する溶媒供給管と、下
槽の上部に開口する溶媒溢流管と、下慴内に開口するガ
ス導入管と、上槽上部に開口するガス導出管とを備え、
ガス導入管より容器内に導入したガスを溶媒を通して洗
浄した後にガス導出管より導出すると共に不純物を含有
した溶媒を溢流管より排出するようにした溶媒溢流式ガ
ス洗浄装置を提供するもので、これにょって不純物を含
有することとなって汚れた溶媒を分析計を−たん停止し
たシ、２系列の洗浄ユニットを設けることなしに排出し
て取換え得るようにしたものである。

〔実施例〕

次に本発明の一実施例を図面にもとづいて説明する。第
１図、第２図は、本発明に係る装置の第１の実施例を模
式的に示した構成図で、第１図はサンプルガスを供給し
ない状態、第２図はサンプルガスを供給した状態を示し
たものである。

これら図において、１はサンプルガスおよび溶媒に耐食
性のある材質例えば金属または合成樹脂で作られた容器
で、仕切板４を設けて上槽２と下槽３とに区分しである
。５は上槽２の下部と下槽３の下部とを連通ずる１本又
は複数本のパイプ、６は新しい溶媒を供給する供給管、
７は下槽３の上部に開口する溶媒溢流管、８はサンプル
ガス導入管、９はサンプルガス導出管、１１は溶媒溢流
管よシの溶媒を受けるドレン容器、１２はドレン排出管
である。尚サンプルガス導入管は下槽３の中部又は下部
に開口させてもよい。

この実施例において、まず供給管６のバルブを開いて上
槽２に溶媒を供給すると、パイプ５を通って下槽３に移
り、溶媒１０は第１図に示すように溶媒溢流管７の開口
部まで満たされたところでバルブを閉じて溶媒の供給を
停止する。

ここでサンプルガスを導入管８より導入すれば、ガス圧
によって溶媒１０は押し下げられこれによってパイプ５
を通って上槽２へ押し上げられ第２図に示すような状態
になり、又溶媒メ４ンブルガスがバブリングする。その
際にサンプルガス中の水分あるいは重質成分等が溶媒中
へ捕捉されもしくは浴は込みサンプルガスは精製される
。精製されたサンプルガスは、サンプルガス導出管９よ
シ導出され分析装置等へ移送される。尚サンプルガスの
導入は、サンプルガス導出管９よりポンプ等で吸引する
ことによって行なうこともできる。

このようにして一定時間サンプルガスを洗浄して分析装
置へ移送して後に短時間ガス移送用のポンプを停止する
かあるいはサンプルガスの流路を切換えることによって
サンプルガスの導入を停止する。これによって上槽２に
あった溶媒は、パイプ５を通って下槽３へ降下し、不純
物が溶解して体積が増加した分だけ下槽３のある高さま
で下方よりさし込んで取付けである溢流管、７よりドレ
ン容器１１へ排出される。ドレン容器１１内の廃溶媒１
３は適宜導管１２より糸外へ排出される。

このようにしてサンプルガスを洗浄しての分析器への供
給を繰返すことによって、溶媒は不純物の溶解によシ次
第に汚れて溶解または吸収効率が低下するため、供給管
６より連続的にあるいは断続的に新しい溶媒を上Ｗｉ２
へ供給する。供給された溶媒は、上Ｎ２よりパイプ５を
伝って下降し、これによって汚れた溶媒を押し上げて溶
媒溢流管７よシドレン容器１１へ排出する。

このようにある時間間隔でサンプリングポンプの運転を
一時停止するかあるいはサンプルガスの流路を一時切換
えることによって、容器１内の溶媒量は常に一定に保ち
さらに新しい溶媒の補給によって長期にわたシサンプル
ガスを精製することができる。

尚溶媒は、サンプルガスから除去したい不純物を吸収、
溶解もしくは捕促し、かつサンプルガス中へ揮散しない
ものであり、サンプルガスの種類、不純物の種類によっ
て適宜選定すればよい。例えば、コークス炉ガスの場合
は、石炭系あるいは石油系重質油等が用いられる。

第３図は他の実施例の構成を示す図であって、この実施
例はサンプルガスを容器内へ供給するための流路と、不
純物を含有して汚れた溶媒を排出するための溶媒溢流管
とを共用したものである。

即ち第１図、第２図に示す実施例のサンプルガス導入管
８を下槽３に取付けずに、第３図に示すようにドレン浴
器１１の上部に取付けたもので、導入管８よりのサンプ
ルガスは、ドレン浴器１１に導入され溶媒溢流管７を通
って下槽３の上部に供給されるようにしである。これに
よって、第１の実施例と同様にガス圧によって溶媒１０
を上槽２に上昇せしめると共に、サンプルガスを溶媒１
０を通すことにより精製し導出管９よシ分析器へ移送す
る。

一方サンプルガスの導入を停止して溶媒を上槽２より下
槽３へ降下せしめ、不純物を溶解、含有して増加した溶
媒を溶媒溢流管７よりドレン容器１１へ排出する。また
新しい溶媒を供給して増加した分も同様にドレン容器１
１へ排出される。

以上のようにこの実施例においてもサンプルガスの供給
を一時停止することによってサンプルガスの精製を続け
て行なうことが出来る。

〔発明の効果〕

本発明のガス洗浄装置は、容器を上下二つの槽に区分し
、両槽をパイプで連通しただけの極めて簡単な構造であ
って、サンプルガスの供給を間欠的に停止すると共に新
しい溶媒を補給するという簡単な操作により長期間安定
してサンプルガスの精製を行なうことが出来るのでコー
クス炉ガス、高炉ガスのほか、比較的分子量の大きい物
質を含む低分子量ガス等の分析を行なう場合のサンプル
ガスの洗浄装置として有用である。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は本発明の一実施例の構成を示す図、第
３図は本発明の他の実施例の構成を示す図である。 １・・・容器、２・・・上槽、３・・・下槽、４・・・
仕切板、５・・・パイプ、６・・・供給管、７・・・溶
媒溢流管、８・・・サンプルガス導入管、９・・・サン
プルガス導出管、１０・・・溶媒。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）仕切板により上槽と下槽とに区分された容器と、
   上槽の下部と下槽の下部とを連通する１本又は複数本の
   パイプと、上槽内に開口する溶媒供給管と、下槽の上部
   に開口する溶媒溢流管と、下槽内に開口するガス導入管
   と、上槽上部に開口するガス導出管とを備え、ガス導入
   管より容器内に導入したガスを溶媒を通して洗浄した後
   ガス導出管より導出すると共に不純物を含有した溶媒を
   溢流管より排出するようにした溶媒溢流式ガス洗浄装置
   。
2. （２）ガス導入管と溶媒溢流管を合体して１本の管にて
   構成したことを特徴とする特許請求の範囲（１）の溶媒
   溢流式ガス洗浄装置。