JPS6192779A - 蒸気相はんだ付け装置 - Google Patents

蒸気相はんだ付け装置

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JPS6192779A
JPS6192779A JP21434384A JP21434384A JPS6192779A JP S6192779 A JPS6192779 A JP S6192779A JP 21434384 A JP21434384 A JP 21434384A JP 21434384 A JP21434384 A JP 21434384A JP S6192779 A JPS6192779 A JP S6192779A
Authority
JP
Japan
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vapor
heating medium
vessel
liquid
heating
Prior art date
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Pending
Application number
JP21434384A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeki Yabu
藪 成樹
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JPS6192779A publication Critical patent/JPS6192779A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/012Soldering with the use of hot gas
    • B23K1/015Vapour-condensation soldering

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明ははんだ付け装置、特に基板上に電子部品をはん
だ付けするための蒸気相はんだ付け装置に関するもので
ある。
〔従来技術〕
従来例に係る蒸気相はんだ付け装置としては第6図およ
び第4図に示すものがある(特公昭54−14066号
公報ウェスターン・エレクトリック社)。
第6図はバッチ式装置の断面図であり、蒸気槽1の下端
部に加熱用ヒーター2が設けられている。
また蒸気槽1の上部付近に図示しない供給源から循環冷
却媒体を供給される冷却コイル3が設けられている。蒸
気槽1の下部(=は加熱用媒体液4として例えば沸点2
10℃前後のフルオロカーボン等の液体(例えば米国3
M社のフロリナー)FC−70沸点215℃)が入れら
れており、加熱用ヒーター2により加熱され気化する。
そして蒸気槽1の加熱用ヒーター2と冷却コイル6間は
その加熱6は空気より充分密度が大きく重く、また冷却
コイル6により冷却されて液化され蒸気槽1の下部へ戻
る様(=なっているため、蒸気槽1から漏出するのが防
止される。
この蒸気相はんだ付け装置におけるはんだ付けは、以下
の様な手順でおこなわれる。基板7上の所定のパターン
にはんだ9(例えばペースト状のはんだ)をあらかじめ
供給しておき、その上に電子部品8を装着する。この基
板7を適当な吊り下げ手段10を用いて蒸気相はんだ付
け装置の蒸気槽1中に投入する。蒸気槽1中はばんだ9
の融点(−少なくとも等しいかそれより高い沸点をもつ
加熱用媒体蒸気6で満たされているので、常温状態にあ
った基板7.電子部品8およびはんだ9と加熱用媒体蒸
気6との温度差により加熱用媒体蒸気6は基板Z上で液
化する。この時加熱用媒体蒸気6は液化に伴ない潜熱を
放出しその熱により基板7上のはんだ9が溶融されるの
で、基板7のパターン上に電子部品8がはんだ付けされ
る。
第4図はインライン式装置の断面図であり、原理的には
第6図のものと同じであるが、吊り下げ手段10をベル
ト11としてインライン量産性に富んだ形にしたもので
ある。
以上説明した様に、蒸気相はんだ付け装置を用いれば一
定温度の加熱用媒体蒸気中に基板を投入・することによ
りはんだ付けが行なえるので能率が良く、かつ蒸気の潜
熱を利用しているので部品や基板の大きさに無関係に均
一に加熱することができ、また蒸気の温度が一定である
のではんだ付け温度の過度の上昇や低下がないなど数々
の利点がある。
しかし従来のi置では基板7上に加熱用媒体蒸気6が液
化した際に基板7上のはんだ9中のフラックス成分やゴ
ミあるいは細かいはんだ粒等を洗い流すが、液滴5と共
に不純物が蒸気槽1の下部の加熱用媒体液4中に入る。
このため蒸気槽1や加熱用ヒーター2および加熱用媒体
液4を汚染し、加熱用ヒーター2の温度が不安定になっ
たり加熱用媒体液4の沸点が不安定になる等の欠点があ
った。
〔発明の目的〕
本発明は液化し滴下される加熱用媒体液を収集−する手
段および収集した加熱用媒体液中の不純物を取り除く手
段を蒸気相はんだ付け装置に設けて、はんだ付けの行な
われる蒸気槽中を常に清浄に保つ様にし、前述の欠点を
除去することを目的とする。
〔実施例〕
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の実施例(=係る蒸気相はんだ付け装置
の断面図であり、蒸気槽1の下端部(=加熱用ヒーター
2、またその上部付近に図示しない供給源から循環冷却
媒体を供給される冷却コイル6が設けられている。蒸気
槽1の下部(=は加熱用媒体液4として、はんだの融点
と少なくとも同じかあるいはより高い沸点をもった例え
ば沸点210℃前後のフルオロカーボン等の液体(例え
ば米国3M社ラフ0リナーFC−70沸点215℃)が
入れられており、加熱用ヒーター2により加熱され気化
する。そして蒸気槽1の加熱用ヒーター2と冷却コイル
6間はその加熱用媒体蒸気6によってイ・萬たされてお
り、液体の沸点近くの温度に保持されてし)る。
加熱用媒体蒸気6は空気より密度力玉大きく重く、また
冷却コイル6;二より冷却されて液イヒされ蒸気槽1の
下部へ戻るようになってI、zるため、蒸気槽1から漏
出するのが防止される。
ここで基板7上のパターンにはんだ9(例えbiペース
ト状のはんだ)をあらかじめ供給しておき、その上に電
子部品8を装着する。この基板7を適当な吊り下げ手段
10を用いて蒸気槽1中に投入する。蒸気槽1中の加熱
用媒体蒸気6は常温状態の基板7上へ温度差により液化
される。この時、加熱用媒体蒸気6は液化に伴なl/A
潜熱を放出しその熱により基板7上のはんだ9が溶融さ
れるので、基板7のパターン上に電子部品8カーはんだ
付(すされる。この時、加熱用媒体蒸気6が液化した際
に基板7上のはんだ9中のフラックス成分やゴミあるい
は細かいはんだ粒等を洗い流し液滴5と共(=不純物が
滴下される。液滴5は蒸気槽1中の力ロ熱用ヒーター2
と冷却コイル6の間(=設けられだ液滴収集容器21に
収集されてパイプ22によって蒸留槽26へと導びかれ
る。収集されたフラックス等で汚染された加熱用媒体液
4は蒸留槽26中で加熱用ヒーター24により加熱され
気化して蒸気となり、冷却コイル25により冷却され液
化されて収集槽26により収集され、パイプ27により
再び蒸気槽1へと蒸留されたa浄な状態で戻される。
第2図は本発明の他の実施例に係る蒸気相はんだ付け装
置の断面図である。この装置では、第1図の液滴収集容
器21の代わりに液滴収集手段として加熱用媒体蒸気6
は通過させるが、加熱用媒体液4は通過させないような
透湿性膜28(例えば、四フッ化エチレン樹脂:商品名
フロロボア。
住友電工製等がある)を用いている。これにより加熱用
ヒーター2によって加熱され気化した加熱用媒体蒸気6
は透湿性膜28を透過し蒸気槽1内に充満するが、滴下
される加熱用媒体液4の液滴5は透湿性膜28を透過で
きないため、収集されてパイプ22により蒸留槽26に
導びかれる。その他の動作原理は第1図の実施例と同様
であるので説明は省略する。
前記実施例では加熱用媒体液中の不純物を取り除く手段
として蒸気槽とほぼ同様の構成の蒸留槽を用いたが、蒸
留装置の構造、形式はこれに限るものではない。また不
純物除去手段として蒸留装置以外に濾過器等を用いても
よい。また前記実施例ではバッチ方式で基板を個別に蒸
気槽中に投入する形式を示したが、第4図に示す様に基
板をベルト等を用いて連続的に投入するインライン方式
の装置にも同様に用いることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の蒸気相はんだ付け装置に
は基板から滴下される不純物で汚染された加熱用媒体液
の液滴を収集するとともにその不純物を取り除く手段が
設けられているので、蒸気槽中の加熱用媒体液にはんだ
のフラックスやゴミ、細かいはんだ粒等の不純物が入り
込むことがない。
したがって蒸気槽や加熱用ヒーターおよび加熱用媒体液
の汚染を防止できるので、加熱用ヒーターの温度が不安
定になったり、加熱用媒体液の沸点が不安定になる等の
欠点を防止することができる。
また不純物が除去された加熱用媒体液を再生利用するこ
とができるので経済的である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係るパッチ式蒸気相はんだ付
け装置の断面図、第2図は本発明の他の実施例に係るバ
ッチ式蒸気相はんだ付け装置の断面図、第6図は従来例
に係るパッチ式蒸気相はんだ付け装置の断面図、第4図
は従来例に係るインライン方式蒸気相はんだ付け装置の
断面図である。 1・・・蒸気槽 2・・・加熱用ヒーター 6・・・冷却コイル 4・・・加熱用媒体液 5・・・液滴 6・・・加熱用媒体蒸気 7・・・基板 8・・・電子部品 9・・・はんだ 10・・・つり下げ手段 11・・・ベルト 21・・・液滴収集容器 22・・・収集パイプ 23・・・蒸留槽 24・・・加熱用ヒーター 25・・・冷却コイル 26・・・収集槽 27・・・返還パイプ 28・・・透湿性膜

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)加熱用媒体液を加熱して加熱用媒体蒸気を発生さ
    せる手段および前記加熱用媒体蒸気で満たされる蒸気槽
    とを有し、前記加熱用媒体蒸気の熱を利用して基体上に
    物品をはんだ付けする蒸気相はんだ付け装置において、
    前記基体上に前記物品をはんだ付けする際に、前記加熱
    用媒体蒸気が前記基体と前記物品とのはんだ接合部に接
    触することにより液化された前記加熱用媒体液を収集す
    る手段および収集した加熱用媒体液中の不純物を取り除
    く手段とを有することを特徴とする蒸気相はんだ付け装
    置。
  2. (2)前記収集する手段は、前記加熱用媒体蒸気は通過
    させるが、前記加熱用媒体液は通過させないような透湿
    性膜であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の蒸気相はんだ付け装置。
JP21434384A 1984-10-15 1984-10-15 蒸気相はんだ付け装置 Pending JPS6192779A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62148086A (ja) * 1985-12-23 1987-07-02 Hitachi Techno Eng Co Ltd ベ−パ−リフロ−式はんだ付け装置
JPS62270274A (ja) * 1986-05-19 1987-11-24 Kenji Kondo 浄化装置を設けた蒸気相はんだ付け装置
JPH0619275U (ja) * 1992-07-23 1994-03-11 ティーディーケイ株式会社 端子台

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62148086A (ja) * 1985-12-23 1987-07-02 Hitachi Techno Eng Co Ltd ベ−パ−リフロ−式はんだ付け装置
JPH0343935B2 (ja) * 1985-12-23 1991-07-04 Hitachi Techno Eng
JPS62270274A (ja) * 1986-05-19 1987-11-24 Kenji Kondo 浄化装置を設けた蒸気相はんだ付け装置
JPH0619275U (ja) * 1992-07-23 1994-03-11 ティーディーケイ株式会社 端子台

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