JPS6184054A - 集積mos回路 - Google Patents
集積mos回路Info
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- JPS6184054A JPS6184054A JP60210898A JP21089885A JPS6184054A JP S6184054 A JPS6184054 A JP S6184054A JP 60210898 A JP60210898 A JP 60210898A JP 21089885 A JP21089885 A JP 21089885A JP S6184054 A JPS6184054 A JP S6184054A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- memory
- mos circuit
- blocking
- mos
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- G07F—COIN-FREED OR LIKE APPARATUS
- G07F7/00—Mechanisms actuated by objects other than coins to free or to actuate vending, hiring, coin or paper currency dispensing or refunding apparatus
- G07F7/08—Mechanisms actuated by objects other than coins to free or to actuate vending, hiring, coin or paper currency dispensing or refunding apparatus by coded identity card or credit card or other personal identification means
- G07F7/10—Mechanisms actuated by objects other than coins to free or to actuate vending, hiring, coin or paper currency dispensing or refunding apparatus by coded identity card or credit card or other personal identification means together with a coded signal, e.g. in the form of personal identification information, like personal identification number [PIN] or biometric data
- G07F7/1008—Active credit-cards provided with means to personalise their use, e.g. with PIN-introduction/comparison system
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/067—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
- G06K19/07—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
- G06K19/073—Special arrangements for circuits, e.g. for protecting identification code in memory
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- G06K19/067—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
- G06K19/07—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
- G06K19/073—Special arrangements for circuits, e.g. for protecting identification code in memory
- G06K19/07309—Means for preventing undesired reading or writing from or onto record carriers
- G06K19/07372—Means for preventing undesired reading or writing from or onto record carriers by detecting tampering with the circuit
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- H01L23/57—Protection from inspection, reverse engineering or tampering
- H01L23/576—Protection from inspection, reverse engineering or tampering using active circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、電気的プログラミング可能のメモリセル(
E”PROM) から成る記憶場を備える集積M OS
回路C二関するものである。
E”PROM) から成る記憶場を備える集積M OS
回路C二関するものである。
文献「エレクトロニクスJ (Electronic
s )+1980年2月28日、pp、 113〜11
7i二は、それぞれ制御ゲートと記憶ゲート(浮遊ゲー
ト)をb1ηえる電気的プログラミング可能のメモリセ
ルで構成された記憶装置が記載されている。この装置で
は王又は負のプログラミング電圧を加えることによtl
)ンネル効果に基きメモリゲートからあるいはメモリ
ゲートへの電子移動が起る。記憶内容は電気光学的電位
ゾンデ法に従い電子線又はX線によってメモリセルの電
荷状態を走査し電子コントラストを調べることによって
分析し、それから直接又は間接にプログラミング状態を
決定することができる。
s )+1980年2月28日、pp、 113〜11
7i二は、それぞれ制御ゲートと記憶ゲート(浮遊ゲー
ト)をb1ηえる電気的プログラミング可能のメモリセ
ルで構成された記憶装置が記載されている。この装置で
は王又は負のプログラミング電圧を加えることによtl
)ンネル効果に基きメモリゲートからあるいはメモリ
ゲートへの電子移動が起る。記憶内容は電気光学的電位
ゾンデ法に従い電子線又はX線によってメモリセルの電
荷状態を走査し電子コントラストを調べることによって
分析し、それから直接又は間接にプログラミング状態を
決定することができる。
しかし記憶回路にはその権利のない者に対して記憶内容
の開示を阻止しなければならない応用分野がある。その
例はチンブカードを使用下る保全システムや販売・金融
システムである。このカードには個人のデータが記録さ
れ、カードの使用毎にそれを調べてカードの不正使用を
阻±するようになっている。詐欺的な意向をもって記憶
内容の分析が可能であるとシステムの信頼性を危うくす
る。
の開示を阻止しなければならない応用分野がある。その
例はチンブカードを使用下る保全システムや販売・金融
システムである。このカードには個人のデータが記録さ
れ、カードの使用毎にそれを調べてカードの不正使用を
阻±するようになっている。詐欺的な意向をもって記憶
内容の分析が可能であるとシステムの信頼性を危うくす
る。
この発明の目的は、メモリが電気光学的分析に対して保
護されている集結メモリ回路を提供することである。
護されている集結メモリ回路を提供することである。
この目的は特許請求の範囲第1項に特徴として挙げた構
造によって達成される。
造によって達成される。
この発明によれば放射線入射に際しエメモリセルの少く
とも一部がその出力端をメモリセルの電荷状態に関係な
く特定の電位に接続され、記憶されている情報の認知が
不可能となる。これはメモリセルの周囲(二1つ又はそ
れ以上の放射感応センサが集積され、その出力信号がメ
モリ出力端に加えられている列電圧を規定値に固定する
のに使用されることに基く。放射線照射によりセンサの
出力信号が変化して列導線の電位本邸に影警を及ぼ丁。
とも一部がその出力端をメモリセルの電荷状態に関係な
く特定の電位に接続され、記憶されている情報の認知が
不可能となる。これはメモリセルの周囲(二1つ又はそ
れ以上の放射感応センサが集積され、その出力信号がメ
モリ出力端に加えられている列電圧を規定値に固定する
のに使用されることに基く。放射線照射によりセンサの
出力信号が変化して列導線の電位本邸に影警を及ぼ丁。
列導線電位はこの場合メモリセルの電荷状態に関係しな
い。従って記憶内容も変化しない。
い。従って記憶内容も変化しない。
この発明は更にpn接合ダイオードとして構成されたセ
ンサを標準的の製造工程に従って一般(二値用されるn
fヤネルニ重シリコンゲート技術に結び付けることがで
きるという利点を示す。
ンサを標準的の製造工程に従って一般(二値用されるn
fヤネルニ重シリコンゲート技術に結び付けることがで
きるという利点を示す。
この発明の実施態様は特許請求の範囲第2項以下に示さ
れている。
れている。
2種類の実施例によつ℃この発明を更(二詳細に説明す
る。
る。
第1図に7[ックスを構成下る多数のメモリセル5を含
む記憶場1aを示す。各メモリセル5は選択トランジス
タ6と直列接続された浮遊ゲート型のメモリトランジス
タ7から成り、1つの行の総ての選択トランジスタ6は
1つの選択線3を1山して制御され、総てのメモリトラ
ンジスタ7はプログラミング線4を通して制御される。
む記憶場1aを示す。各メモリセル5は選択トランジス
タ6と直列接続された浮遊ゲート型のメモリトランジス
タ7から成り、1つの行の総ての選択トランジスタ6は
1つの選択線3を1山して制御され、総てのメモリトラ
ンジスタ7はプログラミング線4を通して制御される。
メモリセル5は列毎に列導線2を通して続出され、列導
線2(二は負荷トランジスタ18を介して第1動作電圧
U1.が加えられる。
線2(二は負荷トランジスタ18を介して第1動作電圧
U1.が加えられる。
記憶場1aには更に例えば2つのフォトダイオード8か
ら成る放射感応性センサが含まれる。フォトダイオード
8と少くとも1本の列導線2の間には阻止回路10aが
接続され、センサによって制御されると所匡列導線2を
通しての諺出しを阻止する。
ら成る放射感応性センサが含まれる。フォトダイオード
8と少くとも1本の列導線2の間には阻止回路10aが
接続され、センサによって制御されると所匡列導線2を
通しての諺出しを阻止する。
記憶場に放射線照射が行われない正規動作状態では、ダ
イオード8は数ボルトの第2動作電圧IJoo によ
ってほとんど阻止され僅かC:m電性である。この場合
ダイオードの出力電圧は自己導電性又は自己阻止性の負
荷トランジスタ11のためlog、1となる。元又は放
射が作用するとダイオード8のpn接合面に沿ってキャ
リヤが発生してダイオード電流を流し、センサの出力電
圧をlog、0にj准く 。
イオード8は数ボルトの第2動作電圧IJoo によ
ってほとんど阻止され僅かC:m電性である。この場合
ダイオードの出力電圧は自己導電性又は自己阻止性の負
荷トランジスタ11のためlog、1となる。元又は放
射が作用するとダイオード8のpn接合面に沿ってキャ
リヤが発生してダイオード電流を流し、センサの出力電
圧をlog、0にj准く 。
各ダイオード8の出力信号は反転されて列導線2に結ば
れた少くとも1つの別の自己阻止性トランジスタ12に
導かれる。放射線照射によりこのトランジスタは正の制
御電圧を受は導電性となる。列導線電位は照射が続く限
りlog、0にとどまる。各列導線2には1つ又はそれ
以上のトランジスタ12が所属する。複数のダイオード
8又はトランジスタ+2がメモリフィールド内に設けら
れていると、総てのダイオード8の出力信号はNAND
素子13で反転さ7t1つにまとめられ℃別のトランジ
スタ12に7JOえられる。インバータは増幅作用又は
シュミット回路機能又はその双方を示すものが有利であ
る。
れた少くとも1つの別の自己阻止性トランジスタ12に
導かれる。放射線照射によりこのトランジスタは正の制
御電圧を受は導電性となる。列導線電位は照射が続く限
りlog、0にとどまる。各列導線2には1つ又はそれ
以上のトランジスタ12が所属する。複数のダイオード
8又はトランジスタ+2がメモリフィールド内に設けら
れていると、総てのダイオード8の出力信号はNAND
素子13で反転さ7t1つにまとめられ℃別のトランジ
スタ12に7JOえられる。インバータは増幅作用又は
シュミット回路機能又はその双方を示すものが有利であ
る。
メモリフィールド1bを含む第2図の実施例ではセンサ
が光伝導素子14によって、阻止回路10bは自己尋電
性のトランジスタ15で制御さnるトランジスタ16に
よって実現される。光伝導素子14が放射線で照射され
ないときは僅かに導電性である。この状態でトランジス
タ】6の制御入力端は自己専゛屯性のトランジスタ15
により地電位に置かれ阻止される。硬放射線照射(二よ
り元価導性となるとトランジスタ16の側御入力端は光
伝導素子14を通して動作電圧U。c(=結ばれて導通
状態になり1列導線2はその制御区間(−おいて地電位
に置かれる。光伝導素子14は標準技術ではポリシリコ
ン抵抗となる。センサ(=は例えばフォトサイリスタも
適当である。
が光伝導素子14によって、阻止回路10bは自己尋電
性のトランジスタ15で制御さnるトランジスタ16に
よって実現される。光伝導素子14が放射線で照射され
ないときは僅かに導電性である。この状態でトランジス
タ】6の制御入力端は自己専゛屯性のトランジスタ15
により地電位に置かれ阻止される。硬放射線照射(二よ
り元価導性となるとトランジスタ16の側御入力端は光
伝導素子14を通して動作電圧U。c(=結ばれて導通
状態になり1列導線2はその制御区間(−おいて地電位
に置かれる。光伝導素子14は標準技術ではポリシリコ
ン抵抗となる。センサ(=は例えばフォトサイリスタも
適当である。
記憶場1a、tbが部分的に照射されるだけで読み出し
の阻止が行われるようにするため、第1図に示すように
複数のセンサ(フォトダイオード8、光伝導素子14)
とそれに組合される阻止回路を設け、互に無関係に接続
する。このセンサはメモリフィールド1a、lb内f二
適当に分布して配置する。この場合複数のセンサが1つ
のlog論理回路1例えば第1図のNAND素子13を
通して阻止回路10a、10b又は列導線2に作用する
。
の阻止が行われるようにするため、第1図に示すように
複数のセンサ(フォトダイオード8、光伝導素子14)
とそれに組合される阻止回路を設け、互に無関係に接続
する。このセンサはメモリフィールド1a、lb内f二
適当に分布して配置する。この場合複数のセンサが1つ
のlog論理回路1例えば第1図のNAND素子13を
通して阻止回路10a、10b又は列導線2に作用する
。
第3図、第4図にダイオード8とそれ(二属する頁萌ト
ランジスタ11の構成を示す。pn接合ダイオード)よ
標準的の製造工程(二より通常のnテヤイ・ルニ重ノリ
コンゲート型として製作される。放射感度を高めるため
このダイオードにはpn接合22を長くするストライプ
購造を採用する。実施例においてはp−型基板23の上
に第1マスクを使用してn 型にドープされた領域24
を通常のソース・ドレン・ドーピング法によっ1作る。
ランジスタ11の構成を示す。pn接合ダイオード)よ
標準的の製造工程(二より通常のnテヤイ・ルニ重ノリ
コンゲート型として製作される。放射感度を高めるため
このダイオードにはpn接合22を長くするストライプ
購造を採用する。実施例においてはp−型基板23の上
に第1マスクを使用してn 型にドープされた領域24
を通常のソース・ドレン・ドーピング法によっ1作る。
フォトダイオードのp型区域25はノース・ドレン・ド
ーピング(二対して保護され、基礎材料のドーピング型
を保持する。
ーピング(二対して保護され、基礎材料のドーピング型
を保持する。
フォトダイオードの陰極のp型区域25は基板23上で
地電位に置かれる。このp型区域25の上方では酸化シ
リコン層26が除去される。デバイスは全面的の窒化ノ
リフン層29(二よζ]外部にχJして閉鎖されろ。更
に負荷トランジスタ11の醐続線と阻止回路10a、b
に幻する総ての接続株はノリフン層27ど埋込み接触3
0を通して接続され相互に結ばれる。これらは更にその
上に設けられたポリシリコン層28によって外部に71
して遮蔽される。
地電位に置かれる。このp型区域25の上方では酸化シ
リコン層26が除去される。デバイスは全面的の窒化ノ
リフン層29(二よζ]外部にχJして閉鎖されろ。更
に負荷トランジスタ11の醐続線と阻止回路10a、b
に幻する総ての接続株はノリフン層27ど埋込み接触3
0を通して接続され相互に結ばれる。これらは更にその
上に設けられたポリシリコン層28によって外部に71
して遮蔽される。
夷1図、第2図はこの発明(:よ1」保護されたメモリ
セルの接続図、果3図はメモリセルの平面図、第4図は
第3図のメモリセルの断面図である。 第1図において、1aはメモリセル5のマトリックスを
含む記憶場、6は選択トランジスタ、7はメモリトラン
ジスタ、8は放射感応センサ、ioaは阻止回路である
。 FIG3 FIG4
セルの接続図、果3図はメモリセルの平面図、第4図は
第3図のメモリセルの断面図である。 第1図において、1aはメモリセル5のマトリックスを
含む記憶場、6は選択トランジスタ、7はメモリトラン
ジスタ、8は放射感応センサ、ioaは阻止回路である
。 FIG3 FIG4
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)少くとも1つのメモリセル(5)の出力端が少くと
も1つの放射感応センサ(8、14)の制御の下に少く
とも1つの阻止回路(10a、b)を使用して規定電位
に置かれることを特徴とするE^2PROMから成る記
憶場(1a、b)を含む集積MOS回路。 2)阻止回路(10a、b)が1つのトランジスタ(1
2、16)から成り、その制御区間はメモリセル(5)
の出力端と規定電位( GND)の間にあり、その制御入力端はセンサ(8、1
4)に接続されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のMOS回路。 3)複数のセンサ(8、14)とそれに属する阻止回路
(10a、b)とが互に無関係に引き出され、少くとも
センサ(8、14)が幾何学的に分布して記憶場(1a
、b)内に設けられていることを特徴とする特許請求の
範囲第1項又は第2項記載のMOS回路。 4)複数のセンサ(8、14)の出力端がOR論理素子
を通して少くとも1つの阻止回路(10a、b)に接続
されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至
第3項の1つに記載のMOS回路。 5)論理素子が増幅特性とシユミツト回路特性を示すこ
とを特徴とする特許請求の範囲第4項記載のMOS回路
。 6)記憶場(1a、b)とセンサが光非透過性の表面安
定化層によって全面的に被覆されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項乃至第5項の1つに記載のMO
S回路。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3435495 | 1984-09-27 | ||
DE3435495.6 | 1984-09-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6184054A true JPS6184054A (ja) | 1986-04-28 |
Family
ID=6246514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60210898A Pending JPS6184054A (ja) | 1984-09-27 | 1985-09-24 | 集積mos回路 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4910707A (ja) |
EP (1) | EP0178512B1 (ja) |
JP (1) | JPS6184054A (ja) |
AT (1) | ATE43744T1 (ja) |
DE (1) | DE3570792D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005503662A (ja) * | 2001-05-03 | 2005-02-03 | エイチアールエル ラボラトリーズ,エルエルシー | リバースエンジニアリングを防止するためのビット線ブロック及び/あるいはワード線ブロックを有するメモリ |
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DE4212111C2 (de) * | 1992-04-10 | 2003-05-22 | Angewandte Digital Elektronik | Indikation unsachgemäß behandelter Chipkarten |
JPH0793977A (ja) * | 1993-04-26 | 1995-04-07 | Samsung Electron Co Ltd | 半導体メモリ装置の中間電圧発生回路 |
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EP1128248B1 (de) * | 2000-02-21 | 2016-09-14 | Infineon Technologies AG | Halbleiterchip mit einem lichtempfindlichen Element |
DE10101995A1 (de) * | 2001-01-18 | 2002-07-25 | Philips Corp Intellectual Pty | Schaltungsanordnung und Verfahren zum Schützen mindestens einer Chipanordnung vor Manipulation und/oder vor Mißbrauch |
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DE10206186B4 (de) | 2002-02-14 | 2010-01-28 | Infineon Technologies Ag | Speichermatrix und Verfahren zur Absicherung einer Speichermatrix |
DE10218096A1 (de) * | 2002-04-23 | 2003-11-13 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Schaltung |
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DE10345240A1 (de) * | 2003-09-29 | 2005-05-04 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Schaltung mit Strahlungssensoranordnung |
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WO2009031057A2 (en) * | 2007-09-04 | 2009-03-12 | Nds Limited | Security chip |
GB2488583A (en) * | 2011-03-03 | 2012-09-05 | Nds Ltd | Preventing unauthorized access to data stored in non-volatile memories |
WO2017138773A1 (ko) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 한양대학교 산학협력단 | 보안 반도체 칩 및 그 동작 방법 |
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