KR0144236B1 - 화성처리조 - Google Patents

화성처리조

Info

Publication number
KR0144236B1
KR0144236B1 KR1019950020335A KR19950020335A KR0144236B1 KR 0144236 B1 KR0144236 B1 KR 0144236B1 KR 1019950020335 A KR1019950020335 A KR 1019950020335A KR 19950020335 A KR19950020335 A KR 19950020335A KR 0144236 B1 KR0144236 B1 KR 0144236B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
treatment tank
tank
chemical
product
overflow
Prior art date
Application number
KR1019950020335A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970006539A (ko
Inventor
정규홍
Original Assignee
정규홍
태광종합기계주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 정규홍, 태광종합기계주식회사 filed Critical 정규홍
Priority to KR1019950020335A priority Critical patent/KR0144236B1/ko
Publication of KR970006539A publication Critical patent/KR970006539A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0144236B1 publication Critical patent/KR0144236B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D35/00Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
    • B01D35/02Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2201/00Details relating to filtering apparatus
    • B01D2201/48Overflow systems

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Treatment Of Biological Wastes In General (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 화성처리조에서 처리물의 생성되는 부유물을 제거하여 처리조에서 처리되는 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있도록 한 것으로써 처리조의 일측의 높이를 낮게 하고 이 부위와 연결되는 오버플로우조를 설치한 후 오버플로우조와 처리조 하부를 연결하는 배관을 펌프와 연결하여 여과시킨 후 처리조로 인입하도록 함을 특징으로 하는 화성처리조.

Description

화성처리조
제1도는 본 발명의 개략도
본 발명은 화성처리조에 관한 것으로써 특히 처리물에서 생성되는 부유물을 제거하여 처리조에서 처리되는 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있도록 한것이다.
화성처리조는 화학약품에서 제품을 침탄하여 제품의 표면에 화학처리용으로 사용되는 것으로써, 처리조 내에 화학약품의 순도에 따라 제품의 신뢰성이 확보된다.
그러나 화학약품속에 제품이 반복되어 침적되므로써 처리조 내의 화학약품보다 비중이 큰 물질은 하부에 가라앉으며 비중이 작은 부유물은 화학약품의 상부에 부유하게 된다.
이때 처리조에서 화학작용에 의해 처리된 후 제품을 상승시켜 꺼낼때 화학약품의 상부에 부유하던 불순물이 제품의 표면에 묻어 제품의 신뢰성을 저하시키게 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로써 처리조 내에서 부유하는 부유물을 용이하게 제거하여 처리되는 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있도록 함에 목적이 있다.
본 발명의 또다른 목적은 화학처리액의 흐름을 일정한 방향으로 유도하여 분리증대 및 혼류를 방지함에 있다.
본 발명의 또다른 목적은 설비구성을 간단히 하며 집중관리가 원활히 이루어지도록 함에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 처리조의 일측의 높이를 낮게하고 이 부위와 연결되는 오버플로우조를 설치한 후 오버플로우조와 처리조 하부를 연결하는 배관을 펌프와 연결하여 여과시킨후 처리조로 인입하도록 함을 특징으로 한다.
위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
우선 제1도를 참조하여 본 발명의 구성을 설명하면, 처리조(10)의 일측벽(11)의 높이를 처리조의 높이보다 낮게 형성하며 상기 낮은벽(11)에 연이어 오버플로우조(15)를 설치하며, 상기 처리조(10)의 바닥면(12)은 밸브(22)를 통해 펌프(30)의 인입관(23)으로 연결되며 펌프(30)의 배출관(25)은 밸브(26)를 통해 처리조(10)에 배관된다.
이와 같이 구성되는 본 발명은 최초 처리조(10)에 화학약품(40)을 채운 후 처리조(10) 내의 화학약품으로 처리하고자 하는 제품(50)이 화학약품(40)과 화학적인 반응을 일으키며 불순물이 생성되는데 이때 비중이 낮은 부유물은 상부로 떠오르고 비중이 높은 불순물은 하부에 침전된다.
이후 상부에 떠오른 부유물은 일측의 낮은벽(11)을 넘쳐 오버플로우조(15)에 수용되는 것이며 따라서 처리조의 상부를 항상 깨끗한 화학약품으로 채워진 상태이므로 처리조(10)에서 처리를 완료한 제품(50)을 꺼낼때 제품의 표면에 불순물이 묻지 않게 되므로 제품의 신뢰성을 향상시킬수 있게 된다.
이후 오버플로우조(15)에 수용되는 불순물 및 화학약품은 하부의 관(21)을 통해 펌프(30)를 거쳐 처리조로 다시 수용되는데 이때 하부의 관(21)을 통해 펌프 인입관(23)에 설치된 필터(27)를 거쳐 펌프(30)로 이송되므로 필터(27)에 의해 불순물은 제거되는 것이며 정화된 화학약품만이 펌프의 배출관(25)을 통해 처리조(10)로 재공급된다.
이와 같은 과정이 반복됨에 따라 처리조(10) 내에는 항상 화학약품이 가득찬 상태에서 일부가 항시 오버플로우조(15)로 넘쳐 흐르게 되므로 처리조의 상부 부유물은 오버플로우조로 이송되며 사용자는 오버플로우조(15)의 상부의 부유물을 손쉽게 걷어 낼수 있게 된다.
또한 처리조(10)의 바닥에 가라앉은 침전물은 하부의 배수관(14)을 통해 배출시킬수 있게 되는 것이다.
위와 같은 본 발명에 의하면 처리조 내에는 정화된 화학약품만을 수용하며 상부 표면의 부유물이 항상 제거된 상태이므로 상부에서 침전된 후 상부 표면의 부유물이 항상 제거된 상태이므로 상부에서 침전된 후 꺼낼때 부유물이 항상 제거된 상태이므로 상부에서 침전된 후 꺼낼때 부유물이 묻지 않아 제품의 신뢰성을 유지할 수 있으며 별도의 오버플로우조에서 부유물을 걷어낼 수 있으므로 부유물 제거에 편리할 뿐 아니라 펌프를 통해 지속적으로 화학약품을 순환시키므로써 화학약품이 지속적으로 일방향으로 흐르면서 혼류를 방지할 수 있으며 새로운 화학약품과 처리 제품의 접액량을 증대시키므로써 처리시간을 단축시킬 수 있게 되는 것이다.

Claims (2)

  1. 처리조(10)의 일측벽(11)의 높이를 처리조의 높이보다 낮게 형성하며 상기 낮은벽(11)에 연이어 오버플로우조(15)를 설치하며, 상기 처리조(10)의 바닥면(12)에는 배수관(14)을 연결하며, 상기 오버플로우조(15)의 하단에 연결된 관(21)은 밸브(22)를 통해 처리조(10)에 배관됨을 특징으로 하는 화성처리조.
  2. 제1항에 있어서 오버플로우조(15)에서 펌프(30)로 인입되는 인입관에 필터(27)를 부가하여 오버플로우조에서 인입되는 불순물을 정화함을 특징으로 하는 화성처리조.
KR1019950020335A 1995-07-11 1995-07-11 화성처리조 KR0144236B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950020335A KR0144236B1 (ko) 1995-07-11 1995-07-11 화성처리조

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950020335A KR0144236B1 (ko) 1995-07-11 1995-07-11 화성처리조

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970006539A KR970006539A (ko) 1997-02-21
KR0144236B1 true KR0144236B1 (ko) 1998-08-17

Family

ID=19420318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950020335A KR0144236B1 (ko) 1995-07-11 1995-07-11 화성처리조

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0144236B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210120255A (ko) * 2020-03-26 2021-10-07 현대제철 주식회사 드로스 제거장치 및 제거방법

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100833020B1 (ko) * 2001-12-05 2008-05-27 주식회사 포스코 도금용액의 오버 플로우 망 자동교체장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210120255A (ko) * 2020-03-26 2021-10-07 현대제철 주식회사 드로스 제거장치 및 제거방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR970006539A (ko) 1997-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3482694A (en) Method and apparatus for separation of solids from liouids
US4957633A (en) Floatation clarifying and flocculating/purification of liquid
Hansen et al. Applying shallow depth sedimentation theory
KR0144236B1 (ko) 화성처리조
CN214360821U (zh) 一种高效油水分离装置
CN211035573U (zh) 一种固定式超稠油除油罐
KR100368176B1 (ko) 폐수 정화장치
CN217808917U (zh) 一种生活污水一体化处理系统
CN219440778U (zh) 一种组合沉淀池
SU1473801A1 (ru) Контактный отстойник
SU1637827A1 (ru) Тонкослойный отстойник
JPH0742556Y2 (ja) 汚水処理装置
JP4405130B2 (ja) 段差付き二床並置型好気処理槽及び汚水浄化槽
RU2144005C1 (ru) Установка для очистки воды
JP3667867B2 (ja) 浮上分離装置
JPS6150610A (ja) 廃水処理装置
JP3688089B2 (ja) ホッパー式汚泥濃縮槽の浮上汚泥防止方法
JP2002307092A (ja) 有機性汚水の処理装置および方法
JP2990752B2 (ja) 沈降分離槽
SU969286A1 (ru) Гидроциклон-отстойник
SU1655538A1 (ru) Установка дл осветлени природной воды с переменной мутностью
SU1556707A2 (ru) Тонкослойный отстойник
SU1528736A1 (ru) Устройство дл очистки сточных вод
JPH0753755Y2 (ja) 小型合併処理浄化槽
SU1733046A1 (ru) "Фильтр дл очистки жидкостей "Гидроробот"

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110418

Year of fee payment: 14

LAPS Lapse due to unpaid annual fee