JPS62107511A - 圧電部品の電極構造 - Google Patents
圧電部品の電極構造Info
- Publication number
- JPS62107511A JPS62107511A JP24853985A JP24853985A JPS62107511A JP S62107511 A JPS62107511 A JP S62107511A JP 24853985 A JP24853985 A JP 24853985A JP 24853985 A JP24853985 A JP 24853985A JP S62107511 A JPS62107511 A JP S62107511A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zinc oxide
- thin film
- piezoelectric thin
- oxide layer
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は圧電薄膜共振子等の圧電部品の電極構造に関す
る。
る。
(従来技術)
一般に、セラミックや水晶等の圧電基板の乱本厚み振動
を利用した、いわゆるバルク波共振子は、圧電基板の加
工技術」−の制約や機械的強度の制約から、圧電基板の
厚みは数lOμmが限度であり、このため、利用可能な
共振周波数も数10MITzか限界となっている。
を利用した、いわゆるバルク波共振子は、圧電基板の加
工技術」−の制約や機械的強度の制約から、圧電基板の
厚みは数lOμmが限度であり、このため、利用可能な
共振周波数も数10MITzか限界となっている。
そこで、近年、半導体製造技術がそのまま利用でき、し
かも、V 1(FやLJIIFの超高周波帯において動
作する、いわゆるダイヤフラム形と称される圧電薄膜」
(振子が研究されている(たとえば、特開昭60−68
706号公報、特開昭60−68710号公報および特
開昭60−68711号公報参照)。この圧電薄膜共振
子は、主表面に酸化シリコン薄膜か形成さイまたンリコ
ン単結晶基板−1−に、厚み振動を行う酸化亜鉛からな
る圧電薄膜をダイヤワラ12状に支持したものである。
かも、V 1(FやLJIIFの超高周波帯において動
作する、いわゆるダイヤフラム形と称される圧電薄膜」
(振子が研究されている(たとえば、特開昭60−68
706号公報、特開昭60−68710号公報および特
開昭60−68711号公報参照)。この圧電薄膜共振
子は、主表面に酸化シリコン薄膜か形成さイまたンリコ
ン単結晶基板−1−に、厚み振動を行う酸化亜鉛からな
る圧電薄膜をダイヤワラ12状に支持したものである。
圧電薄膜は酸化亜鉛のC軸配向性結晶膜で、ノリコン酸
化膜の上に高周波マグネトロンスパッタにより形成され
る。
化膜の上に高周波マグネトロンスパッタにより形成され
る。
ところで、酸化亜鉛の結晶はn型半導体であり、一般に
電気抵抗が低く、圧電薄膜として使用した場合の変換効
率が低いという欠点があった。
電気抵抗が低く、圧電薄膜として使用した場合の変換効
率が低いという欠点があった。
そこで、酸化1111鉛の圧電薄膜にリチウム(Li)
や銅(Cu)あるいはニッケル(N1)を添加して圧電
薄膜の電気抵抗を高めることが試みられている。
や銅(Cu)あるいはニッケル(N1)を添加して圧電
薄膜の電気抵抗を高めることが試みられている。
たとえば、酸化亜鉛の圧電薄膜にリチウムを添加すると
、圧電薄膜の結晶粒径が大きくなって密度が小さくなる
ばかりでなく、結晶のC軸配向性ら不安定となる。また
、リチウムに代えて銅を酸化亜鉛の圧電薄膜に添加する
と、圧電薄膜の結晶粒径か大きく、表面の平滑さがなく
なり、圧電結晶膜としての変換効率を高くすることがで
きなかった。
、圧電薄膜の結晶粒径が大きくなって密度が小さくなる
ばかりでなく、結晶のC軸配向性ら不安定となる。また
、リチウムに代えて銅を酸化亜鉛の圧電薄膜に添加する
と、圧電薄膜の結晶粒径か大きく、表面の平滑さがなく
なり、圧電結晶膜としての変換効率を高くすることがで
きなかった。
一方、酸化亜鉛の圧電薄膜にニッケルを添加すると、圧
電薄膜の結晶粒径が極めて小さく、電気抵抗も高いすぐ
れた圧電結晶膜となるが、この圧電薄膜の−にに真空蒸
着によりニッケル等の電極膜を形成するために−1−記
圧電薄膜が700m程度に加熱されると、酸化亜鉛から
なる圧電薄膜中の酸素か移動して電極膜中の金属成分と
結合し、圧電薄膜の電気抵抗が低下ケる問題があった。
電薄膜の結晶粒径が極めて小さく、電気抵抗も高いすぐ
れた圧電結晶膜となるが、この圧電薄膜の−にに真空蒸
着によりニッケル等の電極膜を形成するために−1−記
圧電薄膜が700m程度に加熱されると、酸化亜鉛から
なる圧電薄膜中の酸素か移動して電極膜中の金属成分と
結合し、圧電薄膜の電気抵抗が低下ケる問題があった。
(発明の目的)
本発明の目的は、酸化亜鉛よりなる圧電薄膜の加熱によ
る電気抵抗の低下を防11−シて、高周波領域でも誘電
緩和か生しない、信頼性の高い圧電部品の電極構造を提
供ずろことである。
る電気抵抗の低下を防11−シて、高周波領域でも誘電
緩和か生しない、信頼性の高い圧電部品の電極構造を提
供ずろことである。
(発明の構成)
このため、本発明は、酸化亜鉛結晶からなる圧電薄膜と
その上に)「a成される電極膜との間に銅を含有する酸
化亜鉛層を備えていることを特徴としている。すなわち
、本発明は、圧電薄膜と電極膜との間に銅を含有する酸
化亜鉛層を設置t 、この酸化jlTi、鉛層により酸
化亜鉛の圧電膜中に発生した自由電子を捕捉し中性化す
るので原子価制御により加熱による電気抵抗の低下を防
止するようにし八〇のである。
その上に)「a成される電極膜との間に銅を含有する酸
化亜鉛層を備えていることを特徴としている。すなわち
、本発明は、圧電薄膜と電極膜との間に銅を含有する酸
化亜鉛層を設置t 、この酸化jlTi、鉛層により酸
化亜鉛の圧電膜中に発生した自由電子を捕捉し中性化す
るので原子価制御により加熱による電気抵抗の低下を防
止するようにし八〇のである。
(発明の効果)
本発明によれば、圧電薄膜と電極膜との間に銅を含有す
る酸化亜鉛層を設けたので、原子価制御により圧電薄膜
から自由電子が移動して伝導率が増すことを防止するこ
とができる。そしてこの防止効果は次のような機構によ
るものと考えられる。
る酸化亜鉛層を設けたので、原子価制御により圧電薄膜
から自由電子が移動して伝導率が増すことを防止するこ
とができる。そしてこの防止効果は次のような機構によ
るものと考えられる。
圧電薄膜を構成ずろ酸化亜鉛は高温下ではz n 2
+と02−に解離ずろ傾向を示し、02−は電極の金属
と再結合しようとする。
+と02−に解離ずろ傾向を示し、02−は電極の金属
と再結合しようとする。
一方、Z n ”はその周囲に作るクーロン場により電
子2個を捕えて格子間7.nを作る。温度が高くなると
これらの電子は伝導帯に」ニリ、伝導性を示す、l;う
になる。これが高温下での伝導性をもたらすことになる
。
子2個を捕えて格子間7.nを作る。温度が高くなると
これらの電子は伝導帯に」ニリ、伝導性を示す、l;う
になる。これが高温下での伝導性をもたらすことになる
。
そこで、電極と圧電薄膜との間に銅を含む酸化亜鉛層を
設けると、酸化亜鉛中のCu OtがCu”と1、て働
き、これが7.n格子点に置き換わる。他方の02は分
解し、Oが02−になるためには圧電薄膜に発生した電
子をOの2倍だけ奪うことになる。
設けると、酸化亜鉛中のCu OtがCu”と1、て働
き、これが7.n格子点に置き換わる。他方の02は分
解し、Oが02−になるためには圧電薄膜に発生した電
子をOの2倍だけ奪うことになる。
このことから自由電子は減少し、伝導率を低下させる。
つまり高温下でも圧電薄膜は高抵抗が維持され、変換効
率の高い圧電部品の電極構造を得ることができる。
率の高い圧電部品の電極構造を得ることができる。
(実施例)
以下、添付図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図に示す圧電部品の電極構造は、ニッケルを含有す
る酸化亜鉛のC軸配向性結晶からなる圧電薄膜lと電極
膜2との間に、銅(Cu)を0.Olないl、 20
、0原子%含有する酸化亜鉛層3を、備えたものである
。銅の含有量を0.1〜20原千%とじたのは、0.1
原子%未満では高温下での伝導率の改善の効果かなく、
20原子%を越えるとマイグレーションにより高温下で
の短絡の発生率が高くなるからである。この酸化亜鉛層
3は、0.271mないし1μmの厚さに形成され、そ
の上には、電極膜2の密着性を向上させるため、100
ないし1000オングストロームの厚さのチタン(T
i)層4が形成されている。酸化亜鉛のC軸配向性結晶
からなる−1−記圧電薄膜1は、恒弾性鋼(ニリンノリ
5の上に形成されている。
る酸化亜鉛のC軸配向性結晶からなる圧電薄膜lと電極
膜2との間に、銅(Cu)を0.Olないl、 20
、0原子%含有する酸化亜鉛層3を、備えたものである
。銅の含有量を0.1〜20原千%とじたのは、0.1
原子%未満では高温下での伝導率の改善の効果かなく、
20原子%を越えるとマイグレーションにより高温下で
の短絡の発生率が高くなるからである。この酸化亜鉛層
3は、0.271mないし1μmの厚さに形成され、そ
の上には、電極膜2の密着性を向上させるため、100
ないし1000オングストロームの厚さのチタン(T
i)層4が形成されている。酸化亜鉛のC軸配向性結晶
からなる−1−記圧電薄膜1は、恒弾性鋼(ニリンノリ
5の上に形成されている。
」二足圧電薄膜1は、ニッケルをたとえば2原子%含有
する亜鉛板(図示せず。)をターゲットとし、高周波マ
グネトロンスパッタにより、アルゴンと酸素が等容量比
の混合ガス中で酸化させることにより形成される。 ま
た、酸化亜鉛層3は、銅を0.5原子%ないし5原子%
含有する亜鉛板(図示且ず。)をターノγソ1−とし、
高周波マグネトロンスパッタにより、アルゴンと酸素か
等容量比の混合ガス中で酸化させることにより形成され
る。
する亜鉛板(図示せず。)をターゲットとし、高周波マ
グネトロンスパッタにより、アルゴンと酸素が等容量比
の混合ガス中で酸化させることにより形成される。 ま
た、酸化亜鉛層3は、銅を0.5原子%ないし5原子%
含有する亜鉛板(図示且ず。)をターノγソ1−とし、
高周波マグネトロンスパッタにより、アルゴンと酸素か
等容量比の混合ガス中で酸化させることにより形成され
る。
さらに、1.組電極膜2は、真空蒸着により、チタン層
4の上に1000オングストロームないし5000オン
グストロームの厚さに形成される。
4の上に1000オングストロームないし5000オン
グストロームの厚さに形成される。
このような構成であれば、真空蒸着により電極膜2を形
成4゛る場合、圧電薄膜1と電極膜2との間に酸化亜鉛
層3か存在するので、加熱により圧電薄膜1から酸素が
移動して電極膜2のニッケルと再結合するのが阻II−
される。これにより、圧電薄膜lの酸素の遊離による電
気抵抗の低下が防+hされる。
成4゛る場合、圧電薄膜1と電極膜2との間に酸化亜鉛
層3か存在するので、加熱により圧電薄膜1から酸素が
移動して電極膜2のニッケルと再結合するのが阻II−
される。これにより、圧電薄膜lの酸素の遊離による電
気抵抗の低下が防+hされる。
ちなみに、酸化atr−鉛層3を有する第1図の電極構
造を有するザンブルへを10個、酸化亜鉛層3を有しな
い第2図のサンプルI3を10個夫々用意12、これら
サンプルAおよびBを大気中で650℃で1時間熱処理
し、室温に急冷後、圧電薄膜1の抵抗率を測定したとこ
ろ、第3図に示すような結果を得た。第3図から、酸化
亜鉛層3を有するサンプルAでは、全数、抵抗率が1O
10オ一ム/cm付近に集中しているのに対し、サンプ
ルBでは、抵抗率がlO7オーム/cm(;I近から1
0r′オー1.7cm付近まで分散し、抵抗率も低下し
ていることが分かる。
造を有するザンブルへを10個、酸化亜鉛層3を有しな
い第2図のサンプルI3を10個夫々用意12、これら
サンプルAおよびBを大気中で650℃で1時間熱処理
し、室温に急冷後、圧電薄膜1の抵抗率を測定したとこ
ろ、第3図に示すような結果を得た。第3図から、酸化
亜鉛層3を有するサンプルAでは、全数、抵抗率が1O
10オ一ム/cm付近に集中しているのに対し、サンプ
ルBでは、抵抗率がlO7オーム/cm(;I近から1
0r′オー1.7cm付近まで分散し、抵抗率も低下し
ていることが分かる。
なお、1、記実施例では ニッケルを含有する亜鉛板を
ター)7ツ)・とじて、高周波マグネトロンのりアクテ
ィブスパッタにより圧電薄膜Iを形成するように(また
が、マンガン(Mn)−バナジウ2.(V)を含有する
亜鉛板をターゲットとして、圧電薄膜1を形成すること
もできる。
ター)7ツ)・とじて、高周波マグネトロンのりアクテ
ィブスパッタにより圧電薄膜Iを形成するように(また
が、マンガン(Mn)−バナジウ2.(V)を含有する
亜鉛板をターゲットとして、圧電薄膜1を形成すること
もできる。
第1図は本発明に係る圧電部品の電極構造の一実施例の
縦断面図、 第2図は金属の酸化層を有しない圧電部品の電極構造を
示す縦断面図、 第3図は第1図の電極構造を有するサンプルと第2図の
電極構造を有するサンプルの熱処理後の圧電薄膜の抵抗
率の説明図である。 ■・・圧電薄膜、 2・・・電極膜、3・・・酸
化亜鉛層、 4・・・チタン層、5 恒弾P1鋼。 特許出願人 株式会社 村口1製作所代理人 弁理1
. 青 山 葆ほか2名−8= 第1図 第2図
縦断面図、 第2図は金属の酸化層を有しない圧電部品の電極構造を
示す縦断面図、 第3図は第1図の電極構造を有するサンプルと第2図の
電極構造を有するサンプルの熱処理後の圧電薄膜の抵抗
率の説明図である。 ■・・圧電薄膜、 2・・・電極膜、3・・・酸
化亜鉛層、 4・・・チタン層、5 恒弾P1鋼。 特許出願人 株式会社 村口1製作所代理人 弁理1
. 青 山 葆ほか2名−8= 第1図 第2図
Claims (2)
- (1)酸化亜鉛結晶からなる圧電薄膜の上に導電性の金
属よりなる電極膜が形成されてなる圧電部品において、 上記圧電薄膜と電極膜との間に銅を含有する酸化亜鉛層
を備えていることを特徴とする圧電部品の電極構造。 - (2)前記銅を含有する酸化亜鉛層は銅をCuに換算し
て0.1〜20原子%含有する特許請求の範囲第(1)
項記載の圧電部品の電極構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24853985A JPS62107511A (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 | 圧電部品の電極構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24853985A JPS62107511A (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 | 圧電部品の電極構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62107511A true JPS62107511A (ja) | 1987-05-18 |
Family
ID=17179686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24853985A Pending JPS62107511A (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 | 圧電部品の電極構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62107511A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106384782A (zh) * | 2016-11-02 | 2017-02-08 | 清华大学 | 一种多层金属电极材料及其制备方法 |
-
1985
- 1985-11-05 JP JP24853985A patent/JPS62107511A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106384782A (zh) * | 2016-11-02 | 2017-02-08 | 清华大学 | 一种多层金属电极材料及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6271271A (ja) | 炭化珪素半導体の電極構造 | |
JP6354947B2 (ja) | サーミスタ用金属窒化物材料及びその製造方法並びにフィルム型サーミスタセンサ | |
Greener et al. | Electrical Conductivity of Near‐Stoichiometric α‐Nb2O5 | |
JP2000208438A (ja) | SiC半導体デバイス | |
CN113186528A (zh) | 一种铂金薄膜及其制备方法和用途 | |
JPS62107511A (ja) | 圧電部品の電極構造 | |
JPS5830749B2 (ja) | 酸化亜鉛の圧電結晶膜 | |
JPS63224116A (ja) | 薄膜超電導体の製造方法 | |
WO2015029915A1 (ja) | サーミスタ用金属窒化物材料及びその製造方法並びにフィルム型サーミスタセンサ | |
JPS5850419B2 (ja) | 圧電性薄膜の製造方法 | |
JP5093946B2 (ja) | 可変容量コンデンサおよび製造方法 | |
JP2021192402A (ja) | 熱電変換材料、その製造方法およびそれを用いた熱電変換素子 | |
JP2001094382A (ja) | 弾性表面波装置およびその製造方法 | |
JP3361016B2 (ja) | 超電導部材及びその製造方法 | |
JP4798870B2 (ja) | 可変容量コンデンサ | |
CN118335617B (zh) | 一种基于钛酸锶薄膜的晶体管制备方法及晶体管 | |
JP2529347B2 (ja) | 超電導薄膜の作製方法 | |
JPS6321298A (ja) | 酸化亜鉛圧電結晶薄膜の製造方法 | |
JPH01234323A (ja) | 高温超電導薄膜 | |
JPS63259980A (ja) | 酸化物超電導体膜 | |
JPH0265111A (ja) | 薄膜キャパシタおよびその製造方法 | |
WO2014196649A1 (ja) | サーミスタ用金属窒化物材料及びその製造方法並びにフィルム型サーミスタセンサ | |
JPH01286977A (ja) | 超電導体の製造方法 | |
JP2976427B2 (ja) | ジョセフソン素子の製造方法 | |
JPH01208878A (ja) | 超電導デバイス及び超電導配線の製造方法 |