JPS62129178A - 薬液供給装置用薬液回収装置 - Google Patents
薬液供給装置用薬液回収装置Info
- Publication number
- JPS62129178A JPS62129178A JP26750585A JP26750585A JPS62129178A JP S62129178 A JPS62129178 A JP S62129178A JP 26750585 A JP26750585 A JP 26750585A JP 26750585 A JP26750585 A JP 26750585A JP S62129178 A JPS62129178 A JP S62129178A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chemical liquid
- trap
- resist
- filter
- drain tank
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は薬液供給装置用薬液回収装置に関し、特に半導
体製造装置におけるレジスト塗布機のように有ｉ薬液を
フィルタを介して送り出す系統において、フィルタのエ
ア扱き時のエアと薬液の自動的な回収を行なうための薬
液回収装置に関する。
体製造装置におけるレジスト塗布機のように有ｉ薬液を
フィルタを介して送り出す系統において、フィルタのエ
ア扱き時のエアと薬液の自動的な回収を行なうための薬
液回収装置に関する。
［従来の技術］
従来、半導体ウェハにレジストを塗布する場合、レジス
トの供給を例えば第３図に示すような薬液供給装置を用
いている。
トの供給を例えば第３図に示すような薬液供給装置を用
いている。
すなわち、第３図はレジストの吸引吐出式の供給装置を
示し、レジストビン２内のレジストはフィルタ１を介し
てポンプ３により吸引吐出されることで送り出されるよ
うになっている。この装置でレジストビン２を交換した
場合、負圧源５によってトラップ４を介してフィルタ１
のエア扱きを行なうが、エア抜き時にフィルタ１内にレ
ジストビン２内のレジストが充満するとチェック弁６を
介してトラップ４内にレジストが溢流し、トラップ４内
に溜ったレジストは、エア扱き完了後に作業員がトラッ
プ４を外して他の容器に廃棄することで行なっており、
レジストビン２の交換の都度、このようなトラップ４内
のレジスト廃棄という煩雑な作業を余儀なくされていた
。
示し、レジストビン２内のレジストはフィルタ１を介し
てポンプ３により吸引吐出されることで送り出されるよ
うになっている。この装置でレジストビン２を交換した
場合、負圧源５によってトラップ４を介してフィルタ１
のエア扱きを行なうが、エア抜き時にフィルタ１内にレ
ジストビン２内のレジストが充満するとチェック弁６を
介してトラップ４内にレジストが溢流し、トラップ４内
に溜ったレジストは、エア扱き完了後に作業員がトラッ
プ４を外して他の容器に廃棄することで行なっており、
レジストビン２の交換の都度、このようなトラップ４内
のレジスト廃棄という煩雑な作業を余儀なくされていた
。
［発明が解決しようとする問題点］
本発明の課題は、前述の従来技術の欠点を除去して、フ
ィルタのエア扱き操作に伴うレジストトラップの着脱に
よるレジスト廃棄作業を不要とする自動廃棄処理方式の
薬液供給装置用薬液回収装置を提供することである。
ィルタのエア扱き操作に伴うレジストトラップの着脱に
よるレジスト廃棄作業を不要とする自動廃棄処理方式の
薬液供給装置用薬液回収装置を提供することである。
［問題点を解決するための手段］
本発明の薬液供給装置用薬液回収装置は、前記の課ｍを
達成するために、薬液容器交換時のフィルタのエア扱き
操作に連動して前記フィルタに接続されたトラップ内を
ドレンタンクへ連通させる弁手段を備えている。
達成するために、薬液容器交換時のフィルタのエア扱き
操作に連動して前記フィルタに接続されたトラップ内を
ドレンタンクへ連通させる弁手段を備えている。
［作 用１
本発明においては、フィルタエア抜き操作に連動して弁
手段がトラップ内をドレンタンクへ連通させるので、フ
ィルタ内がエア抜きされて薬液で充満されたときにトラ
ップ内に溜っている薬液を自動的にドレンタンクへ回収
でき、従ってトラップの着脱は不要であり、トラップが
気密ライン内に位置する場合等の着脱の煩雑さを避ける
ことができるうえ、廃液管理上も安全性が向上するもの
である。
手段がトラップ内をドレンタンクへ連通させるので、フ
ィルタ内がエア抜きされて薬液で充満されたときにトラ
ップ内に溜っている薬液を自動的にドレンタンクへ回収
でき、従ってトラップの着脱は不要であり、トラップが
気密ライン内に位置する場合等の着脱の煩雑さを避ける
ことができるうえ、廃液管理上も安全性が向上するもの
である。
［実施例］
第１図は、第３図と同様の吸引吐出式のレジスト供給装
置に本発明を適用した実施例を示し、第３図と同一また
は相当部分には同一符号を付し７でその説明を省略する
。
置に本発明を適用した実施例を示し、第３図と同一また
は相当部分には同一符号を付し７でその説明を省略する
。
第１図において、トラップ４は、その底部からチェック
弁７を介してドレンタンク８に接続されており、チェッ
ク弁７はドレンタンク８内の内圧（大気圧）よりも］ヘ
ラツブ７内の内圧が低い限り閉じている。
弁７を介してドレンタンク８に接続されており、チェッ
ク弁７はドレンタンク８内の内圧（大気圧）よりも］ヘ
ラツブ７内の内圧が低い限り閉じている。
このような構成でレジストビン２を交換したとき、まず
負圧源５によってトラップ４内を負圧にし、チェック弁
６を介してフィルタ１内のエア扱きを行なうが、フィル
タ１内がレジストで充満されたときにはトラップ４内に
レジストが濡出してくるのでそこで負圧ａ５を止める。
負圧源５によってトラップ４内を負圧にし、チェック弁
６を介してフィルタ１内のエア扱きを行なうが、フィル
タ１内がレジストで充満されたときにはトラップ４内に
レジストが濡出してくるのでそこで負圧ａ５を止める。
その後トラップ４内が常圧に戻ると、チェック弁７が自
動的に開き、トラップ４内に溜ったレジストはドレンタ
ンクへ自動的に回収される。
動的に開き、トラップ４内に溜ったレジストはドレンタ
ンクへ自動的に回収される。
このようにしてレジストビン２の交換時のレジストフィ
ルタ１のエア扱きに連動してトラップ内のレジストがド
レンタンク８へ自動的に回収され、トラップ４を取り外
してのレジスト廃棄作業は不要となる。
ルタ１のエア扱きに連動してトラップ内のレジストがド
レンタンク８へ自動的に回収され、トラップ４を取り外
してのレジスト廃棄作業は不要となる。
第２図は、加圧圧送方式の有機薬液供給装置における実
施例で、キャニスタ１２内の有機薬液は加圧窒素供給源
１５からの加圧窒素による圧力でチェック弁１６からト
ラップ１４を介してフィルタ１１を通り、開閉弁１３か
ら送り出される。
施例で、キャニスタ１２内の有機薬液は加圧窒素供給源
１５からの加圧窒素による圧力でチェック弁１６からト
ラップ１４を介してフィルタ１１を通り、開閉弁１３か
ら送り出される。
トラップ１４は、その上部から空気圧作動式の開閉弁１
７を介してドレンタンク１つに接続され、またフィルタ
１１もそのドレンボートが別の空気圧作動式の開閉弁１
８を介してドレンタンクに接続されている。これら両開
閉弁４７．１８は、パイロットボート１７ａ、１８ａに
操作空気圧が与えられたどきに回路を閉じ、それ以外で
は遮断している。
７を介してドレンタンク１つに接続され、またフィルタ
１１もそのドレンボートが別の空気圧作動式の開閉弁１
８を介してドレンタンクに接続されている。これら両開
閉弁４７．１８は、パイロットボート１７ａ、１８ａに
操作空気圧が与えられたどきに回路を閉じ、それ以外で
は遮断している。
今、キャニスタ１２を交換した場合、加圧窒素供給１１
ｉｉｔ１５からの加圧窒素をキャニスタ１２内に送り込
んで加圧し、次いでトラップ内エア扱き用の開閉弁１７
に操作空気圧を送ってトラップ１４の上部からドレンタ
ンク１９への通路を連通させ、またフィルタ内エア扱き
用の開閉弁１８を同様に動作させてフィルタ１１のドレ
ンボートをドレンタンク１９に連通させる。これにより
キャニスタ１２内の加圧薬液がチェック弁１６を介して
トラップ１４内に流れ込み、その際トラップ内のエアは
開閉弁１７からドレンタンク１９へ流出し、濡出薬液も
自動的にドレンタンク１９に回収される。また同様にト
ラップ１４底部からの薬液がフィルタ１１内に流れ込み
、フィルタ１１内のエア扱きが行なわれ、濡出薬液も開
閉弁１８を介してドレンタンク１９に自動的に回収され
る。このエア抜き操作の完了は、トラップ１４内の薬液
レベルを監視することで行なうことができ、所定レベル
を越えたら開閉弁１７．１８をバネ復帰させてドレンタ
ンク１つとの連通を遮断すればよい。
ｉｉｔ１５からの加圧窒素をキャニスタ１２内に送り込
んで加圧し、次いでトラップ内エア扱き用の開閉弁１７
に操作空気圧を送ってトラップ１４の上部からドレンタ
ンク１９への通路を連通させ、またフィルタ内エア扱き
用の開閉弁１８を同様に動作させてフィルタ１１のドレ
ンボートをドレンタンク１９に連通させる。これにより
キャニスタ１２内の加圧薬液がチェック弁１６を介して
トラップ１４内に流れ込み、その際トラップ内のエアは
開閉弁１７からドレンタンク１９へ流出し、濡出薬液も
自動的にドレンタンク１９に回収される。また同様にト
ラップ１４底部からの薬液がフィルタ１１内に流れ込み
、フィルタ１１内のエア扱きが行なわれ、濡出薬液も開
閉弁１８を介してドレンタンク１９に自動的に回収され
る。このエア抜き操作の完了は、トラップ１４内の薬液
レベルを監視することで行なうことができ、所定レベル
を越えたら開閉弁１７．１８をバネ復帰させてドレンタ
ンク１つとの連通を遮断すればよい。
し発明の効果］
以上に述べたように、本発明によればレジストをはじめ
各種薬液の供給装置においてフィルタのエア扱き操作に
連動して１ヘラツブ内の薬液をドレンタンクへ自動回収
することができ、ドレンタンクから廃液処理システムへ
続く一連の処理に対して、トラップの取り外しによる廃
液の移し変え作業を不要にすることにより、処理作業の
自動化と廃液管理上の安全性の向上に寄与するところが
大きい。
各種薬液の供給装置においてフィルタのエア扱き操作に
連動して１ヘラツブ内の薬液をドレンタンクへ自動回収
することができ、ドレンタンクから廃液処理システムへ
続く一連の処理に対して、トラップの取り外しによる廃
液の移し変え作業を不要にすることにより、処理作業の
自動化と廃液管理上の安全性の向上に寄与するところが
大きい。
第１図は本発明の一実施例を示す系統図、第２図はもう
ひとつの実施例を示す系統図、第３図は従来例を示す系
統図である。 １．１１：フィルタ、２ニレジストビン、３：ポンプ、
４ニレジストトラツプ、５：負圧源、７：チェック弁（
弁手段）、８：ドレンタンク、１２：キャニスタ、１４
ニドラツプ、１５：加圧窒素供給源、１７：開閉弁（弁
手段）、１８：開閉弁、１９：ドレンタンク。
ひとつの実施例を示す系統図、第３図は従来例を示す系
統図である。 １．１１：フィルタ、２ニレジストビン、３：ポンプ、
４ニレジストトラツプ、５：負圧源、７：チェック弁（
弁手段）、８：ドレンタンク、１２：キャニスタ、１４
ニドラツプ、１５：加圧窒素供給源、１７：開閉弁（弁
手段）、１８：開閉弁、１９：ドレンタンク。
Claims (1)
- 薬液容器からフィルタを介して薬液を送り出す薬液供給
装置における薬液回収装置であって、薬液容器交換時の
フィルタのエア抜き操作に連動して前記フィルタに接続
されたトラップ内をドレンタンクへ連通させる弁手段を
備えたことを特徴とする薬液供給装置用薬液回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26750585A JPS62129178A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 薬液供給装置用薬液回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26750585A JPS62129178A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 薬液供給装置用薬液回収装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62129178A true JPS62129178A (ja) | 1987-06-11 |
Family
ID=17445774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26750585A Pending JPS62129178A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | 薬液供給装置用薬液回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62129178A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01205423A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置 |
| JPH02119929A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-08 | Tokyo Electron Ltd | 液体処理装置及び液体処理方法及びレジスト塗布装置 |
| JPH0345630U (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-26 | ||
| EP0790081A3 (de) * | 1996-02-15 | 1998-07-15 | Singulus Technologies AG | Vorrichtung zur Oberflächenbeschichtung bzw. zum Lackieren von Substraten |
| JP2004056131A (ja) * | 2003-07-03 | 2004-02-19 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | レジスト塗布装置 |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP26750585A patent/JPS62129178A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01205423A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置 |
| JPH0750673B2 (ja) * | 1988-02-10 | 1995-05-31 | 東京エレクトロン株式会社 | レジスト塗布装置 |
| JPH02119929A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-08 | Tokyo Electron Ltd | 液体処理装置及び液体処理方法及びレジスト塗布装置 |
| JPH0345630U (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-26 | ||
| EP0790081A3 (de) * | 1996-02-15 | 1998-07-15 | Singulus Technologies AG | Vorrichtung zur Oberflächenbeschichtung bzw. zum Lackieren von Substraten |
| JP2004056131A (ja) * | 2003-07-03 | 2004-02-19 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | レジスト塗布装置 |
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