JPS62125619A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPS62125619A JPS62125619A JP26480085A JP26480085A JPS62125619A JP S62125619 A JPS62125619 A JP S62125619A JP 26480085 A JP26480085 A JP 26480085A JP 26480085 A JP26480085 A JP 26480085A JP S62125619 A JPS62125619 A JP S62125619A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- ozone
- chamber
- cleaned
- preparatory chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning In General (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は洗浄装置に係り、例えば電子部品、半導体等の
表面の有機物の洗浄に適した洗浄装置に関する。
表面の有機物の洗浄に適した洗浄装置に関する。
従来の装置は、特開昭５９−９４８２３号。
特開昭５９−９４８２４号等の広報に記載のように波長
１８５ｍＭと２５４． ｙｎの紫外線強度比及び１８５
＋＋ｙｎの紫外線強度を設定し、被洗浄物をベルトコン
ベアで搬送して洗浄する構造であった。しかし、洗浄の
際発生するオゾンはアメリカ労働衛生専門家会議による
許容濃度が０．ｌｐｐｍという有害物であるにもかかわ
らずその流出防止に対しては何の配慮もなされていなか
った。
１８５ｍＭと２５４． ｙｎの紫外線強度比及び１８５
＋＋ｙｎの紫外線強度を設定し、被洗浄物をベルトコン
ベアで搬送して洗浄する構造であった。しかし、洗浄の
際発生するオゾンはアメリカ労働衛生専門家会議による
許容濃度が０．ｌｐｐｍという有害物であるにもかかわ
らずその流出防止に対しては何の配慮もなされていなか
った。
本発明の目的は、洗浄処理時に発生する有害なオゾンを
装置外にもらさずに、連続処理が可能な洗浄ラインに組
み込む事が可能な洗浄装置を提供することにある。
装置外にもらさずに、連続処理が可能な洗浄ラインに組
み込む事が可能な洗浄装置を提供することにある。
本発明はオゾンを用い有機物を除去する洗浄装置にオゾ
ンの濃度を検出するセンサを備えた予備室を設けたもの
である。有害ガスを用いる洗浄室をインライン化するに
は、洗浄室と装置外部との間に予備室を備け、これを経
由して被洗浄物を搬送する必要がある。これにより洗浄
室から予備室にオゾンが流出した場合、予備室の排気処
理を行いオゾンを除去すれば被洗浄物の搬送の際オゾン
を装置ｒ７外に流出する事は防げる。しかし排気処理が
不十分な場合流出させる危険があるため、予備室内のオ
ゾン濃度を検出し七分仙゛気が行われた後、搬送を行う
装置としたものである。
ンの濃度を検出するセンサを備えた予備室を設けたもの
である。有害ガスを用いる洗浄室をインライン化するに
は、洗浄室と装置外部との間に予備室を備け、これを経
由して被洗浄物を搬送する必要がある。これにより洗浄
室から予備室にオゾンが流出した場合、予備室の排気処
理を行いオゾンを除去すれば被洗浄物の搬送の際オゾン
を装置ｒ７外に流出する事は防げる。しかし排気処理が
不十分な場合流出させる危険があるため、予備室内のオ
ゾン濃度を検出し七分仙゛気が行われた後、搬送を行う
装置としたものである。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
水銀灯３より照射される紫外線により発生するオゾンを
用い洗浄を行う洗浄室１に隣接して予備室２が形成され
ている１、予備室２にはセンサ１４が備えられており内
部のオゾンの濃度を検出する。予備室２の装置外部側に
扉開閉器１２により開閉される予備室扉５を、又予備室
２の洗浄室１側に洗浄室扉４を備える。搬送腕８は被洗
浄物９を装置外部と予蕾を室２の間を搬送し、予備室搬
送腕７に受けわたす機能を持つ。予備室搬送腕７は被洗
浄物９を予備室２と洗浄室１の間を搬送し、洗浄台６に
受はオ）だす機能を持つ。マイクロコンピュータ１３は
センサ１４からの信号を受は扉開閉器１２に開閉信号を
送る。
用い洗浄を行う洗浄室１に隣接して予備室２が形成され
ている１、予備室２にはセンサ１４が備えられており内
部のオゾンの濃度を検出する。予備室２の装置外部側に
扉開閉器１２により開閉される予備室扉５を、又予備室
２の洗浄室１側に洗浄室扉４を備える。搬送腕８は被洗
浄物９を装置外部と予蕾を室２の間を搬送し、予備室搬
送腕７に受けわたす機能を持つ。予備室搬送腕７は被洗
浄物９を予備室２と洗浄室１の間を搬送し、洗浄台６に
受はオ）だす機能を持つ。マイクロコンピュータ１３は
センサ１４からの信号を受は扉開閉器１２に開閉信号を
送る。
予備室２内の雰囲気は排気［」１０を経由し排気管１１
にて排気処理される。
にて排気処理される。
被洗浄物９は搬送腕８と予備室搬送腕７により装置外部
より洗浄室１内部に搬入されて洗浄台６上で洗浄を受け
、再び予備室搬送腕７と搬送腕８により装置外部へ搬出
される。搬送の際雰囲気の移動が生じ予備室２内がオゾ
ンを含む雰囲気となる。このオゾンの濃度はセンサ１４
で検出される。前記の搬送の為予備室扉５を開く必要が
ある場合は、排気により予備室２内雰囲気が許容濃度以
下であるとマイクロコンピュータ１３が判断した後、扉
開閉器１２に信号を送り予備室扉５を開ける。
より洗浄室１内部に搬入されて洗浄台６上で洗浄を受け
、再び予備室搬送腕７と搬送腕８により装置外部へ搬出
される。搬送の際雰囲気の移動が生じ予備室２内がオゾ
ンを含む雰囲気となる。このオゾンの濃度はセンサ１４
で検出される。前記の搬送の為予備室扉５を開く必要が
ある場合は、排気により予備室２内雰囲気が許容濃度以
下であるとマイクロコンピュータ１３が判断した後、扉
開閉器１２に信号を送り予備室扉５を開ける。
第２図は前記マイクロコンピュータ１３のフローチャー
１−を示す。次に本フローチャートに基づいて制御の一
例を説明する。ステップＡでスター１へすると予備室内
２の雰囲気が排気される（ステップＢ）。予備室内２の
雰囲気中のオゾンはセンサ１４で測定され許容濃度以下
である・ ３ ・ かを判定（ステップＣ）される。オゾンが許容濃度以下
になると予備室扉５を開き（ステップＤ）搬送腕８にて
被洗浄物９を予備室２へ搬送（ステップＥ）Ｌ、次いで
予備室扉５を閉じる（ステップＦ）。次に洗浄室扉４を
開き（ステップＧ）予備室搬送腕７にて被洗浄物９を予
備室２から洗浄室１の洗浄台６へ搬送しくステップＨ）
、次いで洗浄室扉４を閉じ（ステップＩ）洗浄を行う（
ステップＪ）。洗浄終−ｒ後、洗浄室扉４を開き（ステ
ップＫ）、予備室搬送腕７にて洗浄室１の洗浄台６の被
洗浄物９を洗浄予備室２へ搬送しくステップ丁、）次い
で洗浄室扉４を閉じ（ステップＭ）予備室２内の雰囲気
を排気する（ステップＮ）。予備室２内の雰囲気中のオ
ゾンは前記間、様センサで１１１ｑ定し許容濃度以下で
あるか判定する（ステップＯ）。許容濃度以上であれば
ステップＮをくり返し、許容濃度以下であれば予備室扉
５を開き（ステップＰ）搬送腕８にて被洗浄物９を予備
室２から装置外部へ搬送しくステップＱ）、次いで予備
室扉５を閉じ（ステップＲ）終・ ４ ・ 了する。（ステップＳ）。
１−を示す。次に本フローチャートに基づいて制御の一
例を説明する。ステップＡでスター１へすると予備室内
２の雰囲気が排気される（ステップＢ）。予備室内２の
雰囲気中のオゾンはセンサ１４で測定され許容濃度以下
である・ ３ ・ かを判定（ステップＣ）される。オゾンが許容濃度以下
になると予備室扉５を開き（ステップＤ）搬送腕８にて
被洗浄物９を予備室２へ搬送（ステップＥ）Ｌ、次いで
予備室扉５を閉じる（ステップＦ）。次に洗浄室扉４を
開き（ステップＧ）予備室搬送腕７にて被洗浄物９を予
備室２から洗浄室１の洗浄台６へ搬送しくステップＨ）
、次いで洗浄室扉４を閉じ（ステップＩ）洗浄を行う（
ステップＪ）。洗浄終−ｒ後、洗浄室扉４を開き（ステ
ップＫ）、予備室搬送腕７にて洗浄室１の洗浄台６の被
洗浄物９を洗浄予備室２へ搬送しくステップ丁、）次い
で洗浄室扉４を閉じ（ステップＭ）予備室２内の雰囲気
を排気する（ステップＮ）。予備室２内の雰囲気中のオ
ゾンは前記間、様センサで１１１ｑ定し許容濃度以下で
あるか判定する（ステップＯ）。許容濃度以上であれば
ステップＮをくり返し、許容濃度以下であれば予備室扉
５を開き（ステップＰ）搬送腕８にて被洗浄物９を予備
室２から装置外部へ搬送しくステップＱ）、次いで予備
室扉５を閉じ（ステップＲ）終・ ４ ・ 了する。（ステップＳ）。
これにより例えば許容濃度をＱ、ｌｐｐｍと設定すれば
、装置外部の環境は労働衛生上の許容限度以下となる。
、装置外部の環境は労働衛生上の許容限度以下となる。
本発明は予備室内の雰囲気をモニターし、安全を確認し
た後に扉を開くため、有害なオゾンを装置外部に漏さず
に洗浄処理が行え、作業者の安全及び周辺機器の損失防
止を確保した上で洗浄ラインに組込み連続処理する事が
出来る。
た後に扉を開くため、有害なオゾンを装置外部に漏さず
に洗浄処理が行え、作業者の安全及び周辺機器の損失防
止を確保した上で洗浄ラインに組込み連続処理する事が
出来る。
第１図は本発明の一実施例を示す洗浄装置の断面図、第
２図は上記洗浄装置を制御するためのマイクロコンピュ
ータのフローチャートである。 １・・・洗浄室、２・・・予備室、３・・・水銀灯、４
・・・洗浄扉、５・・・予備室扉、６・・・洗浄台、９
・・・被洗浄物、１０・・・排気口、１１−・・・排気
管、１２・・・扉開閉器、１３・・・マイクロコンピュ
ータ、１４・・センサ。
２図は上記洗浄装置を制御するためのマイクロコンピュ
ータのフローチャートである。 １・・・洗浄室、２・・・予備室、３・・・水銀灯、４
・・・洗浄扉、５・・・予備室扉、６・・・洗浄台、９
・・・被洗浄物、１０・・・排気口、１１−・・・排気
管、１２・・・扉開閉器、１３・・・マイクロコンピュ
ータ、１４・・センサ。
Claims (1)
- １、酸素ラジカルによる酸化により被洗浄物表面の有機
物を除去する機能を持ち、この処理を行う洗浄室との間
は開閉可能な扉で仕切られ、装置外部とも開閉可能な扉
で仕切られ、内部に被洗浄物を保管する機能を持つ予備
室を有する洗浄装置において、予備室内のオゾンの濃度
を検出する機能を持つセンサを備える事を特徴とする洗
浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26480085A JPS62125619A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26480085A JPS62125619A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62125619A true JPS62125619A (ja) | 1987-06-06 |
Family
ID=17408384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26480085A Pending JPS62125619A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62125619A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6410615A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-13 | Nec Corp | Manufacture of semiconductor device and apparatus therefor |
| US5313965A (en) * | 1992-06-01 | 1994-05-24 | Hughes Aircraft Company | Continuous operation supercritical fluid treatment process and system |
| US5343885A (en) * | 1992-03-04 | 1994-09-06 | Baxter International Inc. | Vacuum air lock for a closed perimeter solvent conservation system |
| KR100643496B1 (ko) | 2004-12-23 | 2006-11-10 | 삼성전자주식회사 | 노말 오픈/클로즈 타입 겸용 광센서 보드 |
-
1985
- 1985-11-27 JP JP26480085A patent/JPS62125619A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6410615A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-13 | Nec Corp | Manufacture of semiconductor device and apparatus therefor |
| US5343885A (en) * | 1992-03-04 | 1994-09-06 | Baxter International Inc. | Vacuum air lock for a closed perimeter solvent conservation system |
| US5313965A (en) * | 1992-06-01 | 1994-05-24 | Hughes Aircraft Company | Continuous operation supercritical fluid treatment process and system |
| KR100643496B1 (ko) | 2004-12-23 | 2006-11-10 | 삼성전자주식회사 | 노말 오픈/클로즈 타입 겸용 광센서 보드 |
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