JPS6181086A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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JPS6181086A
JPS6181086A JP59203119A JP20311984A JPS6181086A JP S6181086 A JPS6181086 A JP S6181086A JP 59203119 A JP59203119 A JP 59203119A JP 20311984 A JP20311984 A JP 20311984A JP S6181086 A JPS6181086 A JP S6181086A
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JP
Japan
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subject
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Pending
Application number
JP59203119A
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English (en)
Inventor
Yuichiro Ito
雄一郎 伊藤
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は固体撮像装置の改善に関する。
光学的画像を電気信号に変換する撮像装置は、テレビジ
ョン等の一般的情報から各種の専門的分野まで広く利用
されている。
またその対象とする光の波長も可視光に止まらず赤外領
域等に及んでいるが、赤外線撮像の場合にはその画像信
号に対する背景光の影響が特に著しく、その改善が要望
されている。
(従来の技術〕 光学的信号を電気信号に変換する半導体光検知素子には
、pn接合を備えてこれに光が入射すると起電力を発生
する光起電(Pho tovo l ta ic)形、
及び半導体基体にポテンシャル井戸を形成してこれに光
が入射するとキアリアが蓄積される旧S形などがある。
固体を最像装置ではこのような光検知素子で得られた各
画素の電気信号を時系列多重化して画像信号が構成され
る。このために光検知素子が単−又は1次元アレイ配列
である場合には画像の走査が必要であり、また光検知素
子が2次元プレイ配列である場合をも含めて、信号の蓄
積、読出しくサンプリング)、転送などの処理が必要と
なる。
固体撮像装置においては、この信号処理には電荷転送装
置(CTD)が通常用いられる。CTDには電界による
電荷結合によってポテンシャル井戸に蓄積した電荷を転
送する電荷結合装置(CCD)及びトランジスタのスイ
ッチングによって接合容量又は浮遊容量に蓄積した電荷
を転送するバケソトブリゲード装置(BBD)がある。
なお↑最像装置の固体化に際して、前記の光検知素子と
CTDとを同一半導体基板上に形成するモノリシック構
造と、異なる半導体基板上にそれぞれ;      を
形成して両者を接続するパ9ブリ゛・ド構造とが1、、
        ある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の固体撮像装置は以上説明した如き構成で、光検知
素子から得られた電流又は電位をそのまま画像信号とし
て処理している。従って、この画像信号には撮像対象物
からの有効な成分の他に、背景光成分が含まれている。
しかしながら熱放射エネルギーの分布を撮像する赤外線
撮像等に際しては、エネルギーの相対的に僅少な強度差
を検知することが要求されて、撮像対象物から得られる
有効な信号成分に対して、背景光成分の比率が極めて大
きく、グイナミソクレンジが狭くなり、信号対雑音比も
甚だ小さくなる。
〔問題点を解決するための手段〕
前記問題点は、撮像対象物から入射する光を受光する第
1の光検知素子と、擬似背景光を受光する第2の光検知
素子とを備えて、該第1の光検知素子の出力信゛号中の
背景光成分を該第2の光検知〕 素子の出力信号を用いて除去する本発明による固  を
体操像装置により解決される。           
 )前記本発明による固体撮像装置の実施態様として特
に、 前記第1の光検知素子と前記第2の光検知素子とを各画
素領域に備えてなる固体撮像装置。
前記第1及び第2の光検知素子がpn接合を有するホト
ダイオード素子であり、該第1と第2の光検知素子を相
互に逆方向に接続して、該第1と第2の光検知素子の出
力信号の差を求める固体撮像装置。
前記撮像対象物からの光と前記擬似背景光とを、相互に
反対の方向から入射させる固体↑最像装置。
をあげることが出来る。
(作 用〕 先に述べた如く、撮像対象物から入射する光を受光する
第1の光検知素子から得られる出力信号■、は、撮像対
象物の有効な信号成分I sigの他に、背景光成分I
bkyaを含んでいて、 L = l5=9+ Ib++qa         
  (1)と表すことが出来る。
本発明の固体撮像装置は第2の光検知素子を備えて、そ
の出力信号I2が、 Iz#■b+cgd(2) となるように、これに擬似背景光を入射する。
この第1及び第2の光検知素子の出力信号の差I0を求
めれば、 ■。=It  Iz −Lie + Ibi+sa  Ibm□#1.、、 
              (3)となって撮像対象
物の有効な信号成分子si9のみを得ることが出来る。
特にこの撮像対象物の有効な信号成分子ingの抽出を
、前記信号の転送、蓄積などの処理に先立って実施する
ことによって、最も大きい効果が得られる。
〔実施例〕
以下本発明を実施例により具体的に説明する。
添付図面は、光検知素子と前記CCDとをそれぞれ異な
る半導体′基板に形成したハイブリッド構造の固体を最
像装置にかかる、本発明の実施例の模式側断面図を示す
図において、1は光検知素子が設けられた第1の半導体
基板、2はCCDが設けられた第2の半導体基板である
。本実施例は赤外撮像装置であって、半導体基+7i 
1には目的とする波長帯域に対して透明な、例えば、ガ
リウム・アンチモン(GaSb)、カドミウム・テルル
(CdTe)等の化合物半導体が用いられる。
この第1の半導体基板1上に、目的とする波長帯域に適
合する半導体層3を、例えばGaSb基板に対してイン
ジウム・砒素・アンチモン(InAsSb)、CdTe
基板に対して水銀・カドミウム・テルル(HgCdTe
)等によってエピタキシャル成長する。
本実施例では、この半導体層3をp型とし、これにn型
領域4を設け、素子間分離を行って、2次元マトリクス
状に配列された各画素領域にそれぞれ2個のホトダイオ
ード素子5及び6を形成している。このホトダイオード
素子5は撮像対象物から入射する光を受光する第1の光
検知素子、ホトダイオード素子6は擬似背景光を受光す
る第2の光検知素子である。
更に半導体基板1のホトダイオード素子の反対面上には
、ホトダイオード素子5上を除いてこの素子が感度をも
つ波長帯域に対して不透明な皮膜7が設けられている。
他方、CCDが設けられた第2の半導体基板2にはp型
シリコン(Si)が用いられているが、このSiも赤外
光に対して透明である。この第2の半導体基板2上に、
p゛型の基板端子8、n゛型の入力拡散層9、入力ゲー
ト10、電荷転送電極11.12等が設けられている。
前記ホトダイオード素子5のp型半導体層3とホトダイ
オード素子6のn型領域4とはCCD基板2のp゛型基
板端子8に接続され、他方ホトダイオード素子5のn型
領域4とホトダイオード素子6のp型半導体N3とはC
CD基板2のn゛型人力拡散層9に接続される。すなわ
ち2個のホトダイオード素子は相互に逆方向に、金属配
線等によって接続される。
撮像対象物から入射する光13は、前記不透明皮膜7の
開口から半導体基板1を透過して、ホトダイオード素子
5に入射し光電流!、を生ずる。他方CCD基板2側か
ら擬似背景光14を入射させて、ホトダイオード素子6
から光電流I2を取り出す。この際に、ホトダイオード
素子5については擬似背景光14は金属配線等によって
遮蔽され、ホトダイオード素子6については撮像対象物
からの光13は不透明皮膜7によって遮蔽される。。
上述の接続により光電mLと光電流I2との差I0が得
られ、 Io=■+  Iz#I−i* であることから、CCD基板2のn+型大入力拡散層9
は撮像対象物の有効な信号成分I sigのみが入力さ
れる。
なお前記擬似背景光は、例えば熱源にジュール熱を用い
て制御性良く容易に照射することができる。
以上説明した本実施例においては、CCDに撮像対象物
の有効な信号成分1 sagのみが入力され、例えば常
温の物体を対象として背景光が極めて多い10μm帯域
の撮像等においても、電荷蓄積容量が小さいCCDを効
率良く使用することができる。
しかしながら、本発明による撮像対象物の有効な信号成
分l1i9の抽出は、画像信号処理の任意の段階で実施
することが可能であり、擬似背景光を受光する光検知素
子の位置は、撮像装置の画像信号処理を考慮して選択す
ることができる。
また光検知素子の構造も本実施例の構造に限られず、任
意の構造を用いることができる。
〔発明の効果〕
以上説明した如く本発明によれば、固体撮像装置の画像
信号から背景光成分を除去し、撮像対象物の有効な成分
のみを信号として処理することが可能となり、ダイナミ
ックレンジを拡大し、信号対雑音比を改善するなど、画
像の品位を大きく向上することができる。
更に本発明により、信号処理系の従来無駄であった容量
を削減することが可能となり、固体I最像装置の集積度
の向上環を推進することができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示す模式側断面図である。 図において、 1は光検知素子の半導体基板、 2はCCDの半導体基板、 3はp型半導体層、 4はn型領域、 5は撮像対象物から入射する光を受光するホトダイオー
ド素子、 6は擬似背景光を受光するホトダイオード素子、7は不
透明皮膜、 8はp°型基板端子、 9はn゛型大入力拡散層9 10は入力ゲート、 11及び12は電荷転送電極、 13は撮像対象物から入射する光、 14は擬似背景光、を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、撮像対象物から入射する光を受光する第1の光検知
    素子と、擬似背景光を受光する第2の光検知素子とを備
    えて、該第1の光検知素子の出力信号中の背景光成分を
    該第2の光検知素子の出力信号を用いて除去することを
    特徴とする固体撮像装置。 2、前記第1の光検知素子と前記第2の光検知素子とを
    各画素領域に備えてなることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の固体撮像装置。 3、前記第1及び第2の光検知素子がpn接合を有する
    ホトダイオード素子であり、該第1と第2の光検知素子
    を相互に逆方向に接続して、該第1と第2の光検知素子
    の出力信号の差を求めることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項又は第2項記載の固体撮像装置。 4、前記撮像対象物からの光と前記擬似背景光とを、相
    互に反対の方向から入射させることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の固体撮像装置
JP59203119A 1984-09-28 1984-09-28 固体撮像装置 Pending JPS6181086A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2594544A1 (fr) * 1986-02-17 1987-08-21 Messerschmitt Boelkow Blohm Dispositif a capteurs photoelectriques a compensation du courant d'obscurite

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5451317A (en) * 1977-09-29 1979-04-23 Fujitsu Ltd Infrared-ray video equipment
JPS5792983A (en) * 1980-11-28 1982-06-09 Fujitsu Ltd Solid-state image pickup device

Patent Citations (2)

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