JPS62119442A - パタ−ン検査装置 - Google Patents
パタ−ン検査装置Info
- Publication number
- JPS62119442A JPS62119442A JP26029985A JP26029985A JPS62119442A JP S62119442 A JPS62119442 A JP S62119442A JP 26029985 A JP26029985 A JP 26029985A JP 26029985 A JP26029985 A JP 26029985A JP S62119442 A JPS62119442 A JP S62119442A
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- JP
- Japan
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- pattern
- patterns
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- circuit
- feature extraction
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- Pending
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の概要〕
本発明はパターン検査装置に関し、プリント基板等のパ
ターン面を光学的に読み取り、パターン欠陥の特徴を抽
出し欠陥候補パターンとして記憶手段に記憶し、更に正
常な基準になるパターンと比較した出力によって欠陥パ
ターンを抽出するようにしてなるパターン検査装置を提
供するものである。
ターン面を光学的に読み取り、パターン欠陥の特徴を抽
出し欠陥候補パターンとして記憶手段に記憶し、更に正
常な基準になるパターンと比較した出力によって欠陥パ
ターンを抽出するようにしてなるパターン検査装置を提
供するものである。
本発明はパターン検査装置に係り、特にプリント基板の
パターンから欠陥部分を検出するためのパターン検出装
置に関する。
パターンから欠陥部分を検出するためのパターン検出装
置に関する。
近時、プリント基板のパターンは微細化、高密度化が進
み、人為的な目視によるパターン検査は累算に達し、自
動化が進められている。プリント基板に印刷された銅箔
部分のパターン欠陥を検出するためにはこれらパターン
を撮像し、２値化した後に特徴抽出マトリクスにパター
ンを入れて、その２値化状態から欠陥パターンを判定し
ていた。
み、人為的な目視によるパターン検査は累算に達し、自
動化が進められている。プリント基板に印刷された銅箔
部分のパターン欠陥を検出するためにはこれらパターン
を撮像し、２値化した後に特徴抽出マトリクスにパター
ンを入れて、その２値化状態から欠陥パターンを判定し
ていた。
プリント基板のパターンを自動的に検査する方法として
はシフトレジスタやゲート回路を組合せたハードウェア
で行う方法と、コンピュータプログラムを用いたソフト
ウェアで行う方法が考えられている。ハード的なパター
ン検査装置では回路や構成が複雑になるだけでなくフレ
キシビリティもなく、ソフトウェアのみの場合は高速処
理が難しい等の問題があった。
はシフトレジスタやゲート回路を組合せたハードウェア
で行う方法と、コンピュータプログラムを用いたソフト
ウェアで行う方法が考えられている。ハード的なパター
ン検査装置では回路や構成が複雑になるだけでなくフレ
キシビリティもなく、ソフトウェアのみの場合は高速処
理が難しい等の問題があった。
叙上の如きパターン欠陥の検査装置によると、その判定
方法が特徴抽出マトリクスパターン中の銅箔部分が“Ｏ
”か“１”かを判定する単純なものであるために正常パ
ターンの内の特異なパターン部分を欠陥と誤って判断す
る傾向が強くなる。
方法が特徴抽出マトリクスパターン中の銅箔部分が“Ｏ
”か“１”かを判定する単純なものであるために正常パ
ターンの内の特異なパターン部分を欠陥と誤って判断す
る傾向が強くなる。
この誤率を少なくするためには判定基準を複雑化しなけ
ればならないために複雑な判定回路を必要とし、装置が
高価になる等の欠点を有していた。
ればならないために複雑な判定回路を必要とし、装置が
高価になる等の欠点を有していた。
本発明は上記欠点に鑑みなされたものであり、その目的
とするところは、比較的簡単な判定回路で短時間にプリ
ント基板のパターン欠陥を検出せんとするもので、その
手段は被検査試料のパターン面を光学的に撮像して電位
信号に変換してパターン検査を行う装置において、 （ａ） パターン幾何学的特徴をとらえ、正常パター
ン中の特異パターンと欠陥パターンを含む欠陥候補パタ
ーンを抽出する特徴抽出手段と、（ｂｌ 上記特徴抽
出手段からの信号を受け、上記欠陥候補パターンを記憶
する記憶手段と、（Ｃ）上記記憶手段のパターンから上
記正常パターン中の特異パターンを残して欠陥パターン
のみを抽出する詳細パターン検査手段とからなることを
特徴とするパターン検査装置、 によって達成される。
とするところは、比較的簡単な判定回路で短時間にプリ
ント基板のパターン欠陥を検出せんとするもので、その
手段は被検査試料のパターン面を光学的に撮像して電位
信号に変換してパターン検査を行う装置において、 （ａ） パターン幾何学的特徴をとらえ、正常パター
ン中の特異パターンと欠陥パターンを含む欠陥候補パタ
ーンを抽出する特徴抽出手段と、（ｂｌ 上記特徴抽
出手段からの信号を受け、上記欠陥候補パターンを記憶
する記憶手段と、（Ｃ）上記記憶手段のパターンから上
記正常パターン中の特異パターンを残して欠陥パターン
のみを抽出する詳細パターン検査手段とからなることを
特徴とするパターン検査装置、 によって達成される。
本発明のプリント基板のパターン検査装置はこのパター
ンをラインセンサ等の撮像手段で撮像して、特徴抽出マ
トリクス手段を構成するシフトレジスタに入れて、特異
パターンと欠陥パターンを含む欠陥候補パターンを検出
してこの欠陥候補パターンを予め記憶回路に記憶させて
置いた特異パターンと比較して上記欠陥候補パターンの
中から特異パターンを正常パターンと判定し、欠陥パタ
ーンだけを抽出するように二段検査構成をとったパター
ン検査装置を得るにある。
ンをラインセンサ等の撮像手段で撮像して、特徴抽出マ
トリクス手段を構成するシフトレジスタに入れて、特異
パターンと欠陥パターンを含む欠陥候補パターンを検出
してこの欠陥候補パターンを予め記憶回路に記憶させて
置いた特異パターンと比較して上記欠陥候補パターンの
中から特異パターンを正常パターンと判定し、欠陥パタ
ーンだけを抽出するように二段検査構成をとったパター
ン検査装置を得るにある。
以下、本発明の一実施例を第１図乃至第４図について詳
記する。
記する。
第１図は本発明のパターン検査装置の全体的な系統図、
第２図は第１図中の特徴抽出マトリクス回路の詳細を示
す系統図、第３図はプリント基板中のパターンを検出す
るための検出方法を示すパターンの一部拡大平面図、第
４図は記憶手段を含む本発明の比較手段の系統図である
。
第２図は第１図中の特徴抽出マトリクス回路の詳細を示
す系統図、第３図はプリント基板中のパターンを検出す
るための検出方法を示すパターンの一部拡大平面図、第
４図は記憶手段を含む本発明の比較手段の系統図である
。
第１図において、１は被検査試料１ａであるプリント基
板パターンをラインセンサの如き撮像手段１ｂで撮像す
るためのパターン検知光学系であり、該パターン検知光
学系１の撮像手段１ｂから取り出されたアナログパター
ン情報１ｄは２値化回路２に加えて２値化される。２値
化回路２でディジタル化されたデータは特徴抽出マトリ
クス回路３に加えられる。該特徴抽出マトリクス回路は
後述するも被検査試料パターン中の被検査部分をウィン
ド内に切りとり、その中のパターンに含まれる正常パタ
ーンに対応する特異パターンと欠陥パターンとからなる
欠陥候補パターンを抽出するものである。
板パターンをラインセンサの如き撮像手段１ｂで撮像す
るためのパターン検知光学系であり、該パターン検知光
学系１の撮像手段１ｂから取り出されたアナログパター
ン情報１ｄは２値化回路２に加えて２値化される。２値
化回路２でディジタル化されたデータは特徴抽出マトリ
クス回路３に加えられる。該特徴抽出マトリクス回路は
後述するも被検査試料パターン中の被検査部分をウィン
ド内に切りとり、その中のパターンに含まれる正常パタ
ーンに対応する特異パターンと欠陥パターンとからなる
欠陥候補パターンを抽出するものである。
該特徴抽出マトリクス回路３である特徴抽出手段の出力
データは記憶手段を構成する記憶回路９に記憶され、こ
の記憶されたデータは詳細パターン検査手段１０に加え
られてパターンの精密な検出を行って欠陥パターンのみ
を取り出すようになされる。
データは記憶手段を構成する記憶回路９に記憶され、こ
の記憶されたデータは詳細パターン検査手段１０に加え
られてパターンの精密な検出を行って欠陥パターンのみ
を取り出すようになされる。
第１図に示した特徴抽出マトリクス回路３の詳細を第２
図で説明すると、２値化回路２でディジタル化されたデ
ィジタルパターンデータはマトリクス構成されたシフト
レジスタ４に入力される。
図で説明すると、２値化回路２でディジタル化されたデ
ィジタルパターンデータはマトリクス構成されたシフト
レジスタ４に入力される。
該シフトレジスタの１目盛はメモリの１画素に対応して
いる。マトリクスフィルタを構成しているシフトレジス
タ４上では該シフトレジスタ４の中心０を中心に放射状
のレジスタ４ ａ、 ４ ｂ、４ Ｃ。
いる。マトリクスフィルタを構成しているシフトレジス
タ４上では該シフトレジスタ４の中心０を中心に放射状
のレジスタ４ ａ、 ４ ｂ、４ Ｃ。
４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｈから８方向のデータを取
り出す。上記４ａ、４ｂは０°方向のデータ、４ｃ、４
ｄは４５°方向のデータ、４ｅ、４ｆは９０°方向のデ
ータ、４ｇ、４ｈは１３５°方向のデータであり、これ
らの各々をプライオリティエンコーダ５に入力する。第
２図には０°方向の４ａ、４ｂのデータのみプライオリ
ティエンコーダ５に入力した例が示されている。
り出す。上記４ａ、４ｂは０°方向のデータ、４ｃ、４
ｄは４５°方向のデータ、４ｅ、４ｆは９０°方向のデ
ータ、４ｇ、４ｈは１３５°方向のデータであり、これ
らの各々をプライオリティエンコーダ５に入力する。第
２図には０°方向の４ａ、４ｂのデータのみプライオリ
ティエンコーダ５に入力した例が示されている。
該プライオリティエンコーダ５はパターンが連続する部
分を検出するためのエンコーダであり、エンコードされ
４ａ’、４ｂ’のデータが加算回路６で加算されてＯ°
方向のパターンデータ成分として連続したパターン長さ
が求まる。第２図には４５°、 ９０”、 １３５°
方向の４ｃ、４ｄ・４ｅ。
分を検出するためのエンコーダであり、エンコードされ
４ａ’、４ｂ’のデータが加算回路６で加算されてＯ°
方向のパターンデータ成分として連続したパターン長さ
が求まる。第２図には４５°、 ９０”、 １３５°
方向の４ｃ、４ｄ・４ｅ。
４ｆ・４ｇ、４ｈの各々３組のデータをプライオリティ
エンコーダに入れて加算する構成は示していないが３方
向のパターンの連続するデータをＯｏの場合と同じよう
に求める。このように求めた４方向の長さを最小値選択
回路７に加えて、これら各方向の長さを比べて最小値を
選び出し、この値をパターン幅とする。このように求め
た最小値を比較回路８に加える。該比較回路には基準と
なる許容上限値８Ｕと許容下限値８Ｄが入力されている
ので、この許容値８Ｕ、８Ｄと上記最小値が比較されて
正常パターンは除外されて欠陥パターンが検出される。
エンコーダに入れて加算する構成は示していないが３方
向のパターンの連続するデータをＯｏの場合と同じよう
に求める。このように求めた４方向の長さを最小値選択
回路７に加えて、これら各方向の長さを比べて最小値を
選び出し、この値をパターン幅とする。このように求め
た最小値を比較回路８に加える。該比較回路には基準と
なる許容上限値８Ｕと許容下限値８Ｄが入力されている
ので、この許容値８Ｕ、８Ｄと上記最小値が比較されて
正常パターンは除外されて欠陥パターンが検出される。
すなわち上記したパターン検出装置によれば第３図に示
すプリント基板のパターン中で銅箔部分が太（なってい
るａ部分および細くなっているｂ部分の太り欠陥と細り
欠陥は簡単な回路で高速に検出可能である。然し、この
方法では第３図のパターン中の銅箔が曲がっている部分
Ｃを検出するときには太り欠陥と判定してしまう。この
ように通常は正常パターンであるにも係わらず、これを
欠陥と見做してしまうこのような部分を本願では正常パ
ターンを含む特異パターンと定義し、この特異パターン
（Ｃ部分）ならびに欠陥パターン（ａ、ｂ部分）を含め
て本発明では欠陥候補パターンと定義する。このような
特徴抽出マトリクス回路３で得られた欠陥候補パターン
信号８ｄを第４図に示す記憶回路９にメモリする。第４
図は第１図に示す詳細パターン検査回路１０の詳細であ
り、第２の記憶回路１１には被検査試料の検査に先立っ
て欠陥のない試料パターンを撮像して特徴抽出マトリク
ス回路３によって抽出された特異パターンとして記憶さ
せておく。ここで実際の被検査試料の検査を行って欠陥
候補パターンを記憶した記憶回路９と特異パターンを記
憶した第２の記憶回路のパターン内容を比較照合回路１
２で比較し、この比較において、一致しないパターンを
欠陥パターンとすれば正常パターン（第３図Ｃ部分）の
曲がり部分等は正常パターンと判断され、第３図ａ、ｂ
で示すような欠陥パターンだけが検出される。
すプリント基板のパターン中で銅箔部分が太（なってい
るａ部分および細くなっているｂ部分の太り欠陥と細り
欠陥は簡単な回路で高速に検出可能である。然し、この
方法では第３図のパターン中の銅箔が曲がっている部分
Ｃを検出するときには太り欠陥と判定してしまう。この
ように通常は正常パターンであるにも係わらず、これを
欠陥と見做してしまうこのような部分を本願では正常パ
ターンを含む特異パターンと定義し、この特異パターン
（Ｃ部分）ならびに欠陥パターン（ａ、ｂ部分）を含め
て本発明では欠陥候補パターンと定義する。このような
特徴抽出マトリクス回路３で得られた欠陥候補パターン
信号８ｄを第４図に示す記憶回路９にメモリする。第４
図は第１図に示す詳細パターン検査回路１０の詳細であ
り、第２の記憶回路１１には被検査試料の検査に先立っ
て欠陥のない試料パターンを撮像して特徴抽出マトリク
ス回路３によって抽出された特異パターンとして記憶さ
せておく。ここで実際の被検査試料の検査を行って欠陥
候補パターンを記憶した記憶回路９と特異パターンを記
憶した第２の記憶回路のパターン内容を比較照合回路１
２で比較し、この比較において、一致しないパターンを
欠陥パターンとすれば正常パターン（第３図Ｃ部分）の
曲がり部分等は正常パターンと判断され、第３図ａ、ｂ
で示すような欠陥パターンだけが検出される。
この構成であれば、特異パターンはプリント基板内に僅
かしか含まれていないので、この部分を精度よく検査し
ても高速性を損なうようなことはなく、正確なパターン
検出を行うことができる。
かしか含まれていないので、この部分を精度よく検査し
ても高速性を損なうようなことはなく、正確なパターン
検出を行うことができる。
然も第２の記憶回路に登録するパターンを変更すること
でパターン形状の異なったプリント基板の検査が可能と
なる。
でパターン形状の異なったプリント基板の検査が可能と
なる。
本発明は叙上の如く構成し、かつ動作させたので、簡単
な構造で従来欠陥と判断した特異パターンを欠陥とさせ
ずに真の欠陥パターンのみを正確に抽出することができ
る特徴を有する。更に高速検出も可能でありパターン形
状の異なる被検査試料にも対応できる効果を有する。
な構造で従来欠陥と判断した特異パターンを欠陥とさせ
ずに真の欠陥パターンのみを正確に抽出することができ
る特徴を有する。更に高速検出も可能でありパターン形
状の異なる被検査試料にも対応できる効果を有する。
第１図は本発明のパターン検査装置の全体的な系統図、
第２図は第１図の特徴抽出マトリクス回路の詳細図、
第３図はプリント基板上の一部拡大パターンを示すもの
で特異パターンと欠陥パターンを説明するための平面図
、 第４図ｔよ第１図に示す詳細パターン検査回路の詳細を
示す系統図である。 １・・・パターン検知光学系、 ２・・・２値化回路、 ３・・・特徴抽出マトリクス回路、 ４・・・シフトレジスタ、 ５・・・プライオリティエンコーダ、 ６・・・加算回路、 ７・・・最小値選択回路、 ８・・・比較回路、 ９・・・記憶回路、 １０・・・詳細パターン検査回路、 １１・・・第２の記憶回路、 １２・・・比較回路。 第３図 第４図
で特異パターンと欠陥パターンを説明するための平面図
、 第４図ｔよ第１図に示す詳細パターン検査回路の詳細を
示す系統図である。 １・・・パターン検知光学系、 ２・・・２値化回路、 ３・・・特徴抽出マトリクス回路、 ４・・・シフトレジスタ、 ５・・・プライオリティエンコーダ、 ６・・・加算回路、 ７・・・最小値選択回路、 ８・・・比較回路、 ９・・・記憶回路、 １０・・・詳細パターン検査回路、 １１・・・第２の記憶回路、 １２・・・比較回路。 第３図 第４図
Claims (2)
- （１）被検査試料のパターン面を光学的に撮像して電位
信号に変換してパターン検査を行う装置において、 （ａ）パターンの幾何学的特徴をとらえ、正常パターン
中の特異パターンと欠陥パターンを含む欠陥候補パター
ンを抽出する特徴抽出手段と、 （ｂ）上記特徴抽出手段からの信号を受け、上記欠陥候
補パターンを記憶する記憶手段と、 （ｃ）上記記憶手段のパターンから上記正常パターン中
の特異パターンを残して欠陥パターンのみを抽出する詳
細パターン検査手段とからなることを特徴とするパター
ン検査装置。 - （２）前記詳細パターン検査手段には前記被検査試料パ
ターン中の特異パターンを記憶した第２の記憶手段を有
し、前記記憶手段出力と第２の記憶手段出力を比較して
欠陥パターンのみを抽出してなることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26029985A JPS62119442A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | パタ−ン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26029985A JPS62119442A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | パタ−ン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62119442A true JPS62119442A (ja) | 1987-05-30 |
Family
ID=17346111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26029985A Pending JPS62119442A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | パタ−ン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62119442A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0385742A (ja) * | 1989-08-30 | 1991-04-10 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法及びその装置 |
| JPH0694635A (ja) * | 1992-09-08 | 1994-04-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン検査装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58132648A (ja) * | 1982-02-03 | 1983-08-08 | Nippon Abionikusu Kk | 印刷配線板の自動検査方法およびその装置 |
| JPS5974627A (ja) * | 1982-10-20 | 1984-04-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | フオトマスクの検査方法及び装置 |
-
1985
- 1985-11-20 JP JP26029985A patent/JPS62119442A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58132648A (ja) * | 1982-02-03 | 1983-08-08 | Nippon Abionikusu Kk | 印刷配線板の自動検査方法およびその装置 |
| JPS5974627A (ja) * | 1982-10-20 | 1984-04-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | フオトマスクの検査方法及び装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0385742A (ja) * | 1989-08-30 | 1991-04-10 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法及びその装置 |
| JPH0694635A (ja) * | 1992-09-08 | 1994-04-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン検査装置 |
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