JPS62254425A - 紫外線洗浄装置 - Google Patents
紫外線洗浄装置Info
- Publication number
- JPS62254425A JPS62254425A JP9674386A JP9674386A JPS62254425A JP S62254425 A JPS62254425 A JP S62254425A JP 9674386 A JP9674386 A JP 9674386A JP 9674386 A JP9674386 A JP 9674386A JP S62254425 A JPS62254425 A JP S62254425A
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- JP
- Japan
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- ozone
- room
- door
- preliminary
- cleaning
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- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 24
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 2
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- 238000012790 confirmation Methods 0.000 abstract 1
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- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は紫外線洗浄装置、特に被洗浄体（半導体）表面
の有機物の洗浄に適した洗浄装置に関するものである。
の有機物の洗浄に適した洗浄装置に関するものである。
従来のこの種洗浄装置は、特開昭５９−９４８２５号公
報及び同５９−９４８２４号公報に記載されているよう
に、箱状の本体内にベルトコンベアを張設すると共に、
該コンベアの上方に紫外線ランプを設置し、該ランプか
らの光でコンベア上の被洗浄体表面を照射して、該表面
に付着した有機物等の汚染物を除去するようにし虎もの
である。しかも、前記ランプから発光する波長１８５ｎ
ｍ 及び２５４ ｎｍの紫外線を、両者の強度比と強度
を設定して被洗浄体表面に照射することにより、前記汚
染物を除去するようにしたものである。
報及び同５９−９４８２４号公報に記載されているよう
に、箱状の本体内にベルトコンベアを張設すると共に、
該コンベアの上方に紫外線ランプを設置し、該ランプか
らの光でコンベア上の被洗浄体表面を照射して、該表面
に付着した有機物等の汚染物を除去するようにし虎もの
である。しかも、前記ランプから発光する波長１８５ｎ
ｍ 及び２５４ ｎｍの紫外線を、両者の強度比と強度
を設定して被洗浄体表面に照射することにより、前記汚
染物を除去するようにしたものである。
上記従来例では、洗浄の際に紫外線ランプの光で発生す
るオゾンは、その許容濃度が０．１ｐｐｒｎという有害
物であるにもかかわらず、該オゾンの流出防止について
はなんら対策が施されていないから安全上問題があつな
。
るオゾンは、その許容濃度が０．１ｐｐｒｎという有害
物であるにもかかわらず、該オゾンの流出防止について
はなんら対策が施されていないから安全上問題があつな
。
本発明は上記にかんがみ、紫外線洗浄装置内のオゾン濃
度を測定することにより、該オゾン濃度が安全上問題で
あるか否かを確認することができる紫外線洗浄装置を提
供することを目的とする。
度を測定することにより、該オゾン濃度が安全上問題で
あるか否かを確認することができる紫外線洗浄装置を提
供することを目的とする。
上記問題点は、装置本体内を干渉フィルタ及び開閉可能
な扉を設けた隔壁により区画し、紫外線ランプを有する
洗浄室と光検出器を有する予備室とを構成し、該光検出
器をオゾン測定器に接続することにより解決される。
な扉を設けた隔壁により区画し、紫外線ランプを有する
洗浄室と光検出器を有する予備室とを構成し、該光検出
器をオゾン測定器に接続することにより解決される。
洗浄室に設けた紫外線ランプから発光する波長２５４ｎ
ｍの紫外線を予備室内に導入し、該導入口に対設した光
検出器を介して前記波長２５４ ｎ ｍ の光の強度を
検出することにより、オゾン測定器を介して予備室内の
オゾン濃度を測定することができる。
ｍの紫外線を予備室内に導入し、該導入口に対設した光
検出器を介して前記波長２５４ ｎ ｍ の光の強度を
検出することにより、オゾン測定器を介して予備室内の
オゾン濃度を測定することができる。
以下、本発明の一実施例を図面について説明する。
第１図は本実施例の構成を示す断面図である。
同図において、装置本体１は、開閉可能な扉７と干渉フ
ィルタ９を設けた隔壁１５により２室２．３に区画され
ている。その一方の室２は、その内部の下方に被洗浄体
（例えば半導体）６を搬送するベルトコンベア５Ｃが設
けられると共に、前記干渉フィルタ９と同一レベルの上
方位置に紫外線ランプ４が設けられ、さらに底部に排出
口１２が設けられて洗浄室を構成している。
ィルタ９を設けた隔壁１５により２室２．３に区画され
ている。その一方の室２は、その内部の下方に被洗浄体
（例えば半導体）６を搬送するベルトコンベア５Ｃが設
けられると共に、前記干渉フィルタ９と同一レベルの上
方位置に紫外線ランプ４が設けられ、さらに底部に排出
口１２が設けられて洗浄室を構成している。
上記他方の室３は、その内部の下方に被洗浄体６を搬送
するベルトコンベア５Ｂが設けられると共に、外側壁１
６にオゾン測定器１１に接続する光検出器１０及び開閉
可能な扉８が設けられ、さらに底部に排出口１３が設け
られて予備室を構成している。
するベルトコンベア５Ｂが設けられると共に、外側壁１
６にオゾン測定器１１に接続する光検出器１０及び開閉
可能な扉８が設けられ、さらに底部に排出口１３が設け
られて予備室を構成している。
前記扉７．８は、被洗浄体６が洗浄室２及び予備室３に
出入可能な位置に設けられ、又光検出器１０は干渉フィ
ルタ９と対向するように設置されている０ 本実施例は上記のような構成からな９、洗浄ラインの外
部ベルトコンベア５Ａにより搬送された被洗浄体６は、
Ｊ％８Ｊｆ−経て予備室３内のベルトコンベア５Ｂ上に
移送され、さらに洗浄室２内のベルトコンベア５Ｃ上に
移送される。次に扉７，８を閉じ、紫外線ランプ４から
波長１８５ｎｍ と同２５４ｎｍ の紫外線を発光さ
せ、これらの紫外線を任意の強度比と強度で、洗浄室２
内の被洗浄体６の表面に照射して該表面の有機物、オゾ
ン等を除去する。この除去された有機物、オゾン等は、
洗浄室２の排出口１２から排気される。
出入可能な位置に設けられ、又光検出器１０は干渉フィ
ルタ９と対向するように設置されている０ 本実施例は上記のような構成からな９、洗浄ラインの外
部ベルトコンベア５Ａにより搬送された被洗浄体６は、
Ｊ％８Ｊｆ−経て予備室３内のベルトコンベア５Ｂ上に
移送され、さらに洗浄室２内のベルトコンベア５Ｃ上に
移送される。次に扉７，８を閉じ、紫外線ランプ４から
波長１８５ｎｍ と同２５４ｎｍ の紫外線を発光さ
せ、これらの紫外線を任意の強度比と強度で、洗浄室２
内の被洗浄体６の表面に照射して該表面の有機物、オゾ
ン等を除去する。この除去された有機物、オゾン等は、
洗浄室２の排出口１２から排気される。
このように洗浄室２内で洗浄された被洗浄体６は、開放
し念扉７を経て予備室ｓ内に搬送される。
し念扉７を経て予備室ｓ内に搬送される。
そこで、扉７を閉じ、紫外線ランプ４から発する光のう
ち、波長２５４ ｎ ｍの光のみを干渉フィルタ９を透
過させて予備室ｓ内に導入する。該予備室３内の被洗浄
体６は、予備室３内のオゾン及び酸素ラジカルが排出口
１３から排気されて完全に除去されるまで予備室３内に
保留されている。そして、予備室３内のオゾン濃度をオ
ゾン測定器１１を介して測定し、該オゾン濃度が０．ｌ
ｐｐｍ以下に低下したとき、Ｊ１８を開放して洗浄ライ
ンのベルトコンベア５Ａへ搬送する。
ち、波長２５４ ｎ ｍの光のみを干渉フィルタ９を透
過させて予備室ｓ内に導入する。該予備室３内の被洗浄
体６は、予備室３内のオゾン及び酸素ラジカルが排出口
１３から排気されて完全に除去されるまで予備室３内に
保留されている。そして、予備室３内のオゾン濃度をオ
ゾン測定器１１を介して測定し、該オゾン濃度が０．ｌ
ｐｐｍ以下に低下したとき、Ｊ１８を開放して洗浄ライ
ンのベルトコンベア５Ａへ搬送する。
この場合、干渉フィルタ９を透過した波長２５４ｎｍの
光の強度を光検出器１０により検出し、該光検出器１０
からの信号は、オゾン測定器１１に入力して処理され、
オゾン濃度として表示される。
光の強度を光検出器１０により検出し、該光検出器１０
からの信号は、オゾン測定器１１に入力して処理され、
オゾン濃度として表示される。
本発明によれば、予備室内のオゾン濃度を監視し、安全
を確認した後に被洗浄体の搬送うことにより、作業上の
安全性及び周辺機器の損傷を防止することができる。
を確認した後に被洗浄体の搬送うことにより、作業上の
安全性及び周辺機器の損傷を防止することができる。
第１図は本発明の紫外線洗浄ｌＡ＠の一実施例の構成を
示す断面図でちる。 １・・・装置本体 ２・・・洗浄室５・・・予備
室 ４・・・紫外線ランプ５Ａ〜５Ｃ・・・ベ
ルトコンベア ６・・・被洗浄体 ７Ｊ８・・・扉９・・・干渉
フィルタ １０・・・光検出器１１・・・オゾン測定
器 １５・・・隔壁１６・・・外壁
示す断面図でちる。 １・・・装置本体 ２・・・洗浄室５・・・予備
室 ４・・・紫外線ランプ５Ａ〜５Ｃ・・・ベ
ルトコンベア ６・・・被洗浄体 ７Ｊ８・・・扉９・・・干渉
フィルタ １０・・・光検出器１１・・・オゾン測定
器 １５・・・隔壁１６・・・外壁
Claims (1)
- １、装置本体内を干渉フィルタ及び開閉可能な扉を設け
た隔壁により２室に区分し、該一方の室内に被洗浄体の
搬送体及び紫外線ランプを設けて洗浄室を構成すると共
に、他方の室内に被洗浄体の搬送体を設け、かつ該室の
外壁にオゾン測定器に接続する光検出器及び開閉可能な
扉を設けて予備室を構成したことを特徴とする紫外線洗
浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9674386A JPS62254425A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9674386A JPS62254425A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 紫外線洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62254425A true JPS62254425A (ja) | 1987-11-06 |
Family
ID=14173171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9674386A Pending JPS62254425A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62254425A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1111899C (zh) * | 2000-04-11 | 2003-06-18 | 北京高力通科技开发公司 | 紫外光表面清洗机 |
| KR100908603B1 (ko) | 2008-04-22 | 2009-07-22 | 타포스주식회사 | 전자가속기를 이용한 다중제품의 가공안내장치 |
| JP2015207621A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
-
1986
- 1986-04-28 JP JP9674386A patent/JPS62254425A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1111899C (zh) * | 2000-04-11 | 2003-06-18 | 北京高力通科技开发公司 | 紫外光表面清洗机 |
| KR100908603B1 (ko) | 2008-04-22 | 2009-07-22 | 타포스주식회사 | 전자가속기를 이용한 다중제품의 가공안내장치 |
| JP2015207621A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
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