JPS6211021Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6211021Y2 JPS6211021Y2 JP1981014030U JP1403081U JPS6211021Y2 JP S6211021 Y2 JPS6211021 Y2 JP S6211021Y2 JP 1981014030 U JP1981014030 U JP 1981014030U JP 1403081 U JP1403081 U JP 1403081U JP S6211021 Y2 JPS6211021 Y2 JP S6211021Y2
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- JP
- Japan
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- fiber
- fixed
- optical
- metal sleeve
- melting material
- Prior art date
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- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は光半導体装置に係り、特に同一パツケ
ージ内で光フアイバと発光素子との光結合を行な
う半導体装置に関する。
ージ内で光フアイバと発光素子との光結合を行な
う半導体装置に関する。
従来の光半導体装置におけるフアイバの保持方
法について第1図を参照して説明をする。
法について第1図を参照して説明をする。
例えば無酸素銅等からなる基台4上にヒートシ
ンク3及びフアイバ台12が塔載されている。ヒ
ートシンク3上にはボンデイング融材を介してペ
レツト1が固定されており、ペレツト1は電極7
とコンタクトをとり、また電極7は絶縁体8によ
りパツケージ本体と絶縁分離され外部端と接続し
ている。
ンク3及びフアイバ台12が塔載されている。ヒ
ートシンク3上にはボンデイング融材を介してペ
レツト1が固定されており、ペレツト1は電極7
とコンタクトをとり、また電極7は絶縁体8によ
りパツケージ本体と絶縁分離され外部端と接続し
ている。
光半導体装置自体はパツケージ10を接合面1
1において通常の電気溶接によりキヤツプ10が
取り付けられている。該キヤツプ10には所定の
開口部が設けられており、該開口部に溶材6によ
り固定された金属スリーブ13の中空部にシング
モールド・フアイバ2を通すことで発光素子から
の光信号をフアイバを通してキヤツプ外へ導き出
す構造をなしている。
1において通常の電気溶接によりキヤツプ10が
取り付けられている。該キヤツプ10には所定の
開口部が設けられており、該開口部に溶材6によ
り固定された金属スリーブ13の中空部にシング
モールド・フアイバ2を通すことで発光素子から
の光信号をフアイバを通してキヤツプ外へ導き出
す構造をなしている。
キヤツプ10のフアイバ2は固定されたペレツ
ト1との光結合が最大となる位置へ外部からの振
動等により変動しないよう保持する必要がある。
ト1との光結合が最大となる位置へ外部からの振
動等により変動しないよう保持する必要がある。
以下フアイバ2の固定方法について順を追つて
説明する。
説明する。
フアイバ2とペレツト1との相対位置関係の調
整は設定自由度の問題から通常ペレツト1をあら
かじめ固定しておいて、フアイバ2の位置決めを
行なう。
整は設定自由度の問題から通常ペレツト1をあら
かじめ固定しておいて、フアイバ2の位置決めを
行なう。
前記の如くフアイバ2は金属スリーブ13の中
空部を通つて外部へ引き出される。そこで初めに
金属スリーブ13端部とフアイバ2とを融材5に
より固定する。次いでフアイバ2の先端とペレツ
ト1との位置関係を両者の光結合が最大となるよ
う、フアイバ台12上へあらかじめ表面がメタラ
イズされているフアイバ2を熱圧着する。ここで
フアイバとペレツトとの位置決め精度は発光素子
として半導体レーザを用いた場合、上下,左右方
向とも±1μ以下であることを要求される。
空部を通つて外部へ引き出される。そこで初めに
金属スリーブ13端部とフアイバ2とを融材5に
より固定する。次いでフアイバ2の先端とペレツ
ト1との位置関係を両者の光結合が最大となるよ
う、フアイバ台12上へあらかじめ表面がメタラ
イズされているフアイバ2を熱圧着する。ここで
フアイバとペレツトとの位置決め精度は発光素子
として半導体レーザを用いた場合、上下,左右方
向とも±1μ以下であることを要求される。
上記工程の後、キヤツプ10を接合面11にて
溶接し、次いで金属スリーブ13を融材6により
キヤツプ10に固定する。
溶接し、次いで金属スリーブ13を融材6により
キヤツプ10に固定する。
ここで、金属スリーブ13とフアイバ2の接合
点とフアイバ台12とフアイバ2との接合点間が
十分にとられていない場合、フアイバ台上でフア
イバの位置決めを行ない圧着する工程で両接合点
間のフアイバに過大の応力が集中的に加わり、フ
アイバが破断する。
点とフアイバ台12とフアイバ2との接合点間が
十分にとられていない場合、フアイバ台上でフア
イバの位置決めを行ない圧着する工程で両接合点
間のフアイバに過大の応力が集中的に加わり、フ
アイバが破断する。
そのため、通常、両接合間の距離を5mm程度以
上とる必要があつた。
上とる必要があつた。
また金属スリーブ13とキヤツプ10との固定
をフアイバ2及び金属スリーブ13との接合の後
に行なうため融材6にはAuSn等を使用し、
AuGe等が用いられる融材5よりも融点の低い材
質を選択していた。
をフアイバ2及び金属スリーブ13との接合の後
に行なうため融材6にはAuSn等を使用し、
AuGe等が用いられる融材5よりも融点の低い材
質を選択していた。
以上、従来のフアイバ固定方法においては、フ
アイバ台上の接合点とキヤツプとの接合点間でフ
アイバが浮いた状態となつており、外部からの振
動,衝撃等に弱いものであつた。
アイバ台上の接合点とキヤツプとの接合点間でフ
アイバが浮いた状態となつており、外部からの振
動,衝撃等に弱いものであつた。
本考案は、上記従来の問題点を解決する機械強
度の優れた光半導体装置を提供することを目的と
している。
度の優れた光半導体装置を提供することを目的と
している。
また、本考案の目的は少なくともフアイバ台上
のフアイバ先端部近傍での接合点と金属スリーブ
とフアイバとの接合点間に所定のフアイバ保持部
を形成し、該保持部上へのフアイバの固定を該金
属スリーブとの接合に使用した融材よりも融点の
低い融材により固着する、若しくは埋込むことに
より達成される。
のフアイバ先端部近傍での接合点と金属スリーブ
とフアイバとの接合点間に所定のフアイバ保持部
を形成し、該保持部上へのフアイバの固定を該金
属スリーブとの接合に使用した融材よりも融点の
低い融材により固着する、若しくは埋込むことに
より達成される。
以下第2図を参照して本考案の詳細な説明を行
なう。
なう。
第2図aは本考案による光半導体装置を発光素
子上面に垂直な方向よりみた透視図であり、bは
同じく側方よりの断面図である。なお図中、同番
号で示される部分は同一のものを示している。
子上面に垂直な方向よりみた透視図であり、bは
同じく側方よりの断面図である。なお図中、同番
号で示される部分は同一のものを示している。
本考案では例えば基体14に凸部領域を設け、
フアイバ保持部として低融点ハンダ20中にフア
イバ22を埋込んでいる。
フアイバ保持部として低融点ハンダ20中にフア
イバ22を埋込んでいる。
上記保持部でフアイバを固定することにより、
キヤツプ中でのフアイバが浮遊している領域を著
しく減少せしめ機械強度を向上させている。
キヤツプ中でのフアイバが浮遊している領域を著
しく減少せしめ機械強度を向上させている。
またフアイバと金属スリーブとの接合を行なう
融材15よりも融点の低い融材20により固着、
若しくは埋込んでいるため金属スリーブとフアイ
バとの接合点をも含めて固着せしめることが可能
である。
融材15よりも融点の低い融材20により固着、
若しくは埋込んでいるため金属スリーブとフアイ
バとの接合点をも含めて固着せしめることが可能
である。
更に本考案では融材20にフアイバを埋込むこ
とにより一層機械強度が向上するが、特に融材と
して柔軟な材質を選択することが望ましい。即ち
構成部材の熱膨張等により埋込められたフアイバ
へ双方の応力が加わることがある。しかし、融材
が柔軟な材質であれば、該融材自体が外部よりの
ひずみを吸収し、フアイバへの伝達を妨げる。本
考案では、この条件を満たし、かつ上記のように
融材15よりも融点が低い材質としてInまたは
InSn等を使用することが適している。
とにより一層機械強度が向上するが、特に融材と
して柔軟な材質を選択することが望ましい。即ち
構成部材の熱膨張等により埋込められたフアイバ
へ双方の応力が加わることがある。しかし、融材
が柔軟な材質であれば、該融材自体が外部よりの
ひずみを吸収し、フアイバへの伝達を妨げる。本
考案では、この条件を満たし、かつ上記のように
融材15よりも融点が低い材質としてInまたは
InSn等を使用することが適している。
また、第2図では基台14の凸部をフアイバ保
持部とした例について説明をしたが、別途、基台
上にフアイバ保持部材を設けることも可能である
他、フアイバ台25自体を延長させることもでき
る。またフアイバ保持部での固定方法としては第
2図の如く融材中に埋込んでしまう方法以外であ
つても十分に接合が行なわれていれば、機械強度
の向上を図れる。例えば本考案による保持部表面
に適当な溝部を設けフアイバを設置した後、所定
の融材により固定する方法は、接合工程を容易な
ものとし有用である。
持部とした例について説明をしたが、別途、基台
上にフアイバ保持部材を設けることも可能である
他、フアイバ台25自体を延長させることもでき
る。またフアイバ保持部での固定方法としては第
2図の如く融材中に埋込んでしまう方法以外であ
つても十分に接合が行なわれていれば、機械強度
の向上を図れる。例えば本考案による保持部表面
に適当な溝部を設けフアイバを設置した後、所定
の融材により固定する方法は、接合工程を容易な
ものとし有用である。
以上、実施例により明確となつたように本考案
によれば光半導体装置におけるフアイバの固定を
従来に比べ強固なものにすることができる。その
ため装置自体の外部からの振動及び衝撃に対する
強度を向上させ、装置の特性を向上させる。
によれば光半導体装置におけるフアイバの固定を
従来に比べ強固なものにすることができる。その
ため装置自体の外部からの振動及び衝撃に対する
強度を向上させ、装置の特性を向上させる。
また、本考案の適用は半導体レーザを有する光
半導体装置は勿論のこと、その他光フアイバを組
込んだ発光装置一般の適用に有用である。
半導体装置は勿論のこと、その他光フアイバを組
込んだ発光装置一般の適用に有用である。
第1図は従来の光半導体装置を、第2図a,b
は本考案による光半導体装置をそれぞれ示してい
る。 図中、1,21はペレツト、2,22はフアイ
バ、3,24はヒートシンク、4,14は基台、
5,15,6は融材、7は電極、8は絶縁体、1
0はキヤツプ、11は電気溶接による接合面、1
2,25はフアイバ台、13,23は金属スリー
ブ、20は低融点の融材である。
は本考案による光半導体装置をそれぞれ示してい
る。 図中、1,21はペレツト、2,22はフアイ
バ、3,24はヒートシンク、4,14は基台、
5,15,6は融材、7は電極、8は絶縁体、1
0はキヤツプ、11は電気溶接による接合面、1
2,25はフアイバ台、13,23は金属スリー
ブ、20は低融点の融材である。
Claims (1)
- 固定された発光素子と所定の光結合を行なわせ
るべくフアイバ台上にその先端部近傍を固着せし
めた光フアイバと、該光フアイバを中空部に包含
し、かつフアイバ台上との固着部とは異なる筒所
にて所定の第1融材により端部が該光フアイバと
の接合を成す金属スリーブとを具備し、前記光フ
アイバが少なくとも前記フアイバ台固着部と前記
金属スリーブとの接合部との間で所定のフアイバ
保持部上に前記第1融材よりも融点の低い融材に
より固定された若しくは埋込められたことを特徴
とする光半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981014030U JPS6211021Y2 (ja) | 1981-02-03 | 1981-02-03 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981014030U JPS6211021Y2 (ja) | 1981-02-03 | 1981-02-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57128158U JPS57128158U (ja) | 1982-08-10 |
JPS6211021Y2 true JPS6211021Y2 (ja) | 1987-03-16 |
Family
ID=29812096
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1981014030U Expired JPS6211021Y2 (ja) | 1981-02-03 | 1981-02-03 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6211021Y2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5226191A (en) * | 1975-08-22 | 1977-02-26 | Fujitsu Ltd | Package of photo-semiconductor element |
-
1981
- 1981-02-03 JP JP1981014030U patent/JPS6211021Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5226191A (en) * | 1975-08-22 | 1977-02-26 | Fujitsu Ltd | Package of photo-semiconductor element |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57128158U (ja) | 1982-08-10 |
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