JPS6211106A - 干渉法膜厚測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）発明の目的 ［産業上の利用分野］ この発明は干渉法を利用した薄膜の膜厚を測定、するた
めの膜厚測定装置に関するものである。

［従来の技術］ レンズ等の表面にコーティングした薄膜を測定する場合
に、従来は、例えば第６図に示すような、触針を使用し
た膜厚測定装置を使用し、第６図ａに示すようなダイヤ
モンド触針２１とスキッド２２の先端を、第６図すに示
すようなガラス面２３に接触させ、これを移動して膜２
４上を横断させ、変化を電気的に増幅して検出するもの
であり、例えば試料上の膜直径を１゜とすると第６図Ｃ
のように測定結果を得るものである。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、このような機械電気的方法は必ずしも高
精度の測定が容易ではなく、また、ガラス面２３と膜２
４との間に段差がとれないような場合、すなわち、ガラ
ス面の全面に膜２４が形成されているような場合には、
上記の測定手段では、膜厚の測定が不可能であり、この
様なことから薄膜の膜厚測定技術の開発が望まれている
。

この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたものであっ
て、薄膜の膜厚の測定を高精度にかつ非接触で容易に測
定することができる膜厚測定装置を提供することを目的
とするものである。

（ロ）発明の構成 ［問題を解決するための手段］ この目的に対応して、この発明の干渉法膜厚測定装置は
、被測定体である膜体にレーザ光を照明し得るレーザ光
源と前記被測定体の表面で反射した光と前記被測定体を
透過した光を干渉させて干渉縞を形成する干渉Ｍ１と、
前記干渉縞の強度を測定する光強度測定装置と及び前記
被測定体への前記レーザ光の入射角を変化させる回転装
置とを備えることを特徴としている。

以下、この発明の詳細を一実施例について説明する。

第１図において、１は膜厚測定装置である。膜厚測定装
＠１はレーザ光源２、ミラー３、ミラー４、ピンホール
５、レンズ６、フォトディテクター７、増幅器８及び処
理袋＠１１を備えており、ピンホール５とレンズ６との
間に被測定１１１１０を配置するように構成されている
。被測定膜１０はレンズやガラス板等の反射内１２をも
つ基板１３の上に密着して形成されるものである。被測
定膜１０及び基板１３は一体として回転装置１４によっ
てレーザビームの光軸に垂直な回転軸に関して回転変位
可能である。

［作用］ レーザ光源２からのレーザ光はミラー３．４で光路変更
されたのち、ピンホール５を通過して被測定Ｈ１０を照
明する。被測定膜１０を照明したレーザ光は、第２図に
示すように、一部分が被測定ｌ１１１０の表面で反射し
く反射光ＩＡ）、残部分は被測定ｌ１１１０を透過して
被測定膜１０の裏面に達し、被測定ＩＩ！２１０の裏面
若しくは基板１３の反射内１２で反射する（反射光１．
）。このように、被測定膜１０を照明したレージ“光の
反射光■ヶの光路長と反射光Ｉ８の光路長との間には差
があり、この光路長の差ｄは ｄ　＝ＡＢ＋ＢＣ−ＡＤ である。

光路長に差がある反射光Ｉ　と反射光ＩＢは干渉し、レ
ンズ６の焦点位置で干渉縞を生じる。このレンズ６の焦
点位置にはフォトディテクター７が位置し、フォトディ
テクター７が干渉光を検出して光電変換し、干渉光の強
度に応じた電圧を発生する。この電圧を増幅器８で増幅
し、処理装置１１に入力して干渉光の強度を検出する。

この干渉光の強度はレーザ光の被測定膜１０への入射角
度の変化に応じて変化するから、回転装置１４によって
被測定膜１０を回転させてレーザ光の被測定膜１０への
入射角度を変えながら干渉光の強度を測定し、干渉光の
強度の変化の極値が生ずる回転角を求め、この極値を生
ずる回転角を任意の演算機（図示せず）に入力して被測
定ＰＩＡ１０の厚みを求める。

入射角θ１における入射光と入射角θ２おける入射光と
は波長が同じものでもよいし、波長が異なるものでもよ
い。

次に被測定膜１０の膜厚を求める原理について説明する
。

まず、入射角θ１における入射光と入射角θ２における
入射光との波長が共にλである場合は次の通りである。

第２図のような屈折率ｎ、厚さｈの被測定膜１０にレー
ザ光が角度θで入射した場合を考える。

被測定膜１０の表面からの反射光をＩＡ、裏面からの反
射光を■　とするとＩ、、ＩＢの光路差ｄは ＡＢＣ−ＡＤ＝ｄ　　　　　　　（１）とすると ｄ＝２ｈ八７へｉｎ’！？　　　　（２）で表わされる
。

この場合の干渉光の強度は １＝Ａ＋Ｂｃｏｓ　　（・（２π／λ）ｄ）１＝Ａ＋Ｂ
ＣＯ８ Ｘ　（（４７ｃ／λ）ｈム丁丁卵了７）・・・（３） で表わされる。

入射角度θ　の場合の光路差をｄ　、角度θ２の場合の
光路差をｄ２とすると干渉縞の強度がＷａＸ及びｌ１ｌ
ｉｎになる位置は ｄｌ−ｄ２＝　（１／２）ＩＩＩλ　（１ま整数）・・
・（４） ＝　（１／２）ａλ　　　　　　　（５）−５η））　
　　（６） で表わすことができる。

よって被測定膜の屈折率ｎ及び入射光の波長λが与えら
れており、かつ（３）式で与えられる干渉光の強度の変
化の極値から入射角θがわかれば被測定ＷＡ１０の厚さ
ｈを求めることができる。

次に入射角θ１における入射光の波長がλ１、入射角θ
２における入射光の波長がλ２の場合は次の通りである
。

波長λ１、角度θ１、波長λ２、角度θ２における位相
は （４π／λ　）ｈ　に”−コｎ’ａ−ｌπ（４π／λ　
）ｈ　１石璽 ＝（ｍ＋１）π　　　　　　　　　　　　　　　（８）
と表わされる。これにより膜厚りは よって被測定膜の屈折率及び入射光の波長λ１、λ２が
与えられており、かつ（３）式で与えられる干渉光の強
度の変化の極値から入射角θ１、θ２がわかれば、被測
定膜１０の厚さｈを求めることができる。

［実際の求め方］ Ａ、入射角θ１における入射光と入射角θ２における入
射光の波長が同じ場合 今、（３）式において、 波長　　λ−０，４８８０ｎｍ 屈折率　ｎ−１，３８ 厚さ　　ｈ１＝１．３μ、　　ｈ２＝０．６５μＡ＝１
．Ｂ＝１ とした場合、入射角度θを０°〜９０°に変化させた時
の強度（Ｉ　ｎｔｅｎｓｉｔｙ）の変化をプロットして
いき、第３図を作成した。

この第３図のグラフよりｍａｘ　、　ｌ１ｌｉｎを読取
り、（６）式より厚さｈを求める。

１）グラフ−１については λ＝０．４８８０ｎｍ１ｎ　＝１．３８となり、厚ざｈ
１＝１．３μとよく一致していることがわかる。

２）グラフ−２については λ＝０．４８８０ｎｍ、ｎ　＝１．３８となり、厚さｈ
２＝０．６５μとよく一致していることがわかる。

Ｂ、入射角θ　における入射光の波長がλ１入射角θ２
における入射光の波長がλ２の場合今、（３）式におい
て、 波長　　λ１＝０．４８８０ｎｌ λ２　＝０．５１４５ηｍ 屈折率　ｎ＝１．３８ 厚さ　　ｈ　＝１．３μ Ａ＝１．８−１ とした場合、入射角度θをＯ°〜９０”に変化させた時
の強度＜　Ｉ　ｎｔｅｎｓｉｔＶ）の変化をプロットし
ていき、第５図を作成した。第５図におけるグラフ１は
λ１　＝０．４８８０ｎｍ、グラフ３はλ２　＝０．５
１４５ηｍの場合を表わしている。

この第５図のグラフよりｍａｘ　、　ｓｉｎを読取り、
（９）式より厚さｈを求める。

この両グラフよりｎ＋ａｘ　、　ｎ＋ｉｎを読み取って
ｈを求めてみると となり、厚さ１．３μとよく一致していることがわかる
。この場合にはＡ、の単一波長を用いる場合に比較して
、小さい角度変化で干渉縞強度の＋ｎａｘ及びｍｉｎを
求めることかできるので、精度が向上する。

［実験例］ 試料としては第４図に示すように、ガラス基板１８上に
クロム（Ｃｒ）１７をコートして反射面１２を持つ基板
１３を構成し、その反射面１２の上にフッ化マグネシウ
ム（ＭＱＦ２）をコートして被測定膜１０とした。

Ａｒイオンレーザを用いて第４図に示す構成の被測定膜
の厚さを測定したところ の値が得られた。同じ試料を触針の膜厚測定装置で測定
したところ厚さ１．２５μの値が得られた。

両方法はよく一致していることがわかる。

（ハ）発明の効果 このように、この発明の干渉を利用した膜厚測定装置に
よれば、薄膜の膜厚の測定を高精度にかつ非接触で容易
に測定することができる。しかも基板と被測定膜との間
に段差がとれないような場合でも膜厚の測定が可能であ
る、。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例に係わる膜厚測定装置を示
す構成説明図、第２図は被測定膜における光路を示す拡
大説明図、第３図は干渉光の強度と被測定膜への光の入
射角度との関係を示すグラフ、第４図は試料の構成を示
す縦断面説明図、第５図は他の干渉光の強度と被測定膜
への光の入射角度の関係を示すグラフ、及び第６図は触
針式膜厚測定装置を示す説明図である。 １・・・膜厚測定装置　　２・・・レーザ光源　　３・
・・ミラー　　４・・・ミラー　　５・・・ピンホール
　６・・・レンズ　　７・・・フォトディテクター　　
８・・・増幅器１０・・・被測定膜　　１１・・・処即
装置　　１２・・・反射面　　１３・・・基板　　１４
・・・回転装置復代理人、代理人、弁叩士　　　川　井
　治　男第６図 （ｂ） （Ｃ） 特許庁長官　宇　賀　道　部　殿 １．事件の表示 昭和６０年　特許願　第０４０４６７号２、発明の名称 干渉法膜厚測定装置 ３、補正をする者 氏名　　（１１４）工業技術院長　　等　々　力　達住
所　　　東京都板橋区志村２丁目２０番９号氏名　　　
ユニオン光学株式会社 代表者　柳川　邦画 ４、指定代理人 住所　　　茨城県新治郡桜村並木１丁目２番地氏名　　
（００３０）工業技術院機械技術研究所良清水嘉瓜部 ５、復代理人　（工業技術院長の復代理人）住所　　　
〒１０１東京都千代田区岩本町二丁目８番１０号６、代
理人　　（ユニオン光学株式会社の代理人）７、補正命
令の日付　　　自　発 ８、補正の対象 明細出の発明の詳細な説明の欄 ９、補正の内容　　　　別紙の通り １０、添付書類の目録　　別　紙 別紙 １．明ｍ書の発明の詳細な説明の欄の補正明細書第７頁
から第１２頁を次の通り訂正する。 ［の場合の光路差を６２とすると干渉縞の強度がＷａＸ
及び１ｎになる位置は ｄｌ−ｄ２＝　（１／２）ｌλ　（ｍは整数）・・・（
４） ＝　（１／２）ｍλ　　　　　　　　　　・・・（５）
で表わすことができる。 よって被測定膜の屈折率ｎ及び入射光の波長λが与えら
れており、かつ（３）式で与えられる干渉光の強度の変
化の極値から入射角θがわか机ば被測定膜１０の厚さｈ
を求めることができる。 次に入射角θ　における入射光の波長がλ１、入射角θ
　における入射光の波長がλ２の場合は次の通りである
。 波長λ　、角度θ　、波長λ　、角度θ２における位相
は （４π／λ１　）　ｈ　７　＝ｍ　ｙｒ・・・（７） （４π／λ２）ｈ５］７可 −（ｎ＋＋１）π　　　　　　　　　　・・・（８）・
・・（９） よって被測定膜の屈折率及び入射光の波長λ１、λ２が
与えられており、かつ（３）式で与えられる干渉光の強
度の変化の極値から入射角θ４、θ２がわかれば、被測
定膜１０の厚さｈを求めることができる。 ［実際の求め方］ Ａ、入射角θ１における入射光と入射角θ２における入
射光の波長が同じ場合 今、（３）式において、 波長　　λ＝０．４８８０μｍ 屈折率　ｎ＝１．３８ 厚さ　ｈ１＝Ｌ　３ｕ１１１２＝０．６５１１１Ａ＝１
．’Ｂ＝１ とした場合、入射角度θをＯ°〜９０°に変化させた時
の強度（Ｉ　ｎｔｅｎｓｉｔｙ）の変化をプロットして
いき、第３図を作成した。 この第３図のグラフよりｍａｘ　、　ｍｉｎを読取り、
（６）式より厚さｈを求める。 １）グラフ−１については となり、厚さｈ１＝１．３μｍとよく一致していること
かわかる。 ２）グラフ−２については となり、厚さｈ２＝０．６５μｍとよく一致しているこ
とがわかる。 Ｂ、入射角θ　における入射光の波長がλ１入射角θ　
における入射光の波長がλ２の場合今、（３）式におい
て、 波長　　λ１＝０．４８８０μｍ λ２　＝０．５１４５μｍ 屈折率　ｎ＝１．３８ 厚さ　　ｈ＝１．３μｍ Ａ＝１．８＝１ とした場合、入射角度θを０°〜９０’に変化させた時
の強度（ｌ　ｎｔｅｎｓｉｔｙ）の変化をプロットして
いき、第５図を作成した。第５図におけるグラフ１はλ
１＝０．４８８０μｍ　、グラフ３はλ２−０．５１４
５μｍの場合を表わしている。 この第５図のグラフよりｍａｘ　、　ｍｉｎを読取り、
（９）式より厚さｈを求める。 この両グラフよりｍａｘ　、　ｍｉｎを読み取ってｈを
求めてみると となり、厚さ１．３μｍとよく一致していることがわか
る。この場合にはＡ、の単一波長を用いる場合に比較し
て、小さい角度変化で干渉縞強度の　ｍａｘ及びｍｉｎ
を求めることができるので、精度が向上する。 ［実験例］ 試料としては第４図に示すように、ガラス基板１８上に
クロム（Ｃｒ）１７をコートして反射面１２を持つ基板
１３を構成し、その反射面１２の上にフッ化マグネシウ
ム（ＭｇＦ２）をコートして被測定膜１０とした。 Δｒイオンレーザを用いて第４図に示す構成の被測定膜
の厚さを測定したところ の偵が得られた。同じ試料を触針の膜厚測定装置で測定
したところ厚さ１．２５μｍの値が得られた。両方法は
よく一致していることがわかる。 （ハ）発明の効果 このように、この発明の干渉を利用した膜厚測定装置に
よれば、薄膜の膜厚の測定を高精度にかつ非接触で容易
に測定することができる。しかも基板と被測定膜との間
に段差がとれないような場合でも膜厚の測定が可能であ
る。 ４、図面の簡単な説明 第１図はこの発明の一実施例に係わる膜厚測定装置を示
す構成説明図、第２図は被測定膜における光路を示す拡
大説明図、第３図は干渉光の強度と被測定膜への光の入
射角度との関係を示すグラフ、第４図は試料の構成を示
す縦断面説明図、第５図は伯の干渉光の強度と被測定膜
への光の入射」手続補正書 １、事件の表示 昭和６０年　特許願　第０４０４６７号２、発明の名称 干渉法ＰＩＡ厚測定装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　　　東京都千代田区霞が関１丁目３番１号氏名　
　（１１４）工業技術院長　　等　々　力　達氏名　　
（００３０）工業技術院機械技術研究所長清水原重部 （２）図面 ９．補正の内容　　別紙の通り １０、添付書類の目録 （１）別紙　　　゛ （２）図面（第７図、第８図、第９図、第１０図）別紙 １、明細書の発明の詳細な説明の欄及び図面の簡単な説
明の欄の補正 明ｌｌＩ書第１２頁から第１３頁を次の通り訂正づる。 。 ［ の値が１９られた。同じ試料を触釦の膜厚測定装置で測
定したところ厚さ１．２５μｍの値が得られた。両方法
はよく一致していることがわかる。 （ニ）他の実施例 次にこの発明の他の実施例について説明する。 この第２の実施例ではレーザ光源からの光が被測定膜１
０で２回反射することが１回反射する第一の実施例と異
なっている。すなわら、第７図において、１ａは膜厚測
定装置である。膜厚測定装置１ａはレーザ光源２、ミラ
ー３、ミラー４、ピンホール５、ビームスプリッタ１５
、ミラー１６を備え、かつビームスプリッタ１５の反射
側にレンズ６、フォトディテクター７、増幅器８及び処
理装ｆＩ？ｆｉｌを備えており、ピンホール５とミラー
１６との間に被測定膜１０を配置するように構成されて
いる。被測定膜１０はレンズやガラス板等の反射面１２
をもつ基板１３の上に密着して形成されるものである。 被測定膜１０及び基板１３は一体として回転装置１４に
よってレーザビームの光軸に垂直な回転軸に関して回転
変位可能である。 被測定膜１０をθ回転した場合、ミラー１６は２θ移動
するようになっており、被測定膜１０からの反射光を常
にもとの方向に確実に戻す。 ［作用］ レーザ光源２からのレーザ光はミラー３．４で光路変更
されたのら、ピンホール５を通過して被測定膜１０を照
明する。被測定膜１０を照明したレーリ“光は、第８図
に示すように、一部分が被測定膜１０の表面で反射しく
反射光ＩＡ）、残部分は被測定膜１０を透過して被測定
膜１０の裏面に達し、被測定膜１０の裏面若しくは基板
１３０反射面１２で反射する（反射光１８）。反射光■
４゜■８は更にミラー１６で反射され、再び被測定膜１
０で反射されてビームスプリッタ１５に達し、ビームス
プリッタ１５でレンズＧ側に反射される。 まず、入射角θ１における入射光と入射角θ２における
入射光との波長が共にλである場合は次の通りである。 第８図のような屈折率０、厚さｈの被測定膜１０にレー
ザ光が角度θで入射した場合を考える。 被測定膜１０の表面の反射率をｒ　１　、裏面の反射率
をｒ２　　（ｒｉ　＜ｒ２と）とする。被測定膜１０の
表面での反射光ＪＧＡＤＦをＩＡ、被測定膜１０の裏面
での反射光ＪＧＡＢＣＥ（！−１８とする。 今、各々の光がミラー１６′Ｃ−反射された場合を考え
ると、強度ＩＡのミラー１６での反射光ＦＤＡＧは強度
Ｉ８のミラー１６での反射光ＥＣＢＡＧに比較して非常
に弱いので、ここでは■８のミラー１６での反射光につ
いて考えればよ■　“とすると１’、ＩＢ’の光路差ｄ
はＢ　　　　　　　　　　　Ｂ ＣＢＡ−ＣＤ＝ｄ　　　　　　　　　　　　　・　（１
ａ）とすると ｄ＝　２　ｈ　ｎ　　　　−＝　（２ａ　）で表わされ
る。 この場合の干渉光の強度は １＝Ａ＋Ｂｃｏｓ ×（（４π／λ）ｈＦｒ＝可） ・・・（３ａ） で表わされる。 この場合、Ｉ’、ＩＢ“の干渉ではミラー１６により反
射され、再度、被測定膜１０で繰返し反射されているの
で、Ｉ、、ＩＢの干渉の場合に比較してビジビリティ（
Ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）の良い干渉が得られる。 入射角度θ１の場合の光路差をｄｌ、角度θ２の場合の
光路差をｄ２とすると ｄｌ−６２＝ｍλ　（ｍは干渉縞の次数）従って ＝ｍλ　　　　　　　　　　　　　　・・・（５−ａ）
厚さｈは で表わすことができる。 次に入射角θ　における入射光の波長がλ１、入射角θ
　における入射光の波Ｑがλ２の場合は次の通りである
。 波長λ１、角度θ１、波長λ２、角度θ２における位相
は ＝（ｍ＋１）π　　　　　　　　　　　・・・（８ａ）
で表わすことができる。 ［実際の求め方］ Ａ、入射角θ１における入射光と入射角θ２における入
射光の波長が同じ場合 今、（３ａ）式において、 波長　　λ＝０．４８８０μｍ 屈折率　ｎ　＝１．３８ 厚さ　ｈ１＝　１　、３ｕｍ　Ｓｂ２　＝０．６５μｍ
１１Ａ＝１．８＝１ とした場合、入射角度θをＯ°〜９０°に変化させた時
の強度（ｌ　ｎｔｅｎｓｉｔｙ）の変化をプロットして
いき、第９図を作成した。 この第９図のグラフより極値を読取り、（６ａ）式より
厚さｈを求める。 １）グラフ−１については ２）グラフ−２については λ＝０．４８８０μｍ　、ｎ　＝１．３８以上のように
、θ１、θ２よりｈが求まる。 Ｂ、入射角θ　における入射光の波長がλ１入射角θ２
における入射光の波長がλ２の場合台、（３ａ）式にお
いて、 波長　　λ１＝０．４８８０μｍ λ２　＝０．５１４５μｍ 屈折率　ｎ＝１．３８ 厚さ　　ｈ＝１．３μｍ Ａ＝１．８＝１ とした場合、入射角度θをＯ°〜９０’に変化させた時
の強度（ｌ　ｎｔｅｎｓｉｔｙ）の変化をプロットして
いき、第１０図を作成した。第１０図におけるグラフ１
はλ１＝０．４８８０μｍ　、グラフ３はλ２＝０．５
１４５μｍの場合を表わしている。 この第１０図のグラフより極値を読取り、（９ａ）式よ
り厚さｈを求めてみると となる。 ［実験例］ 試料としては第４図に示すように、ガラス基板１８上に
クロム（Ｃｒ）１７をコートして反射面１２を持つ基板
１３を構成し、その反射面１２の上にフッ化マグネシウ
ム（ＭｏＦ３）をコートして被測定膜１０とした。 Ａｒイオンレーザを用いて第４図に示す構成の被測定膜
（フッ化マグネシウム＜ｎ＝１．３８））の値が得られ
た。同じ試料を触針の膜厚測定装置（ＴＡＬＹ−３ＵＲ
Ｅ）で測定したところ厚さ１．２５μｍの値が得られた
。両方法はよく一致していることがわかる。 （ハ）発明の効果 このように、この発明の干渉を利用した膜厚測定装置に
よれば、薄膜の膜厚の測定を高精度にかつ非接触で容易
に測定することができる。しかも基板と被測定膜との間
に段差がとれないような場合でも膜厚の測定が可能であ
る。 ４、図面の簡単な説明 第１図はこの発明の一実施例に係わる膜厚測定装置を示
す構成説明図、第２図は被測定膜における光路を示す拡
大説明図、第３図は干渉光の強度と被測定膜への光の入
射角度との関係を示すグラフ、第４図は試料の構成を示
す縦断面説明図、第５図は他の干渉光の強度と被測定膜
への光の入射角度の関係を示すグラフ、第６図は触針式
膜厚測定装置を示す説明図、第７図は他の実施例に係わ
る膜厚測定装置を示す構成説明図、第８図は他の実施例
における被測定膜における光路を示す拡大説明図、第９
図は干渉光の強度と被測定膜への光の入射角度との関係
を示すグラフ、第１０図は他の干渉光の強度と被測定膜
への光の入射角度の関係を示すグラフである。 １・・・膜厚測定装置　　２・・・レーザ光源　　３川
ミラー　　４・・くラー　　５・・・ピンホール　６・
・・レンズ　　７・・・フォトディテクター　　８・・
・増幅器１０・・・被測定膜　　１１・・・処理装置　
　１２・・・反射面　　１３・・・基板　　１４・・・
回転装置　　１５・・・ビームスプリッタ　　１６・・
・ミラー復代理人、代理人、弁理上　　　川　井　治　
男」２、図面の補正 第７図、第８図、第９図及び第１０図を追加Ｖる。 第７図 丁ｈ”ｃ　？＋Ｉｊ正士 昭和６１年８Ｊｕ１日 持ｎ庁長官黒田明超殿 １、事件の表示 昭和６０年　特訂願　第０／ＩＯ／１６７号２、発明の
名称 干渉法膜厚測定装置 ３、補正をするに 氏名　（１１４）工業技（＋ｉ院長　飯塚　幸三住所　
　　〒１０１東京都〔代田区君本町二丁目８番１０号６
、代理人　　（ユニオン光″デ・株式会社の代理人）住
所　　　〒１０１東京都千代田区亡木町二丁目８番１０
号８、補正の対象 昭和６１年５月３０日イ」提出の手続補正出の補正の内
容の欄９、補正の内容 昭和６１年５Ｊ］３０日付提出の手続補正出の「９．補
正の内容」の欄に１別紙の通り」とあるのを 「別紙の通り（補正の対象の欄に記載した事項以外は内
容に変更なし）」と補正Ｊ゛る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 被測定体である膜体にレーザ光を照明し得るレーザ光源
   と前記被測定体の表面で反射した光と前記被測定体を透
   過した光を干渉させて干渉縞を形成する干渉計と、前記
   干渉縞の強度を測定する光強度測定装置と及び前記被測
   定体への前記レーザ光の入射角を変化させる回転装置と
   を備えることを特徴とする干渉法膜厚測定装置