JPS6194767A - インクジエツトヘツド及びその製造方法 - Google Patents
インクジエツトヘツド及びその製造方法Info
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- JPS6194767A JPS6194767A JP59215791A JP21579184A JPS6194767A JP S6194767 A JPS6194767 A JP S6194767A JP 59215791 A JP59215791 A JP 59215791A JP 21579184 A JP21579184 A JP 21579184A JP S6194767 A JPS6194767 A JP S6194767A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
肢王立兄
本発明は、インクジェット記録装置におけるインクジェ
ットヘッド及びその製造方法に関するものであるが、マ
イクロデバイスの接合、光学的なピンホール、アパーチ
ャ等の形成にも応用可能なものである。
ットヘッド及びその製造方法に関するものであるが、マ
イクロデバイスの接合、光学的なピンホール、アパーチ
ャ等の形成にも応用可能なものである。
゛ 支未肢血
インクジェット記録装置においては、周知のように、イ
ンク滴を噴射するためのインクジェットノズルを使用す
るが、このノズルの製造には、極めて高い精度が要求さ
れ、そのため実に多くの方法(材料、加工)が試され、
提案されてきた。中でもノズルとヘッド本体(液室)と
を接合する仕方が信頼性を確保する上で大きな技術課題
であった。而して、最も多く提案されている方法は有機
化合物系接着剤による接合であるが、この方法では、長
期間(6ケ月〜数年)の接合強度維持が困難で、信頼性
が確保できない。また、拡散接合方法も多く提案されて
いるが、この方法は、プロセス温度が高く、高精度のオ
リフィス形状を維持するのが困難(再結晶して多角形形
状となる)である。その他、ガラスの融着を利用したも
の、ゴム等による機械的接合、圧入、Au−3i共晶接
合。
ンク滴を噴射するためのインクジェットノズルを使用す
るが、このノズルの製造には、極めて高い精度が要求さ
れ、そのため実に多くの方法(材料、加工)が試され、
提案されてきた。中でもノズルとヘッド本体(液室)と
を接合する仕方が信頼性を確保する上で大きな技術課題
であった。而して、最も多く提案されている方法は有機
化合物系接着剤による接合であるが、この方法では、長
期間(6ケ月〜数年)の接合強度維持が困難で、信頼性
が確保できない。また、拡散接合方法も多く提案されて
いるが、この方法は、プロセス温度が高く、高精度のオ
リフィス形状を維持するのが困難(再結晶して多角形形
状となる)である。その他、ガラスの融着を利用したも
の、ゴム等による機械的接合、圧入、Au−3i共晶接
合。
ロウ付、溶接などの方法が提案されているが、本発明の
ような精度を低価格で得られない。
ような精度を低価格で得られない。
置皿
本発明は、上述のごとき実情を鑑みてなされたもので、
特にインクジェットによる記録装置のインクジェット記
録ヘッドに於いて、インク滴を噴射する板状ノズルをイ
ンク液室側へ固定接合する方法及びその構造体を提供す
ることを目的としてなされたものである。
特にインクジェットによる記録装置のインクジェット記
録ヘッドに於いて、インク滴を噴射する板状ノズルをイ
ンク液室側へ固定接合する方法及びその構造体を提供す
ることを目的としてなされたものである。
1炭
本発明は、上記目的を達成するため、1乃至多数個のイ
ンク液噴出オリフィスを有するノズル基板を板状の平滑
板として形成する工程と、インク流路を含むインク液室
を構成するインク液室基板を前記ノズル基板の平滑面に
合わせて平滑面に形成する工程と、前記ノズル基板とイ
ンク液室基板が相互ci別々に形成された前記平滑面で
全屈結合が得られるように接合する工程とを有すること
を特徴とし、更には、l乃至多数個のインク液噴出用オ
リフィスを有するノズル基板と、インク流路を含むイン
ク液室を構成するインク液室基板と、前記ノズル基板と
インク液室基板を接着する金属質薄層とを有し、前記ノ
ズル基板及びインク液室基板は、相対向する面が平滑面
に形成され、前記インク液室を構成する部材の前記平滑
面に、前記ノズルを構成する部材の最表面材料に対して
原子的金属結合が得られやすい物質より成る前記金属!
を薄層が形成されていることを特徴としたものである。
ンク液噴出オリフィスを有するノズル基板を板状の平滑
板として形成する工程と、インク流路を含むインク液室
を構成するインク液室基板を前記ノズル基板の平滑面に
合わせて平滑面に形成する工程と、前記ノズル基板とイ
ンク液室基板が相互ci別々に形成された前記平滑面で
全屈結合が得られるように接合する工程とを有すること
を特徴とし、更には、l乃至多数個のインク液噴出用オ
リフィスを有するノズル基板と、インク流路を含むイン
ク液室を構成するインク液室基板と、前記ノズル基板と
インク液室基板を接着する金属質薄層とを有し、前記ノ
ズル基板及びインク液室基板は、相対向する面が平滑面
に形成され、前記インク液室を構成する部材の前記平滑
面に、前記ノズルを構成する部材の最表面材料に対して
原子的金属結合が得られやすい物質より成る前記金属!
を薄層が形成されていることを特徴としたものである。
以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
インクジェットヘッドは、インク滴を形成する為のノズ
ルあるいはオリフィス部分と、インクを供給するインク
液室もしくはインク液流路と、インク液に機械的振動を
与えて、インク滴形成をする振動素子から成っている。
ルあるいはオリフィス部分と、インクを供給するインク
液室もしくはインク液流路と、インク液に機械的振動を
与えて、インク滴形成をする振動素子から成っている。
インク滴形成に際して、バブルジェットとか、m械的振
動によらない方法も種々提案されている。
動によらない方法も種々提案されている。
本発明は、特に、インクジェットノズルと液室との構成
に於いて特徴的であり、 第1にインク液を噴出するオリフィス(1個〜多数個)
を持ったノズルを板状の平滑板として形成すること。こ
れに対応して、インク液室(インク流路も含む)を構成
する部材も前記ノズル部材の平滑面に合わせて平滑面に
形成すること。
に於いて特徴的であり、 第1にインク液を噴出するオリフィス(1個〜多数個)
を持ったノズルを板状の平滑板として形成すること。こ
れに対応して、インク液室(インク流路も含む)を構成
する部材も前記ノズル部材の平滑面に合わせて平滑面に
形成すること。
第2に、上記部材が共に金属又は合金より成り、電気良
導体であること。
導体であること。
第3にノズル部材と、ノズル部材の最表面材料に対して
原子的金属結合が得られやすい物質より成る層が、イン
ク液室を構成する部材の上記平滑面に形成されているこ
と。
原子的金属結合が得られやすい物質より成る層が、イン
ク液室を構成する部材の上記平滑面に形成されているこ
と。
第4に、上記の2つの部材が相互に形成された平滑面で
、全屈結合が得られるように接合されていること。
、全屈結合が得られるように接合されていること。
第5に、これら部材及び物質は、インク液と化学的に酸
化反応を起こさない材料・物質が選択されていること。
化反応を起こさない材料・物質が選択されていること。
等を特徴とするものである。
第1図は、本発明の構成概念を説明するための要部断面
構成図で、図中、1はノズル部材、2は該ノズル部材1
に形成されたオリフィス、3は前記ノズル部材の一部を
構成する平〆骨面であり、かつ、インク流路等を含むイ
ンク液室側部材との接合界面でもある。このノズル部材
1に形成するオリフィスの数は1個以上いくつでも良く
、複数個形成した場合は通常マルチノズルと呼ばれ、1
個の場合はシングルノズルと呼んでいる。4はインク液
室(キャビティとも呼ばれる)、5はインク流路を含む
インク液室を構成するインク液室部材で、インク液室4
と前記オリフィス2は空間でつながっており、インク液
が流れるようになっている。6はインク液室部材5の一
部を構成する平滑面であり、この平滑面6上に金属質薄
層7が密着形成されてインク液室部材5を構成している
。更に、この金属質薄層7の最表面は8であるが、この
金属質薄層7は極めて薄い厚みであり、基本的には、平
滑面6で得られた平滑面にならった平面度を有している
。最表面8は、インク液室部材5の一部を構成するが、
ノズル部材1の平滑面3との接合界面でもある。
構成図で、図中、1はノズル部材、2は該ノズル部材1
に形成されたオリフィス、3は前記ノズル部材の一部を
構成する平〆骨面であり、かつ、インク流路等を含むイ
ンク液室側部材との接合界面でもある。このノズル部材
1に形成するオリフィスの数は1個以上いくつでも良く
、複数個形成した場合は通常マルチノズルと呼ばれ、1
個の場合はシングルノズルと呼んでいる。4はインク液
室(キャビティとも呼ばれる)、5はインク流路を含む
インク液室を構成するインク液室部材で、インク液室4
と前記オリフィス2は空間でつながっており、インク液
が流れるようになっている。6はインク液室部材5の一
部を構成する平滑面であり、この平滑面6上に金属質薄
層7が密着形成されてインク液室部材5を構成している
。更に、この金属質薄層7の最表面は8であるが、この
金属質薄層7は極めて薄い厚みであり、基本的には、平
滑面6で得られた平滑面にならった平面度を有している
。最表面8は、インク液室部材5の一部を構成するが、
ノズル部材1の平滑面3との接合界面でもある。
更に具体的に説明すると、ノズル部材1は、金属もしく
は合金あるいはその組合せにより構成さ ゛
れる。このノズルのつくり方は、現在、外にシリコン単
結晶を用いる方法、ガラス(感光性ガラス。
は合金あるいはその組合せにより構成さ ゛
れる。このノズルのつくり方は、現在、外にシリコン単
結晶を用いる方法、ガラス(感光性ガラス。
等セラミックスも含む)を素材として用いる方法等種々
提案されているが、ここでは除外される。
提案されているが、ここでは除外される。
金属製ノズルの提案も実に多くなされている。本発明は
過去になされたこれら金属製ノズルで、前記本発明の構
成概念の条件を満たすものであれば、どれでも適用しう
るちのである。
過去になされたこれら金属製ノズルで、前記本発明の構
成概念の条件を満たすものであれば、どれでも適用しう
るちのである。
以下、荷電制御型インクジェット記録ヘッドの構成で、
著しい長所をもつ、ノズルの形成方法について具体的に
述べる。
著しい長所をもつ、ノズルの形成方法について具体的に
述べる。
荷電制御型インクジェット記録方式はオンデマンド型の
ものに比して、単位時間当たりの噴射インク滴数を極め
て多い(10万滴/sec以上)ものとすることができ
るので、高品位の画質を得ることができる。この特徴を
生かすため、現状のオリフィス径はφ30μm以下の値
で設計される。
ものに比して、単位時間当たりの噴射インク滴数を極め
て多い(10万滴/sec以上)ものとすることができ
るので、高品位の画質を得ることができる。この特徴を
生かすため、現状のオリフィス径はφ30μm以下の値
で設計される。
このようにφ30μm以下の丸穴加工は極めて困難であ
った。
った。
第2図は、オリフィス形成部分の拡大断面図で、本発明
によって、従来達成できなかった高精度のオリフィスを
得ることができた。
によって、従来達成できなかった高精度のオリフィスを
得ることができた。
第2図において、11はノズル基板として使用される薄
板であり、このノズル基板11としては、その加工性と
取り扱い性(ハンドリング性)のためにベリリウム銅合
金のミルハードン材が最適である。これは、鏡面が得ら
れやすい、取り扱い上適当な硬さが必要である。後の加
工にケミカルミリング(フォトエツチング)を行うが、
その場合、オリフィス形成部材料と異なる材料を選ぶ必
要がある(即ち選択的エツチング加工ができること)等
の理由による。12は、オリフィス形状をつ(るための
ニッケルメッキ層、13はオリフィス形状をつくること
、及び1部材11がインク液に直接触れて腐食しないよ
うにするためのニッケルメッキ層である。14は、フォ
トエツチング及び2度目のニッケルメンキによって形成
されるカップ状の凹み形状(カップ部)、15はフォト
エツチング加工によって形成される力・ノブ形状、16
はオリフィスであり、その直径をφDOで表わしている
。
板であり、このノズル基板11としては、その加工性と
取り扱い性(ハンドリング性)のためにベリリウム銅合
金のミルハードン材が最適である。これは、鏡面が得ら
れやすい、取り扱い上適当な硬さが必要である。後の加
工にケミカルミリング(フォトエツチング)を行うが、
その場合、オリフィス形成部材料と異なる材料を選ぶ必
要がある(即ち選択的エツチング加工ができること)等
の理由による。12は、オリフィス形状をつ(るための
ニッケルメッキ層、13はオリフィス形状をつくること
、及び1部材11がインク液に直接触れて腐食しないよ
うにするためのニッケルメッキ層である。14は、フォ
トエツチング及び2度目のニッケルメンキによって形成
されるカップ状の凹み形状(カップ部)、15はフォト
エツチング加工によって形成される力・ノブ形状、16
はオリフィスであり、その直径をφDOで表わしている
。
次にその製品工程を順に説明する。
先づ、析出硬化処理済みのベリリウム銅合金(板厚0.
1〜0 、3mmの範囲の適当なもの、例えば0.2m
m)を用意し、両面を0.1 μm Rmax程度の鏡
面加工を行う。例えば、1μm以下のアルミナ粉でポリ
ッシングすれば、容易に得られる。このベリリウム銅合
金は、予め、このポリッシングと後の加工のために適当
なサイズに切断したものが用いられる。ポリッシングを
終わったベリリウム銅合金は、後のフォトリソグラフィ
技術を用いる工程の基板(サブストレート)となる。基
板11は、洗浄後、フォトレジストを塗布される。プリ
ベーキングの後、フォトマスクを用いて、露光、現象。
1〜0 、3mmの範囲の適当なもの、例えば0.2m
m)を用意し、両面を0.1 μm Rmax程度の鏡
面加工を行う。例えば、1μm以下のアルミナ粉でポリ
ッシングすれば、容易に得られる。このベリリウム銅合
金は、予め、このポリッシングと後の加工のために適当
なサイズに切断したものが用いられる。ポリッシングを
終わったベリリウム銅合金は、後のフォトリソグラフィ
技術を用いる工程の基板(サブストレート)となる。基
板11は、洗浄後、フォトレジストを塗布される。プリ
ベーキングの後、フォトマスクを用いて、露光、現象。
リンス、ポストベーキングすることによって、第3図に
示すように、凸状の丸パターン18を基板11の上に形
成する。オリフィスは、その画質に由来する厳しいイン
ク噴射方向精度のために丸い真円に近い形状が最適であ
る。上述のごと(して丸パターン18が形成された面に
第4図に示すようにニッケルメッキを処す。12はニッ
ケルメッキ層である。このニッケルメッキは、いわゆる
電解二/ケルであり、それ故、フォトレジストが非導電
体であることから、第4図に示す特徴的形状を形成する
ことができる。このニッケルメッキによって形成される
丸い形状の直径は、18のフォトレジストパターンの直
径よりも小さく、最終的に形成されるオリフィスの直径
よりも大きい。
示すように、凸状の丸パターン18を基板11の上に形
成する。オリフィスは、その画質に由来する厳しいイン
ク噴射方向精度のために丸い真円に近い形状が最適であ
る。上述のごと(して丸パターン18が形成された面に
第4図に示すようにニッケルメッキを処す。12はニッ
ケルメッキ層である。このニッケルメッキは、いわゆる
電解二/ケルであり、それ故、フォトレジストが非導電
体であることから、第4図に示す特徴的形状を形成する
ことができる。このニッケルメッキによって形成される
丸い形状の直径は、18のフォトレジストパターンの直
径よりも小さく、最終的に形成されるオリフィスの直径
よりも大きい。
次にメッキと反対側の面にフォトエツチングのための丸
パターンを形成する。第5図は、フォトレジスト塗布、
プリベータ、フォトマスクを用いての露光、現像、リン
ス、ポストベーキングの工程を終えた段階を示している
。19は、エツチング加工の際、腐食液(エッチャント
)に曝されても、基板11の加工の必要部分のみ腐食が
進行するように基板を保護する。フォトエツチングの丸
パターンの直径は、およそ、基板の厚さが適当である。
パターンを形成する。第5図は、フォトレジスト塗布、
プリベータ、フォトマスクを用いての露光、現像、リン
ス、ポストベーキングの工程を終えた段階を示している
。19は、エツチング加工の際、腐食液(エッチャント
)に曝されても、基板11の加工の必要部分のみ腐食が
進行するように基板を保護する。フォトエツチングの丸
パターンの直径は、およそ、基板の厚さが適当である。
ベリリウム銅合金には塩化第二鉄水溶液が反応速度も比
較的速く通している。塩化第二鉄水溶液をフォトエツチ
ング加工の腐食液として用いるとき、ベリリウム銅合金
には、圧倒的にアクツクするが、ニッケルに対しても、
少しく反応するので、12.18の面はフォトレジスト
や、シールピール(斎品名)等有機的な後の剥1碓の容
易な保護膜が必要である。このフォトエツチングにより
第6図の如きカップ形状15が形成できる。このフォト
エツチング加工中にベリリウム鋼合金は等方的にエツチ
ングされるので、実際に形成されるカップ状の直径φD
EAは、フォトレジストパターン径φDEよりも大きく
なる。この大きくなる分のフォトレジストは20で示さ
れ、エツチング加工中に脱落する。21はエツチング加
工中次第に露出してくるニッケルメッキ層12のニッケ
ル面であるが、エツチングの腐食液と反応するので少し
く侵食されるが、18のフォトレジストが残っているの
で、φD1の精度には影Wしない。
較的速く通している。塩化第二鉄水溶液をフォトエツチ
ング加工の腐食液として用いるとき、ベリリウム銅合金
には、圧倒的にアクツクするが、ニッケルに対しても、
少しく反応するので、12.18の面はフォトレジスト
や、シールピール(斎品名)等有機的な後の剥1碓の容
易な保護膜が必要である。このフォトエツチングにより
第6図の如きカップ形状15が形成できる。このフォト
エツチング加工中にベリリウム鋼合金は等方的にエツチ
ングされるので、実際に形成されるカップ状の直径φD
EAは、フォトレジストパターン径φDEよりも大きく
なる。この大きくなる分のフォトレジストは20で示さ
れ、エツチング加工中に脱落する。21はエツチング加
工中次第に露出してくるニッケルメッキ層12のニッケ
ル面であるが、エツチングの腐食液と反応するので少し
く侵食されるが、18のフォトレジストが残っているの
で、φD1の精度には影Wしない。
第6図の形状が得られた後に、腐食液の保護膜。
及び、18.19のフォトレジストを剥離し、再度のニ
ッケル電解メッキを処せば、第2図の形状が得られる。
ッケル電解メッキを処せば、第2図の形状が得られる。
インクジェットヘッドとして、このオリフィスを用いる
時は、インクの性質上、純ニッケルの電解メッキは、強
い耐食性を示すのでこれが用いられるが、化学ニッケル
メッキ(無電解ニッケルメッキ)は用いることができな
い。例えば、光学的回路に用いるピンホールやアパーチ
ャとして用いる場合は無電解ニッケルメッキは、均一膜
厚が得られやすいので、好ましい。
時は、インクの性質上、純ニッケルの電解メッキは、強
い耐食性を示すのでこれが用いられるが、化学ニッケル
メッキ(無電解ニッケルメッキ)は用いることができな
い。例えば、光学的回路に用いるピンホールやアパーチ
ャとして用いる場合は無電解ニッケルメッキは、均一膜
厚が得られやすいので、好ましい。
第2図の形状を製造するにはいくつかのポイントがある
。
。
第1は、18の中心と19のφDEの中心をいかに正し
く合わせるかである。これは、18のパターン形成用フ
ォトマスクと、19のパターン形成用のフォトマスクに
予め、相対的に位置が決定できるように位置決め用の基
準パターンを形成し、それを、特別に作成した冶具で行
えば、少なくとも10μm程度の同軸度で、中心を合わ
せ゛ることが可能であった。
く合わせるかである。これは、18のパターン形成用フ
ォトマスクと、19のパターン形成用のフォトマスクに
予め、相対的に位置が決定できるように位置決め用の基
準パターンを形成し、それを、特別に作成した冶具で行
えば、少なくとも10μm程度の同軸度で、中心を合わ
せ゛ることが可能であった。
第2は、電解ニッケルメッキの薄厚をいかに均一に形成
するかである。長期に亙る研究の結果、サブミクロンの
胸膜形成を達成できることがわかった。
するかである。長期に亙る研究の結果、サブミクロンの
胸膜形成を達成できることがわかった。
第3は、メッキによって発生する応力によって、基板を
含めてわん曲し、反ることである。この内部応力も、メ
ッキ条件を選ぶことによって、はとんど変形のない平滑
なものが得られることがわかっている。
含めてわん曲し、反ることである。この内部応力も、メ
ッキ条件を選ぶことによって、はとんど変形のない平滑
なものが得られることがわかっている。
上述のごとくして得られたノズル部材1は液室部材5に
接合される。
接合される。
次に、その原理方法について説明する。
液室部材はインク液に直接浸るため、インク液に侵され
ないようオーステナイト系のステンレス鋼例えば、5U
S304,5US304LあるいはSUS 303が最
適である。このオーステナイト系ステンレス鋼はその最
表面にクロム酸化物を主体としてち密な不動態膜を有す
る為、極めて秀れた耐食性を有することは衆知である。
ないようオーステナイト系のステンレス鋼例えば、5U
S304,5US304LあるいはSUS 303が最
適である。このオーステナイト系ステンレス鋼はその最
表面にクロム酸化物を主体としてち密な不動態膜を有す
る為、極めて秀れた耐食性を有することは衆知である。
しかし、逆にこの不動態は、精密な接合を形成するには
邪魔となる。
邪魔となる。
そこで、第1図の面6を形成するために、インク液室部
材5の接合すべき面を鏡面加工(少なくとも、0.1
μm Rmax)する。ポリッシングした平面をアルゴ
ンガス雰囲気で、逆スパツタリングすることによって、
酸化膜を破壊、除去し、連続的に、7の金属層例えば、
この場合、ニッケルが最適であるが、ニッケルのスパッ
タリングによる膜形成を少な(とも500Å以上形成す
る。こうして得られた部材5は第7図に示すように、電
極23の上にセットする。22は例えば、タングステン
の如き電気抵抗率の高い部材で形成される(20”C,
5,5μΩ・cm)。逆に、23.24は、電気抵抗率
の低い例えば銅を主体とした銅−クロム合金、銅−タン
グステン合金が用いられる。
材5の接合すべき面を鏡面加工(少なくとも、0.1
μm Rmax)する。ポリッシングした平面をアルゴ
ンガス雰囲気で、逆スパツタリングすることによって、
酸化膜を破壊、除去し、連続的に、7の金属層例えば、
この場合、ニッケルが最適であるが、ニッケルのスパッ
タリングによる膜形成を少な(とも500Å以上形成す
る。こうして得られた部材5は第7図に示すように、電
極23の上にセットする。22は例えば、タングステン
の如き電気抵抗率の高い部材で形成される(20”C,
5,5μΩ・cm)。逆に、23.24は、電気抵抗率
の低い例えば銅を主体とした銅−クロム合金、銅−タン
グステン合金が用いられる。
部材5の上にノズル部材lを正しく置き、22゜24及
び23の間にはさまったインク液室部材5及びノズル部
材1をしめつけるように加圧したあと通電することによ
って、主に部材5と、電極22にジュール熱を発生させ
、8の接合界面を得る。
び23の間にはさまったインク液室部材5及びノズル部
材1をしめつけるように加圧したあと通電することによ
って、主に部材5と、電極22にジュール熱を発生させ
、8の接合界面を得る。
本実施例の場合、ノズル部材1の最表面はニッケルであ
り、また、インク液室部材5の最表面もスパッタリング
したニッケルであるため、強固な圧接状態が形成できる
。これに対して、従来の熱圧着接合は、加熱炉内で接合
する方法であり(特開昭58−167171号公報)、
また、従来の拡散接合の方法は、プロセス温度が高く、
オリフィス部が接合時の加熱・冷却で再結晶を起こし、
オリフィスの真円性が著しくそこなわれてしまうが、本
発明では、全くそれが発生しない。因みにニッケルの電
気抵抗率は、本実施例の組合せで最も高く (20℃、
6.84μΩ・cIII)、具合よく接合できる。逆
に、従来の単に、点溶接機を用いて、部材22なしに接
合しようとしても、部材5の内部に発熱するだけで、接
合状態は得られない。
り、また、インク液室部材5の最表面もスパッタリング
したニッケルであるため、強固な圧接状態が形成できる
。これに対して、従来の熱圧着接合は、加熱炉内で接合
する方法であり(特開昭58−167171号公報)、
また、従来の拡散接合の方法は、プロセス温度が高く、
オリフィス部が接合時の加熱・冷却で再結晶を起こし、
オリフィスの真円性が著しくそこなわれてしまうが、本
発明では、全くそれが発生しない。因みにニッケルの電
気抵抗率は、本実施例の組合せで最も高く (20℃、
6.84μΩ・cIII)、具合よく接合できる。逆
に、従来の単に、点溶接機を用いて、部材22なしに接
合しようとしても、部材5の内部に発熱するだけで、接
合状態は得られない。
なお、本発明は、オリフィスの数(ノズルの数)に制限
されるものではなく、シングルでもマルチでも可能であ
る。
されるものではなく、シングルでもマルチでも可能であ
る。
また、部材5はいわゆる電鋳(エレクトロフォーミング
)でも形成できる。この場合もニッケルが最適である。
)でも形成できる。この場合もニッケルが最適である。
この方法によれば、逆スバ・7り。
Niスパッタの工程は不要であり、接合面が、鏡面に仕
上がっていれば接合できる。
上がっていれば接合できる。
また、部材22は、目的に応じて、平面的には円状、長
円状等閑曲線でつながったような形状をしており、接合
部分からのインクのリークが発生しないようにするのは
いうまでもない。
円状等閑曲線でつながったような形状をしており、接合
部分からのインクのリークが発生しないようにするのは
いうまでもない。
また、第8図に示すように、ステンレスの様なニッケル
メッキの剥離しやすい基板25 (例えば、5US30
2.5US305Lなど)の上にフォトレジストパター
ン18を形成し、ニッケルメッキ26をつけて、これを
基板25から剥離して、ノズルプレートをつくる方法も
ある。この場合、接合は、前記実施例の方法で可能であ
る。
メッキの剥離しやすい基板25 (例えば、5US30
2.5US305Lなど)の上にフォトレジストパター
ン18を形成し、ニッケルメッキ26をつけて、これを
基板25から剥離して、ノズルプレートをつくる方法も
ある。この場合、接合は、前記実施例の方法で可能であ
る。
更に、ノズル部材lの詳細である第2図のノズル部材1
1は、インク液室部材5に対して、どぢらの向きでも接
合が可能である。
1は、インク液室部材5に対して、どぢらの向きでも接
合が可能である。
第9図及び第10図は、その関係を示したものであるが
、いずれを用いても、インク滴を安定して形成する為の
連続型荷電制御インクジェットへノドに用いる時のイン
ク粒子粒子化領域に違いはなかった。むしろ、9図の方
法によれば、システム立上がり時の気泡除去に秀れた形
状ができる。
、いずれを用いても、インク滴を安定して形成する為の
連続型荷電制御インクジェットへノドに用いる時のイン
ク粒子粒子化領域に違いはなかった。むしろ、9図の方
法によれば、システム立上がり時の気泡除去に秀れた形
状ができる。
即ち、部材11の表面25は鏡面仕上がより厳密に実施
されるが(18のパターンを精度よ(得るために)1.
この平面があるために、インク液室4の内側が、極めて
平滑に仕上がり滑らかで、第10図の場合と比較して形
状がより単純であるので、気泡の除去が容易である。
されるが(18のパターンを精度よ(得るために)1.
この平面があるために、インク液室4の内側が、極めて
平滑に仕上がり滑らかで、第10図の場合と比較して形
状がより単純であるので、気泡の除去が容易である。
更に、本発明について補足するならば、本発明によると
、タングステン等を用いる接合電極の形状は、接合の目
的に応じて自由に形を選ぶことができる。電気抵抗を用
いる市販の点溶接機を用いることができζ特別の設備と
して、製造する必要がなく、既存技術を応用できるので
、安価に接合が達成できる。接合条件は予備加圧−通電
一本加圧一通電停止一除荷の手順で一般的に膿達成され
るが、接合の圧力1通電電圧−電流、加圧保持時間等の
接合条件は、当然、部材59部材1の設計条件によって
、各々最適な接合が得られるように選択される。
、タングステン等を用いる接合電極の形状は、接合の目
的に応じて自由に形を選ぶことができる。電気抵抗を用
いる市販の点溶接機を用いることができζ特別の設備と
して、製造する必要がなく、既存技術を応用できるので
、安価に接合が達成できる。接合条件は予備加圧−通電
一本加圧一通電停止一除荷の手順で一般的に膿達成され
るが、接合の圧力1通電電圧−電流、加圧保持時間等の
接合条件は、当然、部材59部材1の設計条件によって
、各々最適な接合が得られるように選択される。
上記実施例において、ベリリウム銅合金の化学成分(重
量%)は、 で与えられているJISC1720P合金が、最良の結
果を得るのに通していた。
量%)は、 で与えられているJISC1720P合金が、最良の結
果を得るのに通していた。
この合金をミルルートン(工場出荷前に、既に析出硬化
処理をして、平板状にて取引される)して、その硬さは
、ビッカース硬さ試験で、H350〜390の品質のも
のは、平坦性に秀れており、基板用の素材として通して
いる。Coの金属間化合物や、非金属介在物等、必ずし
も鏡面加工上好ましくないものが存在するが、ノズル形
成にとって、第2図に示した如く、基板11とオリフィ
ス部分は直接関係を持たないので、オリフィス径精度に
、これら介在物等の内部欠陥は何ら影習を与えることが
ない。
処理をして、平板状にて取引される)して、その硬さは
、ビッカース硬さ試験で、H350〜390の品質のも
のは、平坦性に秀れており、基板用の素材として通して
いる。Coの金属間化合物や、非金属介在物等、必ずし
も鏡面加工上好ましくないものが存在するが、ノズル形
成にとって、第2図に示した如く、基板11とオリフィ
ス部分は直接関係を持たないので、オリフィス径精度に
、これら介在物等の内部欠陥は何ら影習を与えることが
ない。
また、上記ベリリウム銅合金の板圧を0.1〜0.3m
mとすることでオリフィスの直径φDO=19μm〜3
0μmの範囲では、極めて取り扱い(ハンドリング性)
が良い。また、外力に対して、ベリリウム銅合金はその
高い弾性限界のため、塑性変形しにくいので、高精度の
オリフィス径及び、その部材1としての形状の保持がよ
く、部材1の形成後の検査、移動、接合のための種々の
ハンドリング時に、加わる種々の外力に対して秀れた効
果を有する。
mとすることでオリフィスの直径φDO=19μm〜3
0μmの範囲では、極めて取り扱い(ハンドリング性)
が良い。また、外力に対して、ベリリウム銅合金はその
高い弾性限界のため、塑性変形しにくいので、高精度の
オリフィス径及び、その部材1としての形状の保持がよ
く、部材1の形成後の検査、移動、接合のための種々の
ハンドリング時に、加わる種々の外力に対して秀れた効
果を有する。
また、上記実施例では、他の方法で加工されたオリフィ
ス径φDoよりも、秀れた精度を得ることが可能である
。それが、特にφ30μm以下では他の方法では速成で
きない程の精度であった。
ス径φDoよりも、秀れた精度を得ることが可能である
。それが、特にφ30μm以下では他の方法では速成で
きない程の精度であった。
勿論、φ50μm前後の大きな径に対して、高精度に実
施でき、φ30μm以下に限定されるものではないが、
φ30μm以下でも、極めて高い精度でオリフィス形成
が出来る点に本法の秀れた特徴がある。
施でき、φ30μm以下に限定されるものではないが、
φ30μm以下でも、極めて高い精度でオリフィス形成
が出来る点に本法の秀れた特徴がある。
又、シングルノズルヘッドでは、部材22は、丸棒を切
断した円筒上の形状でも良く、実施例の如き、加圧力集
中電流集中の為の環状凸起を形成する必要が必ずしもな
い。
断した円筒上の形状でも良く、実施例の如き、加圧力集
中電流集中の為の環状凸起を形成する必要が必ずしもな
い。
読果
以上の説明から明らかなように、本発明によると、
イ)構成部材を比較的安価なもので構成することができ
る。
る。
口)フォトリングラフィ技術を用いるので、量産性が高
い。
い。
ハ)接合は、1サイクル数秒以下で達成できるので、コ
ストがかからない。
ストがかからない。
二)接合の変形が極めて小さく、噴射方向精度が確保で
きる。
きる。
ホ)形状を平面的とする為、加工が容易である。
へ)高精度が達成できかつ、安価なインクジェットヘッ
ド用ノズルが提供できる。
ド用ノズルが提供できる。
ト)有機的接着では得られない長期に亙る接合強度が得
られる。
られる。
チ)オリフィス部分に高温がかからないので、オリフィ
スの再結晶や酸化などがなく、オリフィス精度が高い。
スの再結晶や酸化などがなく、オリフィス精度が高い。
等の利点がある。
第1図は、本発明の構成概念を説明するための要部断面
図、第2図は、オリフィス形成部分の拡大断面図、第3
図乃至第6図は、本発明によるインクジェットヘッドの
製造工程を説明するための要部断面図、第7図は、接合
界面8を形成するための一実施例を説明するための構成
図、第8図は、ノズルプレートの製作方法の一例を示す
要部断面図、第9図及び第1θ図は、それぞれノズル部
断面図である。 1・・・ノズル部材、2・・・オリフィス、3・・・平
滑面。 4・・・インク液室、5・・・インク液室部材、6・・
・平滑面、7・・・金属質薄膜、8・・・金属質薄膜の
最表面。 11・・・ノズル基板、12.13・・・ニッケルメッ
キJM、14.15・・・カップ状部形成部、16・・
・オリフィス、18・・・丸パターン、19・・・工・
ノチンク防止材料、20・・・フォトレジスト、22・
・・高電気抵抗部材、23.24・・・低電気抵抗部材
。 第 l 図 第2図 第3図 第4図 第8図 第9図 第10図 手続補正書(餞) 昭和60年1月7日 昭和59年 特許願 第215791号住所 東京都
大田区中馬込1丁目3番6号代表者 浜 1)
広 φDo=19μm〜30LLmの節開では−17、補正
の内容 (1)、特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 (2)、明fa?第5頁第11行目に記載の「インク液
室基板を接着する」を「インク液室基板を接合する」に
補正する。 (3)、同第9頁第7行目に記載の「このようにφ30
μm以下の」を「このようなφ30μm以下の」に補正
する。 (4)、同第14頁第5行〜6行目に記載の「少なくと
も10μm程度の同軸度で、」を「少なくとも20μm
以下の同軸度で、」に補正する。 (5)、同第19頁下から5行目に記載の「この合金を
ミルルートン」を「この合金をミルハードン」に補正す
る。 (6)、同第19頁下から3行〜2行目に記載のrH3
50〜390の品質のものは、」をrHv350〜39
0の品質のものは、」に補正する。 (7)、同第20頁第8行〜9行目に記載の「直径枯詐
!8ψI′11舘聞 を「直径φDo=15μm〜30umの範囲では、」に
補正する。 (8)、同第20頁第20行目に記載の「他の方法では
速成できない程の」を[他の方法では達成できない程の
」に補正する。 (9)、同第21頁第15行目に記載のrフォトリング
ラフィ」を「フォトリソグラフィ」に補正する。 (10)、第22頁第4行目に記載の「ト)有機的接着
では得られない」を「ト)有機高分子材料による接着で
は得られない」に補正する。 付1丁釦(シトV)早U凹 (1)、1乃至多数個のインク液噴出用オリフィスを有
するノズル基板と、インク流路を含むインク液室を構成
するインク液室基板と、前記ノズル基板とインク 室基
を ムする金属r・ とを1に工前記ノズル基板及び
インク液室基板は、相対向する面が平滑面に形成され、
前記インク液室を構成する部材の前記平滑面に、前記ノ
ズルを構成する部材の最表面材料に対して原子的金属結
合が得られやすい物質より成る前記金属質薄層が形成さ
れていることを特徴とするインクジェットヘッド。 (2)、前記ノズル基板及びインク液室基板が共に金属
又は合金より成る電気良導体であることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項に記載のインクジェットヘッド
・ (3)、前記ノズル基板が銅又は銅合金であることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項に記載のインクジェ
ットヘッド。 (4)、前記ノズル基板、インク液室基板、及び金属質
a層がインク液と化学的に酸化反応を起こさない材料及
び物質であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項に記載のインクジェットヘッド。 (5)、1乃至多数個のインク液噴出オリフィスを有す
るノズル基板を板状の平滑板として形成する工程と、イ
ンク流路を含むインク液室を構成するインク液室基板を
前記ノズル基板の平滑面に合わせて平滑面に形成する工
程と、前記ノズル基板とインク液室基板が相互に別々に
形成された前記平滑面で金属結合が得られるように接合
する工程とを有することを特徴とするインクジェットヘ
ッドの製造方法。 (6)、前記接合を加圧と通電によるジュール発熱を応
用して行うことを特徴とする特許請求の範囲第(5)項
に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 (7)、前記ノズル基板側に電気抵抗率の高い部材を使
用し、前記加圧2通電による発熱を前記ノズル基板側へ
集中させるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
第(6)項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
図、第2図は、オリフィス形成部分の拡大断面図、第3
図乃至第6図は、本発明によるインクジェットヘッドの
製造工程を説明するための要部断面図、第7図は、接合
界面8を形成するための一実施例を説明するための構成
図、第8図は、ノズルプレートの製作方法の一例を示す
要部断面図、第9図及び第1θ図は、それぞれノズル部
断面図である。 1・・・ノズル部材、2・・・オリフィス、3・・・平
滑面。 4・・・インク液室、5・・・インク液室部材、6・・
・平滑面、7・・・金属質薄膜、8・・・金属質薄膜の
最表面。 11・・・ノズル基板、12.13・・・ニッケルメッ
キJM、14.15・・・カップ状部形成部、16・・
・オリフィス、18・・・丸パターン、19・・・工・
ノチンク防止材料、20・・・フォトレジスト、22・
・・高電気抵抗部材、23.24・・・低電気抵抗部材
。 第 l 図 第2図 第3図 第4図 第8図 第9図 第10図 手続補正書(餞) 昭和60年1月7日 昭和59年 特許願 第215791号住所 東京都
大田区中馬込1丁目3番6号代表者 浜 1)
広 φDo=19μm〜30LLmの節開では−17、補正
の内容 (1)、特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 (2)、明fa?第5頁第11行目に記載の「インク液
室基板を接着する」を「インク液室基板を接合する」に
補正する。 (3)、同第9頁第7行目に記載の「このようにφ30
μm以下の」を「このようなφ30μm以下の」に補正
する。 (4)、同第14頁第5行〜6行目に記載の「少なくと
も10μm程度の同軸度で、」を「少なくとも20μm
以下の同軸度で、」に補正する。 (5)、同第19頁下から5行目に記載の「この合金を
ミルルートン」を「この合金をミルハードン」に補正す
る。 (6)、同第19頁下から3行〜2行目に記載のrH3
50〜390の品質のものは、」をrHv350〜39
0の品質のものは、」に補正する。 (7)、同第20頁第8行〜9行目に記載の「直径枯詐
!8ψI′11舘聞 を「直径φDo=15μm〜30umの範囲では、」に
補正する。 (8)、同第20頁第20行目に記載の「他の方法では
速成できない程の」を[他の方法では達成できない程の
」に補正する。 (9)、同第21頁第15行目に記載のrフォトリング
ラフィ」を「フォトリソグラフィ」に補正する。 (10)、第22頁第4行目に記載の「ト)有機的接着
では得られない」を「ト)有機高分子材料による接着で
は得られない」に補正する。 付1丁釦(シトV)早U凹 (1)、1乃至多数個のインク液噴出用オリフィスを有
するノズル基板と、インク流路を含むインク液室を構成
するインク液室基板と、前記ノズル基板とインク 室基
を ムする金属r・ とを1に工前記ノズル基板及び
インク液室基板は、相対向する面が平滑面に形成され、
前記インク液室を構成する部材の前記平滑面に、前記ノ
ズルを構成する部材の最表面材料に対して原子的金属結
合が得られやすい物質より成る前記金属質薄層が形成さ
れていることを特徴とするインクジェットヘッド。 (2)、前記ノズル基板及びインク液室基板が共に金属
又は合金より成る電気良導体であることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項に記載のインクジェットヘッド
・ (3)、前記ノズル基板が銅又は銅合金であることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項に記載のインクジェ
ットヘッド。 (4)、前記ノズル基板、インク液室基板、及び金属質
a層がインク液と化学的に酸化反応を起こさない材料及
び物質であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項に記載のインクジェットヘッド。 (5)、1乃至多数個のインク液噴出オリフィスを有す
るノズル基板を板状の平滑板として形成する工程と、イ
ンク流路を含むインク液室を構成するインク液室基板を
前記ノズル基板の平滑面に合わせて平滑面に形成する工
程と、前記ノズル基板とインク液室基板が相互に別々に
形成された前記平滑面で金属結合が得られるように接合
する工程とを有することを特徴とするインクジェットヘ
ッドの製造方法。 (6)、前記接合を加圧と通電によるジュール発熱を応
用して行うことを特徴とする特許請求の範囲第(5)項
に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 (7)、前記ノズル基板側に電気抵抗率の高い部材を使
用し、前記加圧2通電による発熱を前記ノズル基板側へ
集中させるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
第(6)項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
Claims (7)
- (1)、1乃至多数個のインク液噴出用オリフィスを有
するノズル基板と、インク流路を含むインク液室を構成
するインク液室基板と、前記ノズル基板とインク液室基
板を接着する金属質薄層とを有し、前記ノズル基板及び
インク液室基板は、相対向する面が平滑面に形成され、
前記インク液室を構成する部材の前記平滑面に、前記ノ
ズルを構成する部材の最表面材料に対して原子的金属結
合が得られやすい物質より成る前記金属質薄層が形成さ
れていることを特徴とするインクジェットヘッド。 - (2)、前記ノズル基板及びインク液室基板が共に金属
又は合金より成る電気良導体であることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項に記載のインクジェットヘッド
。 - (3)、前記ノズル基板が銅又は銅合金であることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項に記載のインクジェ
ットヘッド。 - (4)、前記ノズル基板、インク液室基板、及び金属質
薄層がインク液と化学的に酸化反応を起こさない材料及
び物質であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項に記載のインクジェットヘッド。 - (5)、1乃至多数個のインク液噴出オリフィスを有す
るノズル基板を板状の平滑板として形成する工程と、イ
ンク流路を含むインク液室を構成するインク液室基板を
前記ノズル基板の平滑面に合わせて平滑面に形成する工
程と、前記ノズル基板とインク液室基板が相互に別々に
形成された前記平滑面で金属結合が得られるように接合
する工程とを有することを特徴とするインクジェットヘ
ッドの製造方法。 - (6)、前記接合を加圧と通電によるジュール発熱を応
用して行うことを特徴とする特許請求の範囲第(5)項
に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 - (7)、前記ノズル基板側に電気抵抗率の高い部材を使
用し、前記加圧、通電による発熱を前記ノズル基板側へ
集中させるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
第(6)項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59215791A JPS6194767A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | インクジエツトヘツド及びその製造方法 |
US06/787,072 US4733447A (en) | 1984-10-15 | 1985-10-15 | Ink jet head and method of producing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59215791A JPS6194767A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | インクジエツトヘツド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6194767A true JPS6194767A (ja) | 1986-05-13 |
Family
ID=16678296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59215791A Pending JPS6194767A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | インクジエツトヘツド及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4733447A (ja) |
JP (1) | JPS6194767A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63502015A (ja) * | 1985-11-22 | 1988-08-11 | ヒユ−レツト パツカ−ド カンパニ− | 熱インクジェットプリントヘッド |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0729414B2 (ja) * | 1987-01-22 | 1995-04-05 | 株式会社テック | 弁素子及びその製造方法 |
CH679587A5 (ja) * | 1989-08-25 | 1992-03-13 | Rieter Ag Maschf | |
US6113218A (en) * | 1990-09-21 | 2000-09-05 | Seiko Epson Corporation | Ink-jet recording apparatus and method for producing the head thereof |
US5912684A (en) * | 1990-09-21 | 1999-06-15 | Seiko Epson Corporation | Inkjet recording apparatus |
US6164759A (en) * | 1990-09-21 | 2000-12-26 | Seiko Epson Corporation | Method for producing an electrostatic actuator and an inkjet head using it |
US6168263B1 (en) | 1990-09-21 | 2001-01-02 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording apparatus |
US5534900A (en) * | 1990-09-21 | 1996-07-09 | Seiko Epson Corporation | Ink-jet recording apparatus |
US6000783A (en) * | 1991-03-28 | 1999-12-14 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate for ink jet recording apparatus and method of preparing said nozzle plate |
JP3264971B2 (ja) * | 1991-03-28 | 2002-03-11 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
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US5230926A (en) * | 1992-04-28 | 1993-07-27 | Xerox Corporation | Application of a front face coating to ink jet printheads or printhead dies |
US5703631A (en) * | 1992-05-05 | 1997-12-30 | Compaq Computer Corporation | Method of forming an orifice array for a high density ink jet printhead |
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US5718044A (en) * | 1995-11-28 | 1998-02-17 | Hewlett-Packard Company | Assembly of printing devices using thermo-compressive welding |
US5901425A (en) | 1996-08-27 | 1999-05-11 | Topaz Technologies Inc. | Inkjet print head apparatus |
US5988807A (en) * | 1997-12-08 | 1999-11-23 | Pitney Bowes Inc. | Fluorescent valve jet ink |
RU2151066C1 (ru) * | 1998-11-03 | 2000-06-20 | Самсунг Электроникс Ко., Лтд. | Узел пластины сопла микроинжектора и способ его изготовления |
DE69931526T2 (de) * | 1999-12-10 | 2007-04-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Tintenstrahldruckkopf, verfahren zur herstellung von druckköpfen und drucker |
US6617762B2 (en) * | 2000-08-03 | 2003-09-09 | Nec Tokin Ceramics Corporation | Microactuator device with a countermeasure for particles on a cut face thereof |
US7158159B2 (en) * | 2004-12-02 | 2007-01-02 | Agilent Technologies, Inc. | Micro-machined nozzles |
CN101866093B (zh) * | 2009-04-20 | 2013-08-28 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 快门挡片的制作方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3107422A (en) * | 1961-05-16 | 1963-10-22 | Bendix Corp | Rhodium diffusion process for bonding and sealing of metallic parts |
US3758741A (en) * | 1972-09-14 | 1973-09-11 | Nasa | Enhanced diffusion welding |
JPS5818274A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-02 | Sharp Corp | インクジエツトヘツド装置 |
US4389654A (en) * | 1981-10-01 | 1983-06-21 | Xerox Corporation | Ink jet droplet generator fabrication method |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP59215791A patent/JPS6194767A/ja active Pending
-
1985
- 1985-10-15 US US06/787,072 patent/US4733447A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63502015A (ja) * | 1985-11-22 | 1988-08-11 | ヒユ−レツト パツカ−ド カンパニ− | 熱インクジェットプリントヘッド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4733447A (en) | 1988-03-29 |
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