JPS6195523A - 処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明は、処理技術、特に半導体装置の製造においてウ
ェハ上に塗布されたフォトレジストの現像技術に適用し
て効果のある技術に関する。

［背景技術］ たとえば、半導体装置の製造におけるフォトエツチング
工程において、有機溶削を現像液とするフォトレジスト
が用いられる場合、ウェハに塗布されたフォトレジスト
の現像を行う装置としては次のようなものが考えられる
。

すなわち、現像チャンバ内に回転自在なスピンヘッドを
設け、このスピンヘッド上にウェハを固定し、モータに
よって回転させなからウェハに現像液を噴霧し、不要部
分のレジストを溶解除去することによって所定のパター
ンのレジストをウェハ上に残存させ、現像を行うもので
ある。

この場合、現像液として用いられる、たとえばアルコー
ルなどの有ａ溶剤は揮発性であり、モータが引火源とな
って火災などが発生することを防止するため、スピンヘ
ッドを回転させるモータは厳重な気密構造が施された、
いわゆる防爆構造を有するものを用いることが考えられ
る。

しかしなから、防爆構造のモータは回転部を気木ｆＭ造
とするため外形が大となり、現像装置の小形化が困難と
なる欠点がある。

さらに、通常のモータを用い、モーフ部を現像チャンバ
から隔離しモータと現像チャンバの間を常に窒素ガスに
よってパージしながら現像作業を行わせることも考えら
れるが、窒素ガスによるパーツの不時の中断などによっ
て有機溶剤の茶気がモータに触れ火災が発生するなどの
危険は避けられず、現像装置の自動化が困難であるなど
の種々の不都合があることを本発明者は見いだした。

なお、フォトレジストの現像技術に関する特許の例とし
ては、特公昭５３−３３４３７号がある。

［発明の目的１ 本発明の目的は、小形化が可能で安全な処理技術を提供
することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

・：発明の概要］ すなわら、被処理物を回転させるスピンへノドを、圧縮
窒素ガスによって駆動されるタービンによって回転させ
ることにより、厳重な気密構造を不要にして小形化を可
能にし、さらに可燃性の雰囲気においてタービンが引火
源となることを防止した処理技術を提供することにより
前記目的を達成するものである。

［実施例１ 第１図は本発明の一実施例である現像装置の断面図であ
る。

円筒形の現像チャンバｌ　（処理室）内にはスピンへノ
ド２が水平に設けられ、ウェハ３　（被処理物）が位置
される構造とされている。

現像チャンバｌの上部に着脱自在に設けられた蓋４には
スプレーノズル５が設けられ、適時に現像液が現像チャ
ンバ１内のウェハ３に噴霧される構造とされている。

また、現像チャンバ１の底部には排気管６が設けられ、
適時に現像チャンバ１内の排気が行われる構造とされて
いる。

スビ／ヘッド２に１よ現像チャンバｌを貫通するシャフ
ト７が形成され、Ｏリング８によって貫通部の気密が保
持される構造とされている。

現像チャンバｌの下方には円筒形のタービンケーシング
９　（タービン）が位置され、シャフト７がタービンケ
ーシング９の軸方向に挿通されている。

タービンケーシング９内に挿通されるシャフト７の周囲
には複数のタービン羽根ｌＯが設けられている。

第２図は第１図において線■−ｎで示される部分の断面
図であり、タービンケーシング９の周囲にタービンケー
シング９の接線方向に接続されるガス噴出パイプＩＩお
よび排気バイブ１２によってタービンケーシング９内に
ｉ！！ｍ的に供給される圧縮窒素ガスの運動エネルギに
より、タービン羽根１０に回転力を発生させ、シャフト
７を介してスピンヘッド２が回転される構造とされてい
る。

ガス噴出バイブ１１にはバルブ１３が設けられ、タービ
ンケーシング９内に供給される圧縮窒素ガスの？Ｈ１を
調Ｎすることによって／ヤフトフの回転数が調整される
構造とされている。

シャフト７がタービンケーシング９を貫通する部分には
Ｏリング１４および１５がそれぞれ設けられ、貫通部の
気密が保持される構造とされている。

このように、シャフト７の回転が不活性ガスである窒素
ガスによって駆動されるタービンによって行われるため
、可燃性の雰囲気にあっても引火のおそれがなく、ター
ビンの厳重な気密構造が不要となり小形化できる。

シャフト７内には、スピンへ７ド２の上面に形成された
凹部１６に連通される中空部１７が形成され、シャフト
７の下端部が回転自在に接続される吸引パイプ１８に連
通されることによって、ウェハ３がスピンヘッド２に適
時に固定される構造とされている。

次に、本実施例の作用について説明する。

始めにＭ４が開放され、露光を終えたつエバ３がフォト
レジストの塗布面を上にしてスピンヘノド２の上に位置
されたのち蓋４は閉止される。

次に、吸引パイプ１８によってンヤフトの空洞部１７の
吸引が行われ、ウェハ３はスピンヘッド２の凹部１６と
外部の圧力差によってスピンヘッド２に押圧され固定さ
れる。

その後、パルプ１３を適宜調整することによってタービ
ンケーシング９内に所定の流量の圧縮窒素ガスが供給さ
れ、タービン羽＄１１０は所定の回転数で回転され、ノ
ヤフト７を介してスピンへ７ド２が回転される。

次に、スプレーノズル５から存機溶剤などの現像液がウ
ェハ３に噴霧されると共に排気管６を通じて現像チャン
バｌ内を適宜排気し、ウェハ３上のフォトレジストの所
定の部分が現像液によって溶解され除去される。

この場合、現像チャンバ１内に供給される現像液の一部
はシャフト７が現像チャンバｌを貫通する部分を通して
外部に漏洩され、タービン羽根ノング９の周囲が可燃性
の雰囲気となることはある程度避けられないが、スピン
へラド２を回転させるタービンが不活性ガスの圧縮窒素
カスによって駆動されるため引火のおそれがなく、安全
に現像作業ができる。

所定の時間経過後、スプレーノズル５からの現像液の噴
霧は停止され、さらにタービンケーシング９内への圧縮
窒素ガスの供給も停止され、スピンヘッド２の回転は停
止される。

次に、蓋４が開放され、吸引パイプ１８による空洞部１
７の吸引が解除された後、現像を終えたウェハ４は現像
チャンバ１から取り出される。

上記の一連の操作を繰り返すことによって多数のウェハ
３が現像処理される。

〔効果］ （１）、被処理物が位１されるスピンヘッドの回転を、
与圧された不活性ガスによって駆動されるタービンによ
って行わせる構造であるため、可燃性の雰囲気にあって
も引火の危険がなく、タービンに厳重な気密構造を施す
必要がなくなる結果タービンを小形化できる。

（２）、前記＋１１の結果、処理装置を安全に運転でき
る。

（３）、前記（１）、（２）の結果、処理装置の生産性
が向上する。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

たとえば、タービンを駆動させる流体として与圧された
水などの液体を用いることも可能である。

［利用分野］ 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である現像技術に適用した
場合について説明したが、それに限定されるものではな
く、たとえば、フォトレジスト塗布技術に適用すること
も可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である現像装置の断面図、 第２図は第１図において綿■−■で示される部分の断面
図である。 ｌ・・　現像チャンバ（処理室）、２・・　スピンヘッ
ド、３・・・ウェハ（被処理物）、４・・・蓋、５・・
・スプレーノズル、６・・・排気管、７・・・シャフト
、８・・・○リング、９・・・タービンケーシング（タ
ービン）、１０・・・タービン羽根、１１・・・ガス噴
出パイプ、１２・・・排気パイプ、１３・・・バルブ、
１４゜１５・・・０リング、１６・・・凹部、１７・・
・空洞部、１８・・・吸引パイプ。 第　　　１　　図 第　　２　　図 ″／１０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被処理物が位置される処理室と、この処理室内にお
   いて被処理物を回転させるスピンヘッドと、被処理物に
   溶液を噴霧するスプレーノズルとからなる処理装置であ
   って、前記スピンヘッドが、与圧された流体によって駆
   動されるタービンにより回転されることを特徴とする処
   理装置。 ２、与圧された流体が圧縮窒素ガスであることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の処理装置。 ３、処理装置が半導体装置の製造に用いられる現像装置
   であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の処
   理装置。 ４、被処理物がウェハまたはフォトマスクであることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の処理装置。