JPS618153A - スプレ−ノズル - Google Patents
スプレ−ノズルInfo
- Publication number
- JPS618153A JPS618153A JP12734684A JP12734684A JPS618153A JP S618153 A JPS618153 A JP S618153A JP 12734684 A JP12734684 A JP 12734684A JP 12734684 A JP12734684 A JP 12734684A JP S618153 A JPS618153 A JP S618153A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jet
- slits
- nozzle
- film
- ejection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、比較的に大容量の液体を噴霧する例えば地熱
ジェットコンデンサー用等のスプレーノズルに関するも
のである。
ジェットコンデンサー用等のスプレーノズルに関するも
のである。
前記地熱ジェットコンデンサー用のスプレーノズルにつ
いて従来例を説明すると、第2図、第3図に示すように
ノズル本体(a)の外周部に斜設された複数の人口(b
)から高圧の流体(C)が流入され、該流体(C)はノ
ズル本体(α)内で旋回流(イ)となり噴出口部(cL
)から噴出される構造になっており、噴出口部(d)か
ら噴出されて膜状円錐形1口)になってスプレーされる
構造になっている。
いて従来例を説明すると、第2図、第3図に示すように
ノズル本体(a)の外周部に斜設された複数の人口(b
)から高圧の流体(C)が流入され、該流体(C)はノ
ズル本体(α)内で旋回流(イ)となり噴出口部(cL
)から噴出される構造になっており、噴出口部(d)か
ら噴出されて膜状円錐形1口)になってスプレーされる
構造になっている。
しかし、従来の前記スプレーノズルにおいては、流体が
膜状円錐形になってスプレーされるため流体の微粒化が
不十分であって小さい滴状の流体を必要とする例えば地
熱用コンテンサーの冷却水スプレーノズルに使用すると
伝熱性能が悪くなる欠点を有し、また、スプレーノズル
を小さくすると、旋回力が小さくなって不均一な膜状と
なり、液体の圧縮が大きくなって小型化できないなどの
欠点がある。
膜状円錐形になってスプレーされるため流体の微粒化が
不十分であって小さい滴状の流体を必要とする例えば地
熱用コンテンサーの冷却水スプレーノズルに使用すると
伝熱性能が悪くなる欠点を有し、また、スプレーノズル
を小さくすると、旋回力が小さくなって不均一な膜状と
なり、液体の圧縮が大きくなって小型化できないなどの
欠点がある。
本発明は、従来のスプレーノズルにおける前記のような
欠点を解消するために開発されたものであって、ノズル
本体の噴出口部に複数の噴出スリットを併設するととも
に、前記噴出スリットの噴出方向は膜状噴出液体の相互
が衝突する異傾斜の構成にしたことに特徴を有し、その
目的とする処は、噴出口部に複数の噴出スリットを併設
し、かつ噴出スリットの噴出方向を異傾斜にして膜状噴
出液体が相互に衝突するようにすることにより、ノズル
本体内で液体を旋回させる必要がなくなって、ノズル本
体をコンノセクトに形成できかつ小型にしても液体の圧
縮が殆んどなく噴出速度が高められさらに膜状噴出液体
相互の衝突によって噴出流体の微細化が著しく高められ
たものとなり、ノズルのコンパクト化とともにスプレー
効果が著しく向上されて前記のような従来の欠点を解消
したスプレーノズルを供する点にある。
欠点を解消するために開発されたものであって、ノズル
本体の噴出口部に複数の噴出スリットを併設するととも
に、前記噴出スリットの噴出方向は膜状噴出液体の相互
が衝突する異傾斜の構成にしたことに特徴を有し、その
目的とする処は、噴出口部に複数の噴出スリットを併設
し、かつ噴出スリットの噴出方向を異傾斜にして膜状噴
出液体が相互に衝突するようにすることにより、ノズル
本体内で液体を旋回させる必要がなくなって、ノズル本
体をコンノセクトに形成できかつ小型にしても液体の圧
縮が殆んどなく噴出速度が高められさらに膜状噴出液体
相互の衝突によって噴出流体の微細化が著しく高められ
たものとなり、ノズルのコンパクト化とともにスプレー
効果が著しく向上されて前記のような従来の欠点を解消
したスプレーノズルを供する点にある。
以下、本発明を図示の実施例によって説明する。
第1図に本発明の一実施例を示しており、図中(1)は
ノズル本体であって、該ノズル本体(1)の後部(図示
左端側)を圧力流体の人口(2)に形成するとともに、
ノズル本体(1)前部(図示右端側)の噴出口部には、
複数の噴出スリット(3α)、(3b)を併設するとと
もに、噴出スリット(3α)、C3h)の少なくとも内
面側は傾斜面とし、噴出スリット(3α)と(3h)の
噴出方向は、それらから噴出される゛膜状噴出流体(ハ
)に)が相互に衝突するように異なる傾斜面(5α)、
(,6A)に構成している。
ノズル本体であって、該ノズル本体(1)の後部(図示
左端側)を圧力流体の人口(2)に形成するとともに、
ノズル本体(1)前部(図示右端側)の噴出口部には、
複数の噴出スリット(3α)、(3b)を併設するとと
もに、噴出スリット(3α)、C3h)の少なくとも内
面側は傾斜面とし、噴出スリット(3α)と(3h)の
噴出方向は、それらから噴出される゛膜状噴出流体(ハ
)に)が相互に衝突するように異なる傾斜面(5α)、
(,6A)に構成している。
さらに、前記噴出スリット(3す、C3b)について詳
述すると、前記ノズル本体(1)は筒状に形成され、円
形筒状の場合には、ノズル′本体(11の中心軸線上に
中心部材(5)を配設して該中心部材(5)の突出部に
おける外周面部を前記傾斜面(5α)に形成するととも
に、前記中心部材(5)の外周面に対して噴出スリット
(3α)形成の間隔を存しかつノズル本体(1)の噴出
口部に対し噴出スリット(3b)形成の間隔を存して環
状部材(6)を配設し、該環状部材(6)の外周面部を
前記傾斜面(6b)に形成した構成になっており、前記
噴出スリット(3α)と(3りは、ノズル本体(1)の
噴出口部に同心配置の環状断面形を有しかつ径方向に段
設されている。
述すると、前記ノズル本体(1)は筒状に形成され、円
形筒状の場合には、ノズル′本体(11の中心軸線上に
中心部材(5)を配設して該中心部材(5)の突出部に
おける外周面部を前記傾斜面(5α)に形成するととも
に、前記中心部材(5)の外周面に対して噴出スリット
(3α)形成の間隔を存しかつノズル本体(1)の噴出
口部に対し噴出スリット(3b)形成の間隔を存して環
状部材(6)を配設し、該環状部材(6)の外周面部を
前記傾斜面(6b)に形成した構成になっており、前記
噴出スリット(3α)と(3りは、ノズル本体(1)の
噴出口部に同心配置の環状断面形を有しかつ径方向に段
設されている。
なお、図示した前記噴出スリット(3α)と(3h)は
、ノズル本体(1)の噴出口部の前!Allに配設した
状態にしているが、該噴出口部内に形成することもでき
、また、前記中心部材(5)、環状部材(6)およびノ
ズル本体(1)は、それらの相互間隔を確定するために
、例えば径方向の連結部材(図示省略)等によって連設
されている。
、ノズル本体(1)の噴出口部の前!Allに配設した
状態にしているが、該噴出口部内に形成することもでき
、また、前記中心部材(5)、環状部材(6)およびノ
ズル本体(1)は、それらの相互間隔を確定するために
、例えば径方向の連結部材(図示省略)等によって連設
されている。
図示した本発明の実施例は、前記のような構成になつお
り作用効果について説明すると、ノズル本体(1)の噴
出口部に複数の噴出スリット(3α)、C3b)を併設
するとともに、前記噴出スリット(3α)(3b)の噴
出方向は、異傾斜の傾斜面(5α)(6b)によってそ
れらの膜状噴出流体(ハ)、に)が相互に衝突するよう
に構成されているため、ノズル本体(1)内で圧力流体
を旋回させないでも前記噴出スリット(3α)と(3b
)のそれぞれから膜状噴出流体(ハ)、に)を円滑に噴
出できる。即ち、圧力流体の人口(2)をノズル本体(
1)の側面部に形成できて、ノズル本体(1)の断面形
を大幅に小さく即ちノズルをコンパクトに形成できると
ともK、従来のような旋回による流体の圧縮を著しく低
減できかつ流速の低減を防止でき、さらに、膜状噴出流
体(ハ)、(ロ)は噴出後に図示のように相互に衝突す
るため、著しく微細化されて噴霧状になりスプレー効果
が格段に向上される。従ってまた、例えば地熱用コンデ
ンサーの冷却水スプレーノズルに使用すると、噴出流体
の微粒化によって伝熱性能を著しく高めることができ、
応用範囲を拡大できる。
り作用効果について説明すると、ノズル本体(1)の噴
出口部に複数の噴出スリット(3α)、C3b)を併設
するとともに、前記噴出スリット(3α)(3b)の噴
出方向は、異傾斜の傾斜面(5α)(6b)によってそ
れらの膜状噴出流体(ハ)、に)が相互に衝突するよう
に構成されているため、ノズル本体(1)内で圧力流体
を旋回させないでも前記噴出スリット(3α)と(3b
)のそれぞれから膜状噴出流体(ハ)、に)を円滑に噴
出できる。即ち、圧力流体の人口(2)をノズル本体(
1)の側面部に形成できて、ノズル本体(1)の断面形
を大幅に小さく即ちノズルをコンパクトに形成できると
ともK、従来のような旋回による流体の圧縮を著しく低
減できかつ流速の低減を防止でき、さらに、膜状噴出流
体(ハ)、(ロ)は噴出後に図示のように相互に衝突す
るため、著しく微細化されて噴霧状になりスプレー効果
が格段に向上される。従ってまた、例えば地熱用コンデ
ンサーの冷却水スプレーノズルに使用すると、噴出流体
の微粒化によって伝熱性能を著しく高めることができ、
応用範囲を拡大できる。
なお、前記実施例では、噴出スリットを2段に設けた場
合について説明したが、3段以上にも随時に形成できる
。
合について説明したが、3段以上にも随時に形成できる
。
以上本発明を実施例について説明したが、勿論本発明は
このような実施例にだけ局限されるものではなく、本発
明の精神を逸脱しない範囲内で種々の設計の改変を施し
うるものである。
このような実施例にだけ局限されるものではなく、本発
明の精神を逸脱しない範囲内で種々の設計の改変を施し
うるものである。
第1図は本発明の一実施例を示すスプレーノズルの縦断
面図、第2図は従来のスプレーノズルを示す縦断面図、
第3図は第2図の右側視を示す正面図である。 l:ノズル本体 2二人口 3α、3h:噴出スリット 5:中心部材5α、6b:
傾斜面 6:環状部材二、ハ:膜状噴出流体 復代理人 弁理士開本重文 外3名
面図、第2図は従来のスプレーノズルを示す縦断面図、
第3図は第2図の右側視を示す正面図である。 l:ノズル本体 2二人口 3α、3h:噴出スリット 5:中心部材5α、6b:
傾斜面 6:環状部材二、ハ:膜状噴出流体 復代理人 弁理士開本重文 外3名
Claims (1)
- ノズル本体の噴出口部に複数の噴出スリットを併設する
とともに、前記噴出スリットの噴出方向は膜状噴出液体
の相互が衝突する異傾斜の構成にしたことを特徴とする
スプレーノズル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12734684A JPS618153A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | スプレ−ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12734684A JPS618153A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | スプレ−ノズル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS618153A true JPS618153A (ja) | 1986-01-14 |
Family
ID=14957651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12734684A Pending JPS618153A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | スプレ−ノズル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS618153A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6383286A (ja) * | 1986-09-27 | 1988-04-13 | Anelva Corp | エツチング装置 |
US5494494A (en) * | 1992-06-24 | 1996-02-27 | Anelva Corporation | Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing substrates |
US5855726A (en) * | 1995-07-19 | 1999-01-05 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US5882165A (en) * | 1986-12-19 | 1999-03-16 | Applied Materials, Inc. | Multiple chamber integrated process system |
US6537012B2 (en) | 1999-10-29 | 2003-03-25 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and a vacuum processing system |
US6672819B1 (en) | 1995-07-19 | 2004-01-06 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
-
1984
- 1984-06-22 JP JP12734684A patent/JPS618153A/ja active Pending
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6383286A (ja) * | 1986-09-27 | 1988-04-13 | Anelva Corp | エツチング装置 |
US5882165A (en) * | 1986-12-19 | 1999-03-16 | Applied Materials, Inc. | Multiple chamber integrated process system |
US5494494A (en) * | 1992-06-24 | 1996-02-27 | Anelva Corporation | Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing substrates |
US5505779A (en) * | 1992-06-24 | 1996-04-09 | Anelva Corporation | Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing substrates |
US6752580B2 (en) | 1995-07-19 | 2004-06-22 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6188935B1 (en) | 1995-07-19 | 2001-02-13 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6430469B2 (en) | 1995-07-19 | 2002-08-06 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6526330B2 (en) | 1995-07-19 | 2003-02-25 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6672819B1 (en) | 1995-07-19 | 2004-01-06 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6705828B2 (en) | 1995-07-19 | 2004-03-16 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6752579B2 (en) | 1995-07-19 | 2004-06-22 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US5855726A (en) * | 1995-07-19 | 1999-01-05 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6895685B2 (en) | 1995-07-19 | 2005-05-24 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6962472B2 (en) | 1995-07-19 | 2005-11-08 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US7201551B2 (en) | 1995-07-19 | 2007-04-10 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US7347656B2 (en) | 1995-07-19 | 2008-03-25 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same |
US6537012B2 (en) | 1999-10-29 | 2003-03-25 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and a vacuum processing system |
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