JPS62127193A - 鉄粉系フラツクス入りワイヤ - Google Patents
鉄粉系フラツクス入りワイヤInfo
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- JPS62127193A JPS62127193A JP26590985A JP26590985A JPS62127193A JP S62127193 A JPS62127193 A JP S62127193A JP 26590985 A JP26590985 A JP 26590985A JP 26590985 A JP26590985 A JP 26590985A JP S62127193 A JPS62127193 A JP S62127193A
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- Japan
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- wire
- flux
- iron powder
- spatter
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はガスシールドアーク溶接用として使用される鉄
粉系フラックス入りワイヤに関し、特にスパッタ発生量
が少なく優れた溶接作業性を得ることのできる鉄粉系フ
ラックス入りワイヤに関するものである。
粉系フラックス入りワイヤに関し、特にスパッタ発生量
が少なく優れた溶接作業性を得ることのできる鉄粉系フ
ラックス入りワイヤに関するものである。
[従来の技術]
フラックス入りワイヤを用いるガスシールドアーク溶接
法は作業性が良く、しかも高レベルの溶接能率が得られ
るといった利点を有しているところから、適用範囲は急
速に増大してきている。
法は作業性が良く、しかも高レベルの溶接能率が得られ
るといった利点を有しているところから、適用範囲は急
速に増大してきている。
かかる溶接法で用いられるフラックス入りワイヤの中で
も鉄粉系フラックス入りワイヤは、チタニャ系フラック
ス入りワイヤに比べて一般にスラグ発生量が少なく且つ
溶着金属量が多いという特徴を有している為大きな期待
がかけられている。
も鉄粉系フラックス入りワイヤは、チタニャ系フラック
ス入りワイヤに比べて一般にスラグ発生量が少なく且つ
溶着金属量が多いという特徴を有している為大きな期待
がかけられている。
[発明が解決しようとする問題点]
ところが鉄粉系フラックス入りワイヤには、スパッタ発
生量が多くその除去に多大な労力を要するという大きな
欠点がある為、上記期待にもかかわらず消費量は少ない
。
生量が多くその除去に多大な労力を要するという大きな
欠点がある為、上記期待にもかかわらず消費量は少ない
。
しかしながら溶接能率の向上が重要な課題とされている
現在において、鉄粉系フラックス入りワイヤの有する前
記特長(低スラグ量、高溶着金属景)は見逃すことので
きないものであり、こうした特徴を活用する為には、ス
パッタ発生量を低減して溶接作業性の改碧を図ることが
不可欠の要件となる。本発明はこうした状況のもとで鉄
粉系フラックス入りワイヤの欠点(多発スパッタ)を解
消し、その汎用性を高めようとするものである。
現在において、鉄粉系フラックス入りワイヤの有する前
記特長(低スラグ量、高溶着金属景)は見逃すことので
きないものであり、こうした特徴を活用する為には、ス
パッタ発生量を低減して溶接作業性の改碧を図ることが
不可欠の要件となる。本発明はこうした状況のもとで鉄
粉系フラックス入りワイヤの欠点(多発スパッタ)を解
消し、その汎用性を高めようとするものである。
[問題点を解決する為の手段]
本発明に係る鉄粉系フラックス入りワイヤの構成は、下
記 鉄 粉 :40〜90%(対フラックス全重量) アーク安定剤:0.5〜7.5%(〃)スラグ形成剤:
1〜15% (〃) 15%(対脱酸剤全重量)以上のTiを含む脱酸剤:1
0〜45%(〃) を含有するフラックスを金属製外皮内へワイヤ全重量に
対し10〜30%充填してなり、且つワイヤ全重量中の
C量を0.05%以下に抑えてなるところに要旨を有す
るものである。
記 鉄 粉 :40〜90%(対フラックス全重量) アーク安定剤:0.5〜7.5%(〃)スラグ形成剤:
1〜15% (〃) 15%(対脱酸剤全重量)以上のTiを含む脱酸剤:1
0〜45%(〃) を含有するフラックスを金属製外皮内へワイヤ全重量に
対し10〜30%充填してなり、且つワイヤ全重量中の
C量を0.05%以下に抑えてなるところに要旨を有す
るものである。
[作用]
以下、全ワイヤ中のCff1、充填フラックスの成分組
成及びフラックス充填率を定めた理由を詳細に説明する
ことにより、本発明の作用を明確にする。
成及びフラックス充填率を定めた理由を詳細に説明する
ことにより、本発明の作用を明確にする。
全ワイヤ中のC量: O,OS%以下
スパッタ発生原因の一つとして、溶接熱によるCo(又
はC02)ガスの形成による溶滴の爆発が考えられる。
はC02)ガスの形成による溶滴の爆発が考えられる。
従ってスパッタを抑制する為には全ワイヤ中のC源をで
きる限り少なくすることが重要な一方策であると考えら
れ、本発明者等が種種実験を行なったところによると、
全ワイヤ中のC量を0.05%以下、より好ましくは0
.02%以下に抑えることによってスパッタ発生量を著
しく減少し得ることが確認された。
きる限り少なくすることが重要な一方策であると考えら
れ、本発明者等が種種実験を行なったところによると、
全ワイヤ中のC量を0.05%以下、より好ましくは0
.02%以下に抑えることによってスパッタ発生量を著
しく減少し得ることが確認された。
ちなみに第1図は下記の条件で溶接実験を行なって得た
ワイヤ中のC量とスパッタ発生量の関係を示したもので
あり、0.05%付近を境界としてスパッタ発生量は急
変している。
ワイヤ中のC量とスパッタ発生量の関係を示したもので
あり、0.05%付近を境界としてスパッタ発生量は急
変している。
(実験条件)
供試ワイヤ
外皮金属 −軟鋼
フラックス;鉄粉系(後記第1表のNo。
断面形状 ;第4図(A)
フラックス率:15%
ワイヤ径 : 1.4 m+uφ
C量 ・外皮金属中のC量により調整1垣ゑ豆
電 流 :300A
電 圧 = 32V
速 度 : 30 cm/ 分シールドガス
:Co2.20λ/分 チップ/母林間距離+20+nm 母 材 :12mmt 溶 接 法 :ビードオンプレート法 ムニニ久塁皿亙ユ 後記実施例で詳述する。
:Co2.20λ/分 チップ/母林間距離+20+nm 母 材 :12mmt 溶 接 法 :ビードオンプレート法 ムニニ久塁皿亙ユ 後記実施例で詳述する。
尚C9低減策としては、外皮金属及び鉄粉を含めたフラ
ックス中のC量を低減し且つ外皮表面に付着する伸線用
潤滑剤中のC量を低減する方法が挙げられるが、溶滴爆
発の抑制という観点からすればフラックス中のCItは
関与が少ないと考えられるので、外皮金属及び潤滑剤中
のC量を出来るだけ少なくするのが最も効果的である。
ックス中のC量を低減し且つ外皮表面に付着する伸線用
潤滑剤中のC量を低減する方法が挙げられるが、溶滴爆
発の抑制という観点からすればフラックス中のCItは
関与が少ないと考えられるので、外皮金属及び潤滑剤中
のC量を出来るだけ少なくするのが最も効果的である。
次に充填フラックスについては、鉄粉系フラックス入り
ワイヤとしての本来の特性を維持しつつ低スパツタ化の
目的を果たす為、成分組成が次の様に限定される。
ワイヤとしての本来の特性を維持しつつ低スパツタ化の
目的を果たす為、成分組成が次の様に限定される。
鉄粉=40〜90%(対フラックス全型2t:以下特に
ことわらないものは同じ意味) 鉄粉系フラックス入りワイヤにおける充填フラックスの
主成分となるものであり、低スラグ量、高溶着金属量と
いった本来の特徴を確保する為には40%以上含有させ
なければならない。しかし多過ぎると以下に説明してい
く他成分の絶対量が不十分となり、シールド不足による
気孔欠陥の発生量はスパッタ発生量の増大といった問題
が現われてくるので、90%以下に抑えなければならな
い。
ことわらないものは同じ意味) 鉄粉系フラックス入りワイヤにおける充填フラックスの
主成分となるものであり、低スラグ量、高溶着金属量と
いった本来の特徴を確保する為には40%以上含有させ
なければならない。しかし多過ぎると以下に説明してい
く他成分の絶対量が不十分となり、シールド不足による
気孔欠陥の発生量はスパッタ発生量の増大といった問題
が現われてくるので、90%以下に抑えなければならな
い。
脱酸剤:10〜45%
脱酸剤としてはMn、St、AI、Ti、Zrなどの金
属或はこれらの金属の鉄合金よりなる群から選択される
1種又は2 fffi以上を使用することができ、これ
ら脱酸剤量が10%未満では脱酸不足により溶接金属の
X線性能が不十分となり、一方45%を超えると溶接金
属の靭性及び耐割れ性が悪くなるので、10〜45%の
範囲に収めなければならない。
属或はこれらの金属の鉄合金よりなる群から選択される
1種又は2 fffi以上を使用することができ、これ
ら脱酸剤量が10%未満では脱酸不足により溶接金属の
X線性能が不十分となり、一方45%を超えると溶接金
属の靭性及び耐割れ性が悪くなるので、10〜45%の
範囲に収めなければならない。
また脱酸剤を多めに含有させると、スパッタの原因であ
るCoガスの発生を抑制するという効果も得られるので
、こうした利点を考えると脱酸剤は20〜45%含有さ
せるのがよい。
るCoガスの発生を抑制するという効果も得られるので
、こうした利点を考えると脱酸剤は20〜45%含有さ
せるのがよい。
次に脱酸剤の種類であるが、脱酸剤を種々変更してスパ
ッタ発生量との関係を調べたところ、第2図(実験条件
は前記第1図の場合と同様とし、充填フラックス中の脱
酸剤のみを変更した)に示す結果が得られた。即ち上記
脱酸剤の中でもスパッタの抑制に最も優れた効果を発揮
するのはFe−Tiであり、これはTiの電離電圧が低
く優れたアーク安定化作用を示す為、低スパツタ化に好
影響をもたらしたものと考えられる。
ッタ発生量との関係を調べたところ、第2図(実験条件
は前記第1図の場合と同様とし、充填フラックス中の脱
酸剤のみを変更した)に示す結果が得られた。即ち上記
脱酸剤の中でもスパッタの抑制に最も優れた効果を発揮
するのはFe−Tiであり、これはTiの電離電圧が低
く優れたアーク安定化作用を示す為、低スパツタ化に好
影響をもたらしたものと考えられる。
そこで低スパツタ化を達成することのできる脱酸剤中の
Ti量を明確にすべく更に実験を行なった結果、本発明
の目的達成の為には脱酸剤中に15%(対脱酸剤全it
)以上のTiを含有させるべきであるとの結論に達した
。尚本発明で規定する脱酸剤量は、Ti、Si、A1等
の脱酸性金属の含有量を意味しており、これらの金属を
含む鉄合金の場合は鉄分を除いた脱酸性金属換算量を意
味し、鉄合金中に含まれる鉄分は鉄粉の含有率に加算さ
れる。
Ti量を明確にすべく更に実験を行なった結果、本発明
の目的達成の為には脱酸剤中に15%(対脱酸剤全it
)以上のTiを含有させるべきであるとの結論に達した
。尚本発明で規定する脱酸剤量は、Ti、Si、A1等
の脱酸性金属の含有量を意味しており、これらの金属を
含む鉄合金の場合は鉄分を除いた脱酸性金属換算量を意
味し、鉄合金中に含まれる鉄分は鉄粉の含有率に加算さ
れる。
アーク安定剤:0.5〜7.5%
アーク安定剤とはアーク霊囲気中で1uit、てアーク
を安定化させる物質を総称するもので、例えばLi、N
a、に、Cs、Ca、Rb、Sr。
を安定化させる物質を総称するもので、例えばLi、N
a、に、Cs、Ca、Rb、Sr。
Ba等の金属の酸化物、チタン酸塩、ジルコン酸塩、ぶ
つ化物、炭酸塩、珪酸塩等が挙げられ、フラックスの造
粒用バインダーとして用いられる水ガラス成分(Na2
Si03 、に2Sf03等)もアーク安定剤として作
用する。これらはアークを安定化してスパッタ低減に寄
与するが、0,5%未満ではその効果が有効に発揮され
ず、一方7.5%を超えるとスラグ生成玉が増大して鉄
粉系フラックス入りワイヤの特徴が害されるばかりでな
く、ヒユーム量が多くなって溶接作業性が悪くなる。尚
実用性を考慮して最も好ましいアーク安定剤を挙げれば
、チタン酸カリウム(に2Ti、0.等)、珪酸カリウ
ム(に2Si(h)珪酸ナトリウム(Na2SiOs
) 、ジルコン酸カリウム(L、2r03) 、珪ジル
コン酸カリウム(に、Zr5ios) 、 NaF 、
LiF 、 K2S1O,、に2ZrF6等であり、
アーク安定剤のより好ましい含有率は2.0〜5.0%
である。
つ化物、炭酸塩、珪酸塩等が挙げられ、フラックスの造
粒用バインダーとして用いられる水ガラス成分(Na2
Si03 、に2Sf03等)もアーク安定剤として作
用する。これらはアークを安定化してスパッタ低減に寄
与するが、0,5%未満ではその効果が有効に発揮され
ず、一方7.5%を超えるとスラグ生成玉が増大して鉄
粉系フラックス入りワイヤの特徴が害されるばかりでな
く、ヒユーム量が多くなって溶接作業性が悪くなる。尚
実用性を考慮して最も好ましいアーク安定剤を挙げれば
、チタン酸カリウム(に2Ti、0.等)、珪酸カリウ
ム(に2Si(h)珪酸ナトリウム(Na2SiOs
) 、ジルコン酸カリウム(L、2r03) 、珪ジル
コン酸カリウム(に、Zr5ios) 、 NaF 、
LiF 、 K2S1O,、に2ZrF6等であり、
アーク安定剤のより好ましい含有率は2.0〜5.0%
である。
スラグ形成剤:1〜15%
スラグ形成剤としてはTiO2,5i02. ZrO2
゜Al2O3、MnO、MgO、鉄酸化物(FeO、F
e20s 。
゜Al2O3、MnO、MgO、鉄酸化物(FeO、F
e20s 。
Fe5O4)等の酸化物が挙げられ、溶接金属の表面を
被覆して表面酸化を防止すると共にビード形状を整える
。更にはスパッタを低減させる作用も有しており、これ
らの作用を有効に発揮させる為には1%以上含有させな
ければならない、しかし多過ぎるとスラグ量の増大及び
それに伴うスラグ巻込み欠陥の多発を招くので、15%
以下に抑える必要がある。
被覆して表面酸化を防止すると共にビード形状を整える
。更にはスパッタを低減させる作用も有しており、これ
らの作用を有効に発揮させる為には1%以上含有させな
ければならない、しかし多過ぎるとスラグ量の増大及び
それに伴うスラグ巻込み欠陥の多発を招くので、15%
以下に抑える必要がある。
フラックス率:10〜30%(対ワイヤ全重量、以下車
に対Wと記す) 本発明のフラックス入りワイヤは、上記成分組成を満足
する鉄粉系フラックスを外皮金属中に充填してなるもの
であるが、該フラックスの充填率もスパッタ発生量と密
接な関係を有しており、目的達成の為には該充填率を1
0%(対W)以上に設定しなければならない。ちなみに
第3図は、フラックス率がスパッタ発生量に与える影響
を調べた実験結果(実験条件は第1図の例と同様としフ
ラックス率のみを変更した)を示したグラフであり、低
スパツタ化の目的を果たす為にはフラックス率を10%
(対W)以上、より好ましくは15%(対W)以上とす
べきであることが分かる。こうした傾向は、フラックス
率の増大につれて溶滴穆行がスプレー化の方向に向かう
傾向ともよく対応している。
に対Wと記す) 本発明のフラックス入りワイヤは、上記成分組成を満足
する鉄粉系フラックスを外皮金属中に充填してなるもの
であるが、該フラックスの充填率もスパッタ発生量と密
接な関係を有しており、目的達成の為には該充填率を1
0%(対W)以上に設定しなければならない。ちなみに
第3図は、フラックス率がスパッタ発生量に与える影響
を調べた実験結果(実験条件は第1図の例と同様としフ
ラックス率のみを変更した)を示したグラフであり、低
スパツタ化の目的を果たす為にはフラックス率を10%
(対W)以上、より好ましくは15%(対W)以上とす
べきであることが分かる。こうした傾向は、フラックス
率の増大につれて溶滴穆行がスプレー化の方向に向かう
傾向ともよく対応している。
但しフラックス率が30%(対W)を超えると、外皮金
属の肉厚が薄くなってワイヤが軟弱になり送給性が低下
する(座屈が生じ易くなる)他、アークが不安定となっ
てアンダーカット等の欠陥が発生し易くなるので、30
%(対W)を上限と定めた。
属の肉厚が薄くなってワイヤが軟弱になり送給性が低下
する(座屈が生じ易くなる)他、アークが不安定となっ
てアンダーカット等の欠陥が発生し易くなるので、30
%(対W)を上限と定めた。
本発明で使用する外皮金属としては、成形性及び伸線性
の観点から深絞り性の良好な冷間圧延鋼や熱間圧延鋼等
が最も好ましいが勿論これらに限定される訳ではなく、
必要により低合金鋼や高合金鋼更には非鉄合金等を使用
することも可能である。しかしながら何れにしてもでき
るだけC量の少ないものを使用することが望まれる。ま
た外皮金属中のMnやSiは脱酸剤として作用し、溶滴
径行時に生ずるCoやCO2の発生を抑制して低スパツ
タ化を一段と助長する効果があるので、ある程8度含有
させておいた法が有利である。但しこれらの含有量が多
過ぎると加工性が劣悪になるので、外皮金属中のMn量
は2.0%以下、Si量は1.0%以下に抑えるのがよ
い。
の観点から深絞り性の良好な冷間圧延鋼や熱間圧延鋼等
が最も好ましいが勿論これらに限定される訳ではなく、
必要により低合金鋼や高合金鋼更には非鉄合金等を使用
することも可能である。しかしながら何れにしてもでき
るだけC量の少ないものを使用することが望まれる。ま
た外皮金属中のMnやSiは脱酸剤として作用し、溶滴
径行時に生ずるCoやCO2の発生を抑制して低スパツ
タ化を一段と助長する効果があるので、ある程8度含有
させておいた法が有利である。但しこれらの含有量が多
過ぎると加工性が劣悪になるので、外皮金属中のMn量
は2.0%以下、Si量は1.0%以下に抑えるのがよ
い。
また本発明ワイヤの断面形状は格別特殊なものではなく
、例えば第4図(A)〜(D)に示す様な種々の断面構
造とすることができる。
、例えば第4図(A)〜(D)に示す様な種々の断面構
造とすることができる。
第4図(D)に示したワイヤは外皮金属に継目のない例
であり、この種のワイヤであれば外皮内部へのめつと液
の浸入が起こらないので、表面にCu、AI等の金属を
めっきしてワイヤの送給性、通電性、耐錆性等を改善す
ることも有効である。この場合のめっき量としては0.
05〜0.30%程度が適当であり、特にめっき量が多
過ぎるとワイヤの溶融速度が低下し溶接能率に悪影響が
表われるので注意しなければならない。また上記の様な
継目なしの外皮金属を有するワイヤは継目ありのワイヤ
に比、べてアーク安定性に優れており、スパッタ量も少
ないという特徴を有している。
であり、この種のワイヤであれば外皮内部へのめつと液
の浸入が起こらないので、表面にCu、AI等の金属を
めっきしてワイヤの送給性、通電性、耐錆性等を改善す
ることも有効である。この場合のめっき量としては0.
05〜0.30%程度が適当であり、特にめっき量が多
過ぎるとワイヤの溶融速度が低下し溶接能率に悪影響が
表われるので注意しなければならない。また上記の様な
継目なしの外皮金属を有するワイヤは継目ありのワイヤ
に比、べてアーク安定性に優れており、スパッタ量も少
ないという特徴を有している。
ワイヤ径は用途に応じて1.2φ、1.6φ、2.0φ
、2.4φ、3.2φ(mm)等の中から任意に選定す
ればよく、またシールドガスとしてはCO2が最も一般
的であるが、この他HeやAr等の不活性ガス、或はそ
れらの混合ガス等を使用することも可能である。
、2.4φ、3.2φ(mm)等の中から任意に選定す
ればよく、またシールドガスとしてはCO2が最も一般
的であるが、この他HeやAr等の不活性ガス、或はそ
れらの混合ガス等を使用することも可能である。
[実施例コ
第1表に示す充填フラックスと軟m (C:o、oos
%、M n : 0.35%、S i : 0.01%
、P:0.015%、S : 0.01.残部Fe)製
外皮材を組合せて第2表に示す鉄粉系フラックス入りワ
イヤを作製した。尚ワイヤ中のC量は用いた鉄粉及びM
n中のC量により調整した。尚ワイヤNo、 1〜1
4及び18〜20の各ワイヤは断面形状が第4図(A)
に示すタイプで、伸線用潤滑剤としてMoS系(C≦0
.01%)潤滑剤を用いた。またワイヤNo、15〜1
7の各ワイヤは断面形状が第4図(D)に示すタイプで
表面に0.020%のCuめっき処理が施され、伸線用
潤滑剤として鉱油系潤滑剤を用いた。
%、M n : 0.35%、S i : 0.01%
、P:0.015%、S : 0.01.残部Fe)製
外皮材を組合せて第2表に示す鉄粉系フラックス入りワ
イヤを作製した。尚ワイヤ中のC量は用いた鉄粉及びM
n中のC量により調整した。尚ワイヤNo、 1〜1
4及び18〜20の各ワイヤは断面形状が第4図(A)
に示すタイプで、伸線用潤滑剤としてMoS系(C≦0
.01%)潤滑剤を用いた。またワイヤNo、15〜1
7の各ワイヤは断面形状が第4図(D)に示すタイプで
表面に0.020%のCuめっき処理が施され、伸線用
潤滑剤として鉱油系潤滑剤を用いた。
得られた各ワイヤを用い、下記の条件でビードオンプレ
ートによる溶接実験を行ない、スパッタ発生量を調べた
。
ートによる溶接実験を行ない、スパッタ発生量を調べた
。
結果を第2表に一括して示す。
笹韮Ji東任
電流 : 280A、DC(+)電圧 :
34■ 速度 +30cm/分 シールドガス:CO2,20℃/分 チップ/母材間距離:20mm 母材 : SM41 B、12mll1tスパツ
タ 土量の測 第5図に略示する如く、下向き溶接トーチ2及びワイヤ
送給装置3を備えた自動溶接装置1におけるトーチ2の
直下に、母材4を台車5に搭載して対峙させ、アーク点
Pを中心としてそのまわりに直径1200+n+nの捕
集板6を配置する。そして台車5を紙面貫通方向に穆勤
させることにより母材4の溶接位置を徐々に変更しつつ
溶接を行ない、飛散するスパッタを捕集板6によって捕
集する。測定時間は1分間とし、単位時間当たりのスパ
ッタ捕集量(g/分)を測定する。この操作を各供試ワ
イヤについて3回ずつ行ない平均値をもってスパッタ量
とした。
34■ 速度 +30cm/分 シールドガス:CO2,20℃/分 チップ/母材間距離:20mm 母材 : SM41 B、12mll1tスパツ
タ 土量の測 第5図に略示する如く、下向き溶接トーチ2及びワイヤ
送給装置3を備えた自動溶接装置1におけるトーチ2の
直下に、母材4を台車5に搭載して対峙させ、アーク点
Pを中心としてそのまわりに直径1200+n+nの捕
集板6を配置する。そして台車5を紙面貫通方向に穆勤
させることにより母材4の溶接位置を徐々に変更しつつ
溶接を行ない、飛散するスパッタを捕集板6によって捕
集する。測定時間は1分間とし、単位時間当たりのスパ
ッタ捕集量(g/分)を測定する。この操作を各供試ワ
イヤについて3回ずつ行ない平均値をもってスパッタ量
とした。
第 2 表
これらの実験結果より、次の様に考えることができる。
(1) No、 1〜3より、全ワイヤ中のC量が増加
するにつれてスパッタ量は明らかに増大しており、No
、17.18等の結果を含めて総合的に判断すると、全
ワイヤ中のC量は0.05%以下に抑えるべきである。
するにつれてスパッタ量は明らかに増大しており、No
、17.18等の結果を含めて総合的に判断すると、全
ワイヤ中のC量は0.05%以下に抑えるべきである。
(2) No、 1.4〜6より、フラックス中の脱酸
剤量を増加するにつれてスパッタ量は明らかに減少して
おり、少なくと10%程度の脱酸剤を配合すべきである
。しかし脱酸剤量が多過ぎるNo、 6の例では溶接金
属の靭性が明らかに低下することが確認された。
剤量を増加するにつれてスパッタ量は明らかに減少して
おり、少なくと10%程度の脱酸剤を配合すべきである
。しかし脱酸剤量が多過ぎるNo、 6の例では溶接金
属の靭性が明らかに低下することが確認された。
(3) No、 1.7.8の実験により脱酸剤中の
Ti量の影響を確認することができ、Ti量は15%以
上でないと低スパツタ化の目的を果たすことができない
。
Ti量の影響を確認することができ、Ti量は15%以
上でないと低スパツタ化の目的を果たすことができない
。
(4) No、 1.9.10よりフラックス中のアー
ク安定剤量の影響を知ることができ、アーク安定剤が1
%未満ではスパッタ量を十分に低減させることができな
い。但しアーク安定剤量が7.5%を超えるNo、10
では、ヒユーム量及び生成スラグ量の増大が著しく実用
的でない。
ク安定剤量の影響を知ることができ、アーク安定剤が1
%未満ではスパッタ量を十分に低減させることができな
い。但しアーク安定剤量が7.5%を超えるNo、10
では、ヒユーム量及び生成スラグ量の増大が著しく実用
的でない。
(5) No、 1.11.12よりフラックス中の
スラグ形成剤量の影響を知ることができ、スラグ形成剤
量の増加につれてスパッタ量は明らかに減少傾向を示し
ており、低スパツタ化の為には少なくとも1%程度以上
含有させるべきである。但しスラグ形成剤量が多過ぎる
No、12の例では生成スラグが非常に多くなり、鉄粉
系フラックス入りワイヤ本来の特性が損なわれる。
スラグ形成剤量の影響を知ることができ、スラグ形成剤
量の増加につれてスパッタ量は明らかに減少傾向を示し
ており、低スパツタ化の為には少なくとも1%程度以上
含有させるべきである。但しスラグ形成剤量が多過ぎる
No、12の例では生成スラグが非常に多くなり、鉄粉
系フラックス入りワイヤ本来の特性が損なわれる。
(6) No、 1.13.14よりフラックス率の
影響を確認することができ、フラックス率が10%(対
W)未満であるNo、13では低スパツタ化が達成され
ず、一方30%(対W)を超えるNo、14ではワイヤ
の送給性低下によりアークが非常に不安定となり溶接を
円滑に進めることができなかった。
影響を確認することができ、フラックス率が10%(対
W)未満であるNo、13では低スパツタ化が達成され
ず、一方30%(対W)を超えるNo、14ではワイヤ
の送給性低下によりアークが非常に不安定となり溶接を
円滑に進めることができなかった。
(7) No、 15〜17は継目なしの外皮金属よ
りなる実施例であり、N011の如き継目ありの外皮金
属を使った実施例に比べてもスパッタ量は更に少ないこ
とが分かる。
りなる実施例であり、N011の如き継目ありの外皮金
属を使った実施例に比べてもスパッタ量は更に少ないこ
とが分かる。
(8) No、 18〜20は継目ありの外皮金属よ
りなる他の実施例であり、何れの場合もスパッタ量が少
なく、又他の性能にも全く問題はなかった。
りなる他の実施例であり、何れの場合もスパッタ量が少
なく、又他の性能にも全く問題はなかった。
[発明の効果]
以上の様に本発明では、■鉄粉系フラックスの成分組成
を厳密に設定し、特に■脱酸剤中に適量のTiを含有せ
しめ、■該フランクスの充填率を特定する他、■全ワイ
ヤ中のC]tに制限を与え、これら各構成の相剰的作用
によって、鉄粉系フラックス入りワイヤに指摘されてい
たrスパッタ多発1の問題を解消したので、鉄粉系フラ
ックス入りワイヤ本来の特長である「低スラグ量」、「
高溶着金属量」を実際の溶接施工で有効に活用すること
が可能となり、溶接能率の向上に著しく貢献することが
できる。
を厳密に設定し、特に■脱酸剤中に適量のTiを含有せ
しめ、■該フランクスの充填率を特定する他、■全ワイ
ヤ中のC]tに制限を与え、これら各構成の相剰的作用
によって、鉄粉系フラックス入りワイヤに指摘されてい
たrスパッタ多発1の問題を解消したので、鉄粉系フラ
ックス入りワイヤ本来の特長である「低スラグ量」、「
高溶着金属量」を実際の溶接施工で有効に活用すること
が可能となり、溶接能率の向上に著しく貢献することが
できる。
第1図はワイヤ中のC量とスパッタ発生量の関係を示す
グラフ、第2図は脱酸剤の種類とスパッタ発生量の関係
を示すグラフ、第3図はフラックス率とスパッタ発生量
の関係を示すグラフ、第4図はワイヤの断面形状を例示
する横断面図、第5図はスパッタ発生量の測定法を示す
説明図である。 1・・・自動溶接装置 2・・・溶接トーチ3・・
・ワイヤ送給装置 4・・・母材5・・・台車
6・・・捕集板P・・・アーク点
グラフ、第2図は脱酸剤の種類とスパッタ発生量の関係
を示すグラフ、第3図はフラックス率とスパッタ発生量
の関係を示すグラフ、第4図はワイヤの断面形状を例示
する横断面図、第5図はスパッタ発生量の測定法を示す
説明図である。 1・・・自動溶接装置 2・・・溶接トーチ3・・
・ワイヤ送給装置 4・・・母材5・・・台車
6・・・捕集板P・・・アーク点
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記成分 鉄粉:40〜90%(対フラックス 全重量) アーク安定剤:0.5〜7.5%(〃) スラグ形成剤:1〜15%(〃) 15%(対脱酸剤全重量)以上のTiを含む脱酸剤:1
0〜45%(〃) を含有するフラックスを金属製外皮内へワイヤ全重量に
対し10〜30%充填してなり、且つワイヤ全重量中の
C量を0.05%以下に抑えてなることを特徴とする鉄
粉系フラックス入りワイヤ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60265909A JPH0729216B2 (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 鉄粉系フラックス入りワイヤ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60265909A JPH0729216B2 (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 鉄粉系フラックス入りワイヤ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62127193A true JPS62127193A (ja) | 1987-06-09 |
JPH0729216B2 JPH0729216B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=17423785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60265909A Expired - Lifetime JPH0729216B2 (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 鉄粉系フラックス入りワイヤ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0729216B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59104291A (ja) * | 1982-12-06 | 1984-06-16 | Kobe Steel Ltd | ガスシ−ルドア−ク溶接用フラツクス入りワイヤ |
JPH0446677A (ja) * | 1990-06-11 | 1992-02-17 | Origin Electric Co Ltd | アークトーチ |
JPH0460755A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Casio Comput Co Ltd | 自動調整文書処理装置 |
-
1985
- 1985-11-26 JP JP60265909A patent/JPH0729216B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59104291A (ja) * | 1982-12-06 | 1984-06-16 | Kobe Steel Ltd | ガスシ−ルドア−ク溶接用フラツクス入りワイヤ |
JPH0446677A (ja) * | 1990-06-11 | 1992-02-17 | Origin Electric Co Ltd | アークトーチ |
JPH0460755A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-26 | Casio Comput Co Ltd | 自動調整文書処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0729216B2 (ja) | 1995-04-05 |
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