JPS62121714A - 新規共重合体 - Google Patents

新規共重合体

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JPS62121714A
JPS62121714A JP26073485A JP26073485A JPS62121714A JP S62121714 A JPS62121714 A JP S62121714A JP 26073485 A JP26073485 A JP 26073485A JP 26073485 A JP26073485 A JP 26073485A JP S62121714 A JPS62121714 A JP S62121714A
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JP
Japan
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group
general formula
vinyl
allyl
copolymer
Prior art date
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Application number
JP26073485A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Morinaga
博 森永
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Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、光学及び電子機器材料等に有用な新規な共重
合体に関するものであり、一般式〔I〕、一般式(If
)及び一般式(III)で表される化合物及び該化合物
の重合体から選ばれる少なくとも1種の打機珪素化合物
と炭素−炭素二重結合を有する不飽和単量体から選ばれ
る少なくとも1種の化合物とをラジカル共重合させて得
られる低密度、高屈折率且つ低吸水性で、透明性に優れ
た共重合体に関するものである。
(ロ)従来の技術 近年、プラスチックガラスは無機ガラスに比較し軽量で
割れ難く染色が容易なため、水鏡レンズ、カメラレンズ
及び計器用カバーガラス等の光学用途に背反してきてい
る。
従来のプラスチックレンズ用樹脂としては、ポリメチル
メタクリレート及びジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネートの重合体(CR−39)が主として使用され
ている。
又、単量体構造にハロゲンを導入することにより生成樹
脂の屈折率が上昇することも知られている。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 ジエチレングリコールビスアリルカーボネートをラジカ
ル重合開始剤の存在下で重合し三次元架橋した樹脂は、
軽量且つ耐衝撃性に優れ表面硬度が高く加工性の良いプ
ラスチックレンズ用樹脂であり、特に眼鏡レンズ用樹脂
として使用されている。
然しなから、上記樹脂の屈折率n、は1.50で眼鏡等
に使用される無機ガラス、例えばクラウンガラスの屈折
率no  1.52〜1.53に比較し低く、無機ガラ
スと同一の光学的特性を得るためにはレンズの中心厚、
コバ厚及び曲率を大きくする必要があり全体としてレン
ズが肉厚になることは避けられない。
又、上述のポリメチルメタクリレート及びジエチレング
リコールビスアリルカーボネートの重合体(CR−39
)は、比較的吸水性(吸湿性)が大きい欠点がある。
一般に、吸水性が大きいと機械的強度及び硬度等の諸物
性に好ましくない影響を与え、特にレンズとして使用す
る場合には樹脂が膨張する結果レンズ樹脂面と蒸着コー
テイング面間の剥離等の問題が起こる。
更に、単量体構造にハロゲンを導入すると生成樹脂の屈
折率は上昇するが、樹脂の密度も大きくなりレンズが重
くなる欠点がある。
(ニ)問題点を解決するための手段 本発明者らは、上述の問題点を解決すべく鋭意努力した
結果、低密度、高屈折率且つ低吸水性で透明性に優れた
共重合体に関する本発明を完成したものである。
即ち、本発明はTa1一般式(1)又は一般式〔■〕で
表される (式中、Zはビニル基またはアリル基、R11R2はメ
チル基、フェニル基、アリル基又はビニル基、nは1〜
20の整数を示す。)(式中、Zはビニル基又はアリル
基、R1はメチル基、フェニル基、アリル基又はビニル
基、nは2〜lOの整数を示す。) 珪素原子に結合したビニル基又はアリル基を有するポリ
シロキサン化合物及び該重合体、(b)一般式(I[I
)で表される (式中、Zはビニル基又はアリル基、R1はメチル基、
フェニル基、アリル基又はビニル基、R3は炭素数2〜
6のアルキレン基又はフェニレン基を示す。) 珪素原子に結合したビニル基又はアリル基を有するポリ
シルアルキレン化合物及びポリシルフェニレン化合物並
びに該重合体 の群から選ばれる少なくとも1種の有機珪素化合物と (C1炭素−炭素二重結合を有する不飽和単量体から選
ばれる少なくとも1種の化合物 とをラジカル共重合させて得られる共重合体に関゛する
ものである。
本発明の一般式(1)で表される化合物の具体例として
は、1,1,3.3−テトラメチル−1,3−ジビニル
ジシロキサン、1,1,3.3−テトラフェニル−1,
3−ジビニルジシロキサン、l、3−ジアリル−1,3
−ジフェニル−1,3−ジビニルジシロキサン、1,3
−ジアリル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン及び1,3−ジアリル−1,1,3,3−テトラフェ
ニルジシロキサン等が挙げられる 更に、各種重合度のα、ω−ジビニルジメチルポリシロ
キサン、α、ω−ジビニルジフェニルポリシロキサン、
α、ω−ジビニルメチルフェニルポリシロキサン、α、
ω−ジアリルジメチルポリシロキサン及びα、ω−ジア
リルジフェニルポリシロキサン等も挙げられる 又、一般式〔II〕で表される化合物の具体例としては
、1,3.5− トリメチル−1,3,5−トリビニル
シクロトリシロキサン、1,3.5−1−ジフェニル−
1,3,5−トリビニルシクロトリシロキサン、1.3
.5−トリアリル−1,3,5−トリメチルシクロトリ
シロキサン、1.3.5− トリアリル−1,3,5−
トリフェニルシクロトリシロキサン、1.3,5.7−
テトラメチル−1,3,5,フーチトラビニルシクロテ
トラシロキサン、1,3,5.7−テトラフェニル−1
,3,5,フーチトラビニルシクロテトラシロキサン、
1,3,5.7−チトラアリルー1.3,5゜7−チト
ラメチルシクロテトラシロキサン及び1,3゜5.7.
テトラアリル−1,3,5,7〜テトラフエニルシクロ
テトラシロキサン等が挙げられる。
−S式(I[I)で表される化合物の具体例としては、
1.2−ビス(ジメチルビニルシリル)エタン、1.4
−ビス(ジメチルビニルシリル)ブタン、1.2−ビス
(ジフェニルビニルシリル)エタン、1.4−ビス(ジ
フェニルビニルシリル)ブタン、1.4−ビス(ジメチ
ルビニルシリル)ベンゼン、l、4−ビス(ジフェニル
ビニルシリル)ベンゼン、1.2−ビス(アリルジメチ
ルシリル)エタン、1.4−ビス(アリルジメチルシリ
ル)ブタン、1.2−ビス(アリルジフェニルシリル)
エタン、114−ビス(アリルジフェニルシリル)ブタ
ン及び1.4−ビス(アリルジメチルシリル)ベンゼン
等が挙げられる。
又、本発明の一般式〔I〕、一般式(Il)及び一般式
(I[I)で表される化合物を華独重合又は共重合して
得られる重合体も同様に使用することができ、更に上述
の化合物の重合体より選ばれる2種類以上の化合物を混
合して使用しても良い。
本発明の炭素−炭素二重結合を有する不飽和単量体から
選ばれる化合物としては、次の化合物群が挙げられる。
第1に、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル
が挙げられる。
具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸ビニル
、アクリル酸アリル、アクリル酸フェニル、アクリル成
核塩素置換フェニル、アクリル成核臭素置換フェニル、
アクリル酸ベンジル、アクリル成核塩素置換ベンジル、
アクリル成核臭素置換ベンジル、エチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
グリセリントリアクリレート、ペンタエリスルトールテ
トラアクリレート、ビスフェノールビスアクリレート、
ビスフェノール−A−ビスアクリレート、テトラブロモ
ビスフェへ−ルー八−ビスアクリレート、2.2−ビス
(4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2.
2−ビス(4−アクリロキシエトキシ−3,5−ジブロ
モフェニル)プロパン、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸ビニル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル成核塩素置換フェニル、メタクリル成核
臭素置換フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル
成核塩素置換ベンジル、メタクリル成核臭素置換ベンジ
ル、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレン
グリコールジメタクリレート、グリセリントリメタクリ
レート、ペンタエリスルトールテトラメタクリレート、
ビスフェノールビスメタクリレート、ビスフェノール−
A−ビスメタクリレート、テトラブロモビスフェノール
−A−ビスメタクリレート、2.2−ビス(4−メタク
リロキシエトキシフェニル)プロパン及び2.2−ビス
(4−メタクリロキシエトキシ−3,5−ジブロモフェ
ニル)プロパン等がある。
第2に、アリルアルコールのエーテル及びエステル又は
メタリルアルコールのエーテル及びエステルが挙げられ
る。
具体例としては、イソシアヌール酸トリアリル、イソシ
アヌール酸トリアクリロイルオキシエチル、カプロン酸
アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸7リル、0−フ
タル酸ジアリル、i−フタル酸ジアリル、テレフタル酸
ジアリル、2.5−ジクロロテレフタル酸ジアリル、ト
リメリット酸トリアリル、ビスフェノール−八−ビスア
リルエーテル、4.4ビス(ヒドロキシエトキシ)ビフ
ェニルビスアリルエーテル、2.2−ビス(4−アリロ
キシエトキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(4−
アリロキシエトキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロ
パン、トリアリルメラミン、トリアクリロイルオキシメ
チルメラミン、トリアクリロキシメチルメラミン、イソ
シアヌール酸トリメタリル、イソシアヌール酸トリメタ
クリロイルオキシエチル、カプロン酸メクリル、ステア
リン酸メタリル、安、口、香酸メタリル、0−フタル酸
ジメタリル、2,5−ジクロロテレフタル酸ジメタリル
、トリメリット酸トリメタリル、ビスフェノール−八−
ビスメタリルエーテル、4.4ビス(ヒドロキシエトキ
シ)ビフェニルビスメタリルエーテル、2,2−ビス(
4−メタリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(4−メタソロキシエトキシ−3,5−ジブロモ
フエニル)プロパン、トリメクリルメラミン、トリメタ
クリロイルオキソメチルメラミン及びトリメタクリロキ
シメチルメラミン等がある。
第3に、アリルアルコール又はメタリルアルコールと1
価乃至2価以上のヒドロキシ基含有有機化合物から誘導
されるカーボネートが挙げられる。
具体例としては、4.4′−ビス(ヒドロキシエI・キ
シ)ビフェニルビスアリルカーボネート、4゜4−ビス
(ヒドロキシエトキシ)ジフェニルメタンビスアリルカ
ーホふ一ト、2,2−ビス(4−アリルカーボネートエ
トキシフェニル)プロパン、2゜2−ビス(4−アリル
カーボネートエトキシ−3,5−ジブロモフェニル)プ
ロパン、フェノキシエチルアリルカーボネート、p−ク
ロルフェノキシエチルアリルカーボネート、■、4−ジ
(ヒドロキシエトキシ)ヘンゼンビスアリルカーボネー
ト、1.4−ジ(ヒドロキシエトキシ) −2,5−ジ
クロルベンゼンビスアリルカーボネート、4,4′−ビ
ス(ヒドロキシエトキシ)ビフェニルビスメタリルカー
ボネート、4.4゛−ビス(ヒドロキシエトキシ)ジフ
ェニルメタンビスメタリルカーボネート、2.2−ビス
(4−メタリルカーボネートエトキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス (4−メタリルカーボネートエトキ
シ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、フェノキシ
エチルメタリルカーボネート、p−クロルフエノキシエ
チルメタリルカーボ不−ト、1,4−ジ(ヒドロキシエ
トキシ)ベンゼンビスメタリルカーボネート及び1,4
−ジ(ヒドロキシエトキシ) −2,5−ジクロルベン
ゼンビスメタリルカーボネート等がある。
第4に、桂皮酸エステル又は核ハロゲン置換桂皮酸エス
テルが挙げられる。
具体例としては、桂皮酸メチル、桂皮酸ビニル、桂皮酸
アリル、桂皮酸フェニル、桂皮酸ベンジル、桂皮酸シン
ナミル、p−クロロ桂皮酸メチル、p−クロロ桂皮酸ビ
ニル及びp−ブロモ桂皮酸ビニル等がある。
第5に、スチレン誘導体が挙げらる。
具体例としては、スチレン、p−クロロスチレン、p−
ブロモスチレン及びジビニルベンゼン等である。
第6に、ビニルエーテル又はビニルエステルが挙げられ
る。
具体例としては、メチルビニルエーテル、β−クロロエ
チルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、シクロヘ
キシルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、α−
ナフチルビニルエーテル、ヘンシルビニルエーテル、酢
酸ビニル、モノクロル酢酸ビニル、酪酸ビニル、クロト
ン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル及び
p−トルイル酸ビニル等がある。
本発明の一般式CI〕、一般式CIり及び一般式(I[
[)で表される化合物及び該化合物の重合体から選ばれ
る少なくとも1種の有機珪素化合物と炭素−炭素二重結
合を有する不飽和単量体から選ばれる少なくとも1種の
化合物の使用割合は任意に採用できるが、特に室温で固
体状を呈する高重合度乃至高架橋度の重合体を得るため
には一般式〔I〕、一般式(n)及び一般式Cl11)
で表される化合物及び該化合物の重合体から選ばれる少
なくとも1種の有機珪素化合物を1〜80重量%、炭素
−炭素二重結合を有する不飽和単量体から選ばれる少な
くとも1種の化合物を20〜99重量%の範囲で使用す
ることが好ましい。
更に、高重合度乃至高架橋度、高屈折率且つ低密度並び
に低吸水性で透明性に優れる共重合体を得るには、一般
式〔I〕、一般式(II)及び一般式(III)で表さ
れる化合物及び該化合物の重合体から選ばれる少なくと
も1種の有機珪素化合物を10〜70重量%、炭素−炭
素二重結合を有する不飽和単量体から選ばれる少なくと
も1種の化合物を30〜90重量%の範囲で使用するこ
とが好ましい。
ラジカル共重合反応は、ラジカル開始剤の存在下目的に
応じ塊状或いは有機又は水系媒体中での重合法を採用す
ることができる。
ラジカル共重合開始剤としては、ジイソプロピルパーオ
キシカーボネート、ジー2−エチルへキシルパーオキシ
カーボネート、過酸化ベンゾイル、L−ブチルパーオキ
シイソブチレート、ジーし一ブチルパーオキサイド及び
アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。
これらラジカル重合開始剤の使用量は、一般式〔■〕、
一般式(II)及び一般式CI[I)で表される化合物
及び該化合物の重合体から選ばれる少なくとも1種の有
機珪素化合物と炭素−炭素二重結合を有する不飽和単量
体から選ばれる少なくとも1種の化合物の合計量に対し
て0゜05〜5重量%、特に0.1〜4重量%の範囲が
好ましい。
ラジカル共重合反応は、−Gに40〜120°Cで5〜
30時間の範囲で行われる。
又、ラジカル共重合に際して紫外線吸収剤、酸化防止剤
、着色防止剤及び螢光増白剤等の添加剤を必要に応じ添
加することもできる。
(ホ)発明の効果 本発明の一般式〔■〕、一般式CI+)及び一般式(I
II)で表される化合物及び該化合物の重合体から選ば
れる少なくとも1種の有機珪素化合物と炭素−炭素二重
結合を有する不飽和単量体から選ばれる少なくとも1種
の化合物をラジカル共重合させて得られる共重合体は、
低密度、高屈折率且つ低吸水性で透明性、更には耐熱性
も優れている。
又、一般式〔同、一般式CI+)及び一般式CI[l)
で表される化合物及び該化合物の重合体から選ばれる少
なくとも1種の有機珪素化合物と炭素−炭素二重結合を
有する不飽和単量体から選ばれる少なくとも1種の化合
物の組合せを変化することにより、任意の屈折率の共重
合体を得ることができる。
特に、一般式〔I〕、一般式(n)及び一般式(III
)で表される化合物及び該化合物の重合体から選ばれる
少なくとも1種の有機珪素化合物、又は炭素−炭素二重
結合を有する不飽和it体から選ばれる少なくとも1種
の化合物の何れか一方の構造の1部が芳香族環或いは核
ハロゲン置換芳香族環を含む場合には、共重合体の屈折
率nzoDを1.55以上とすることが容易である。
更に、一般式〔I〕、一般式〔■〕及び一般弐CI)で
表される化合物及び該化合物の重合体から選ばれる少な
くとも1種の有機珪素化合物が芳香族環を含む場合には
、炭素−炭素二重結合を存する不飽和単量体から選ばれ
る少なくとも1種の化合物がハロゲン不合it体であっ
ても高屈折率化が達成され而も共重合体の密度が小さく
軽くなる。
(へ)実施例 次に、本発明について実施例を挙げて詳細に説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。
尚、得られた共重合体の諸物性の測定方法は次の通りで
ある。
(1)屈折率:アソベの屈折計を使用し23℃で測定し
た。接触液としてはモノブ ロムナフタレンを使用した。
(2)吸水率:JISK7209の方法によった。
但し、測定温度は23℃である。
(3)透過率:ヘーズメーターにより測定した。
(4)鉛筆硬度:JISK5400の方法によった。
実施例1 2枚のガラス板とシリコンゴム製ガスケットで構成され
た注型鋳型の中に、55°Cで良く混合しり1 、 l
 、 3 、3−テトラフェニル−1,3−ジビニルジ
シロキサン48重量部、桂皮酸ビニル52重量部及びジ
イソプロピルパーオキシカーボネート3.5重量部から
なる混合物を注入した。
次に、鋳型を加熱炉に入れ、60℃で3時間、80℃で
2時間、90℃で2時間更にl OO”Cで3時間加熱
しラジカル共重合を行い、放冷後鋳型より共重合体を取
出した。
生成した透明板状の共重合体の屈折率は02″。
1.602、透過率は88%、鉛筆硬度はHB。
吸水率はQ、12%(重量)、密度は1.15g/cf
fl(23℃)であった。
又、熱機械的分析法(ペネトレイション法)による軟化
温度は180℃以上で、耐熱性は良好であった。
尚、この共重合体の赤外線吸収スペクトル(KBr法)
を図1に示す。
実施例2〜7 有機珪素化合物及び炭素−炭素結合を有する不飽和i量
体の組み合わせを変化させた他は、実施例1と同様にラ
ジカル共重合を行い透明な共重合体を得た。結果を表1
に示す。
比較例1 ジエチレングリコールビスアリルヵーボ2−トのみを使
用し、実施例1と同様にして単独加熱重合を行い重合体
を得た。結果を表1に示す。
【図面の簡単な説明】
図1は、実施例1における共重合体の赤外線吸収スペク
トル(KBr法)である。縦軸は透過率(%)、横軸は
波数(cm −’ )を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)(a)一般式〔 I 〕又は一般式〔II〕で表される ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、Zはビニル基又はアリル基、R^1、R^2は
    メチル基、フェニル基、アリル基又はビニル基、nは1
    〜20の整数を示す。) ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、Zはビニル基又はアリル基、R^1はメチル基
    、フェニル基、アリル基又はビニル基、nは2〜10の
    整数を示す。) 珪素原子に結合したビニル基又はアリル基を有するポリ
    シロキサン化合物及び該重合体、(b)一般式〔III〕
    で表される ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 (式中、Zはビニル基又はアリル基、R^1、R^2は
    メチル基、フェニル基、アリル基又はビニル基、R^3
    は炭素数2〜6のアルキレン基又はフェニレン基を示す
    。) 珪素原子に結合したビニル基又はアリル基を有するポリ
    シルアルキレン化合物及びポリシルフェニレン化合物並
    びに該重合体の群から選ばれる少なくとも1種の有機珪
    素化合物と、 (c)炭素−炭素二重結合を有する不飽和単量体から選
    ばれる少なくとも1種の化合物 とをラジカル共重合させて得られる共重合体。 2)一般式〔 I 〕で表される珪素原子に結合したビニ
    ル基又はアリル基を有するポリシロキサン化合物の置換
    基R^1、R^2の少なくとも1つがフェニル基である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項の共重合体。 3)一般式〔II〕で表される珪素原子に結合したビニル
    基又はアリル基を有するポリシロキサン化合物の置換基
    R^1がフェニル基であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項の共重合体。 4)一般式〔III〕で表される珪素原子に結合したビニ
    ル基又はアリル基を有するポリシルアルキレン化合物又
    はポリシルフェニレン化合物の置換基R^1、R^2の
    少なくとも1つがフェニル基であることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項の共重合体。 5)炭素−炭素二重結合を有する不飽和単量体から選ば
    れる化合物の構造の1部が、芳香族環又は核ハロゲン置
    換芳香族環よりなることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項の共重合体。
JP26073485A 1985-11-20 1985-11-20 新規共重合体 Pending JPS62121714A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0314473A2 (en) * 1987-10-30 1989-05-03 THE GENERAL ELECTRIC COMPANY, p.l.c. method of writing data in an optical storage medium

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