JPS6179644A - Transparent laminated conductive film - Google Patents

Transparent laminated conductive film

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Publication number
JPS6179644A
JPS6179644A JP59201885A JP20188584A JPS6179644A JP S6179644 A JPS6179644 A JP S6179644A JP 59201885 A JP59201885 A JP 59201885A JP 20188584 A JP20188584 A JP 20188584A JP S6179644 A JPS6179644 A JP S6179644A
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JP
Japan
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film
layer
metal oxide
transparent
laminated conductive
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Pending
Application number
JP59201885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
順二 田中
内田 宇之助
久和 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS6179644A publication Critical patent/JPS6179644A/en
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高分子フイ/L、A上c:si0、SiO2、
TiO2,2ro2、Al2O3、Ta2O5、Nb2
O3、Ta205、Nb2o1、SnO2、Ce O2
の群から選ばれた少なくとも1種以上の金属酸化物層を
設け、該金属酸化物層上にポリビニルアルコール系樹脂
からなる有機物層を設は更に該有機物層上に再度金属酸
化物層を設ける。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to polymer film/L, A top c: si0, SiO2,
TiO2, 2ro2, Al2O3, Ta2O5, Nb2
O3, Ta205, Nb2o1, SnO2, CeO2
A layer of at least one kind of metal oxide selected from the group is provided, an organic layer made of polyvinyl alcohol resin is provided on the metal oxide layer, and a metal oxide layer is provided again on the organic layer.

この様にして得た基板フィルム上の片面もしくは両面に
導電層として酸化インジウムを主成分とする被膜を形成
した透明積層導電フィルムに関するものである。
The present invention relates to a transparent laminated conductive film in which a film containing indium oxide as a main component is formed as a conductive layer on one or both sides of the substrate film obtained in this manner.

透明導電体としては、以前より酸化スズ、酸化インジウ
ム膜をガラス基板上に形成したものが知られており、今
日では各種ディスプレイの電極や透明な面発熱体等に広
く利用されている。
As transparent conductors, those formed by forming tin oxide or indium oxide films on glass substrates have been known for some time, and today they are widely used in electrodes of various displays, transparent surface heating elements, and the like.

一方、透明導電フィルムは従来のガラス基板を高分子フ
ィルムに置き替えたものであり、薄くて軽量、割れなく
フレキシブルであり、加工性が良く、大面積が可能であ
るなどガラス基板にはない種々の特徴を持っており特に
液晶用の電極材料としては有望である。
On the other hand, transparent conductive film replaces the conventional glass substrate with a polymer film, and has various advantages that glass substrates do not have, such as being thin, lightweight, unbreakable, flexible, easy to process, and can be made into large areas. It has the following characteristics and is particularly promising as an electrode material for liquid crystals.

透明導電体のフィルム化はポリエステルフィルムによっ
て始まったが、通常2紬延伸法により作製するため複屈
折を生じ、TN(ツイスト・ネマティック)型液晶表示
素子の透明電極として用いることができなかった。
The production of transparent conductor films began with polyester films, but since they are usually produced by the 2-pongee stretching method, they produced birefringence and could not be used as transparent electrodes in TN (twisted nematic) type liquid crystal display devices.

そのため−軸延伸ポリエステルフイルムが液晶素子用透
明電極として検討されているが、これを用いる場合は光
学異方性の軸を液晶素子に用いられる偏向板の軸に一致
させなくてはならず、作業性が非常に悪い。
For this reason, an axially stretched polyester film is being considered as a transparent electrode for liquid crystal elements, but when using this, the axis of optical anisotropy must align with the axis of the polarizing plate used in liquid crystal elements, and the work very bad sex.

又、−軸延伸であるため、熱時の収縮率に異方性があり
、光学的にも外観的にも透明電極としての性能を損なう
5 その他セルロース系のフィルムなどが検討されているが
、耐熱性がなく液晶表示素子の加工工程でがなり変形す
るため使用することが困難である。
In addition, because it is -axially stretched, there is anisotropy in the shrinkage rate when heated, which impairs its performance as a transparent electrode both optically and in appearance.5 Other cellulose-based films are being considered, but It is difficult to use because it has no heat resistance and warps and deforms during the manufacturing process of liquid crystal display elements.

従って液晶表示素子用電極としては、特に限定するもの
ではないが透明性が良く、非晶質で、耐熱性のあるフィ
ルムを用いなくてはならない。
Therefore, as electrodes for liquid crystal display elements, although not particularly limited, it is necessary to use a film that has good transparency, is amorphous, and has heat resistance.

そこで鋭意研究を行った結果、複屈折率が位相差にして
40度以内であり、かつ光弾性定数が2.Omm/kg
以下であり、更に200℃に於ける熱収縮率が5%以下
である高分子フィルムが最も適していることを見出した
As a result of intensive research, we found that the birefringence is within 40 degrees in terms of phase difference, and the photoelastic constant is 2. Omm/kg
It has been found that a polymer film having a heat shrinkage rate of 5% or less at 200° C. is most suitable.

しかしながら従来のガラス基板では生じなかったフィル
ム化に伴なう水蒸気や空気の拡散により液晶の著しい劣
化及び障害が起こることが判明した。
However, it has been found that significant deterioration and failure of the liquid crystal occur due to the diffusion of water vapor and air accompanying film formation, which did not occur with conventional glass substrates.

更に一般的に高分子フィルムは傷がつき易く外観上透明
性の点から何らかの保護コートが必要となっている。
Furthermore, polymer films are generally easily scratched and require some kind of protective coating from the viewpoint of transparency in appearance.

そこで鋭意検討した結果、SiC、SiO□、T + 
02、ZrO2、Al□03、Taz05、Nb2O3
,5n02、Ce02のうち、少くとも1種以上の透明
な金属酸化物層をポリビニルアルコールからなる有機物
層の両面に形成したものをベースフィルム上に設けるこ
とによって、水蒸気や空気の透過を防止し、液晶の寿命
を飛躍的に向上することが出来、更に高分子フィルムの
保護コートとしての特性をそなえた透明積層導電フィル
ムを見出したので以下に於て詳細に説明する。
As a result of careful consideration, we found that SiC, SiO□, T +
02, ZrO2, Al□03, Taz05, Nb2O3
, 5n02, and Ce02, at least one transparent metal oxide layer formed on both sides of an organic layer made of polyvinyl alcohol is provided on the base film to prevent water vapor and air from permeating, We have found a transparent laminated conductive film that can dramatically improve the lifespan of liquid crystals and also has properties as a protective coat for polymer films, which will be described in detail below.

まず第1に液晶用としては積層導電フィルムを用−)る
際のベースフィルムは、特に限定するものではないが厚
さにか)わらず複屈折率は40度以上の位相差があって
はならない。
First of all, when using a laminated conductive film for liquid crystals, the base film should have a birefringence index of 40 degrees or more, regardless of its thickness, although it is not particularly limited. No.

通常TN型液晶表示素子は明視野で用いるが、フィルム
の複屈折が大きな場合、地の部分が着色し、文字部分の
コントラストが小さくなるという欠点が生じる。
A TN type liquid crystal display element is normally used in a bright field, but if the film has a large birefringence, the background part becomes colored and the contrast of the character part becomes small.

従ってベースフィルム並びに金属酸化物、有機物層の複
屈折は全くないことが好ましいが、生産工程に於けるバ
ラツキ等も考慮した場合は複屈折率の程度は、厚さにか
)わらず位相差にして40度が限界であることを見ν1
出した。
Therefore, it is preferable that the base film, metal oxide, and organic material layers have no birefringence at all, but if variations in the production process are taken into consideration, the degree of birefringence should be determined regardless of the retardation regardless of the thickness. and found that 40 degrees is the limit ν1
I put it out.

尚この測定は位相差メータにて金属酸化物、有機物層を
設けたベースフィルムの主軸方向の光波の速度差から生
ずる位相差を測定することにより得られる。
This measurement is obtained by measuring the phase difference caused by the speed difference of light waves in the main axis direction of the base film provided with the metal oxide and organic layers using a phase difference meter.

第2の条件として光弾性定数であるが、これはフィルム
に力を加え変形した場合に於ける複屈折の生じ易さを表
わしている定数である。
The second condition is the photoelastic constant, which is a constant that represents the ease with which birefringence occurs when a force is applied to the film and the film is deformed.

一般にフィルム電極を用いた液晶セルに於し1ては、フ
ィルム電極をセットする場合とか、フィルム電極を接着
する場合など、フィルム電極に張力や圧縮応力が加わる
ことがあるが、この際に大ぎな複屈折を生じたのでは第
1の条件で記した如く、表示のコントラストが小さくな
る。
In general, in liquid crystal cells using film electrodes, tension or compressive stress may be applied to the film electrodes when setting the film electrodes or gluing the film electrodes. If birefringence occurs, as described in the first condition, the contrast of the display will be reduced.

更に重要な点は、フィルム電極を用いる場合は、液晶の
曲面表示が行なわれる場合があり、この時フィルムにか
なりの張力及び圧縮力がか・るだめ応力下に於いて大き
な複屈折を生じる材料では、同様の理由に上り表示コン
トラストを小さくするため好ましくない。
A more important point is that when film electrodes are used, curved liquid crystal display may be performed, and in this case considerable tension and compression forces are applied to the film. However, for the same reason, this is not preferable because it reduces the display contrast.

従ってフィルム電極に用いるベースフィルム並びに金属
酸化物、有機物層は応力下に於いて、出来る限り複屈折
を生じない材質が好ましい。
Therefore, the base film, metal oxide, and organic layer used in the film electrode are preferably made of materials that do not cause birefringence under stress as much as possible.

こ)で種々の透明プラスチックにつき検討した結果、光
弾性定数は2.Omm/kgが限界であり、これ以下の
値が好ましい。
As a result of examining various transparent plastics, the photoelastic constant was 2. Omm/kg is the limit, and values below this are preferable.

一般に光弾性定数の小さな材料としては、ヤング率が大
きく、即ち歪みが生じ難く、組成的には大きな分極率を
有する分子を含まないことが好ましい。
In general, as a material with a small photoelastic constant, it is preferable that the Young's modulus is large, that is, it is difficult to cause distortion, and the composition does not contain molecules with a large polarizability.

尚、光弾性定数の測定は光弾性装置を用−毫、金属酸化
物、有機物層を設けたベースフィルムにかけた応力と生
じた光弾性歯の関係から求められる。
The photoelastic constant is determined from the relationship between the stress applied to the base film provided with the film, metal oxide, and organic layer using a photoelastic device, and the resulting photoelastic tooth.

第3の条件としてベースフィルムの熱的性質であるが、
まず透明積層導電フィルムの作製時、導電層である金属
酸化物の安定化のため100″Cから200 ’Cの範
囲で熱処理を行うが、フィルムの収縮率が大きい場合に
は、金属酸化物膜に応力集中が起り、シワやクラックが
生じる。
The third condition is the thermal properties of the base film.
First, when producing a transparent laminated conductive film, heat treatment is performed in the range of 100'C to 200'C to stabilize the metal oxide that is the conductive layer. Stress concentration occurs on the surface, causing wrinkles and cracks.

また電極パターンに加工する工程に於いては、洗浄、乾
燥等の工程を数回経るが、導電性金属酸化物層がついた
ベースフィルムの熱収縮率が大きな場合は、パターン精
度が損なわれ、その後の加工に支障をきたす。
In addition, in the process of forming an electrode pattern, washing and drying processes are performed several times, but if the base film with the conductive metal oxide layer has a large thermal shrinkage rate, pattern accuracy may be impaired. This will interfere with subsequent processing.

その他液晶表示体を組み込んだ機器が比較的高温になる
場合があ゛す、この様な環境では電極フィルムが収縮・
変形し、その機能を損なう恐れがある。
Other equipment that incorporates a liquid crystal display may reach relatively high temperatures, and in such environments the electrode film may shrink or shrink.
It may become deformed and its function may be impaired.

この様な理由か呟液晶用電極に用いるフィルムは耐熱性
が必要であり、最低限度200 ’Cに於ける収縮率が
5%以下であることが好ましい。
For this reason, the film used for the liquid crystal electrode needs to be heat resistant, and preferably has a shrinkage rate of 5% or less at a minimum temperature of 200'C.

第4には液晶等に用いる場合にはフィルムからの水蒸気
や空気の透過を防止しなければならない。
Fourthly, when used in liquid crystals or the like, it is necessary to prevent water vapor and air from permeating through the film.

一般的に用いられるシッフベース系、アゾ系、アゾキシ
系、ビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系の液晶い
ずれに於いても、加水分解を受は易いため水蒸気透過は
寿命に直接的な影響を与える。
Since commonly used Schiff base, azo, azoxy, biphenyl, and phenylcyclohexyl liquid crystals are susceptible to hydrolysis, water vapor permeation has a direct effect on their service life.

特にシッフベース系では注意が必要である。Particular attention should be paid to Schiff-based systems.

又空気が透過した場合は液晶内に気泡が生じ大きな障害
となる。
Furthermore, if air passes through the liquid crystal, air bubbles will be generated within the liquid crystal, causing a major problem.

従ってガラス基板を高分子フィルム化するためにはどう
しても水蒸気や空気の透過を防がねば液晶用途には用い
ることが出来ない。
Therefore, in order to turn a glass substrate into a polymer film, it is necessary to prevent the permeation of water vapor and air before it can be used for liquid crystal applications.

こで防止法としては水蒸気や空気をトラップ出来るベー
スフィルムを用いれば良いが、液晶等に用いる際の最も
好ましい条件である複屈折率が位相差にして40度以内
で、かつ光弾性定数が2.0mJkg以下という光学定
数を満足するためには無定形高分子でなければ達成8来
ない。
The best way to prevent this is to use a base film that can trap water vapor and air, but the most preferable conditions for use in liquid crystals, etc., are that the birefringence is within 40 degrees as a phase difference, and the photoelastic constant is 2. In order to satisfy the optical constant of .0 mJkg or less, it is necessary to use an amorphous polymer.

しかしながらこれら無定形高分子フィルムの水蒸気や空
気の透過率は一般的に大きく、液晶劣化を防止すること
は困難である。
However, the permeability of water vapor and air through these amorphous polymer films is generally high, making it difficult to prevent liquid crystal deterioration.

そこで種々の金属酸化物膜や有機物層につき鋭意検討し
た結果可視領域に於いで、透過率が85%以上で、かつ
水蒸気透過率が3 X 10′!?/cm2・24Hr
−atm以下で又空気透過率がs x i o’″sc
c/cm2・24Hr−atm以下の有機物初層の両面
に金属酸化物層を設けることによって液晶用の信頼性試
験である80℃、90%RHの環境下に於いて、実用化
が可能な基準を大巾に向上する1700時間の使用に耐
えることを見出したものである。
Therefore, we conducted extensive studies on various metal oxide films and organic layers, and found that in the visible range, the transmittance was 85% or more, and the water vapor transmittance was 3 x 10'! ? /cm2・24Hr
-Atm or less, the air permeability is s x i o'"sc
By providing a metal oxide layer on both sides of the initial layer of organic material with a thickness of c/cm2・24Hr-atm or less, a standard that can be put to practical use in an environment of 80°C and 90% RH, which is a reliability test for liquid crystals. It has been found that the material can withstand use for 1,700 hours, greatly improving the performance.

これらの金属酸化物層としては、Si○、SiO2、T
lO2、ZrO2、Al□○1、Ta205、Nb2O
3、Ta2O5、Nb2O3、SnO2、Ce O2の
群から選ばれた少なくとも一種以上を用い次にバリヤー
としての有機物層は分子間力が強く官能基濃度も高いポ
リビニルアルコール系樹脂が最も好ましく、上記の金属
酸化物層で有機物層をサンドイッチすることによりその
目的を達することを見い出した。
These metal oxide layers include Si○, SiO2, T
lO2, ZrO2, Al□○1, Ta205, Nb2O
3. Using at least one member selected from the group of Ta2O5, Nb2O3, SnO2, and CeO2, the organic layer as a barrier is most preferably a polyvinyl alcohol resin with strong intermolecular force and high concentration of functional groups; We have found that this objective can be achieved by sandwiching an organic layer with an oxide layer.

ここでバリヤ一層として金属酸化物と有機物を組み合せ
る理由であるが、金属酸化物は本来、拡散以外にガスの
透過はなく、理想的な物質であるが、一般的に金属酸化
物を高分子フィルム上に形成する方法としては、気相法
であるスパッタリングや蒸着法等で作製するが、装置内
にある微粒子、ベースフィルムの汚れや作製時の応力等
で生じるピンホールを皆無にすることは不可能であり、
金属酸化物の単独層だけでは充分なバリヤ一層とはなり
得ない。
The reason for combining a metal oxide and an organic material as a barrier layer is that metal oxides are ideal materials as they do not allow gas to pass through other than by diffusion, but metal oxides are generally used in combination with polymers. The film is formed by sputtering, vapor deposition, etc., which are vapor phase methods, but it is impossible to completely eliminate pinholes caused by fine particles in the equipment, dirt on the base film, stress during manufacturing, etc. It is impossible,
A single layer of metal oxide alone may not provide a sufficient barrier layer.

次に空気バリヤ一層として有機物を単独層として設けた
場合であるが、この目的に適する有機物としては、セル
ロース系やポリアクリルニトリル系、ポリ塩化ビニリデ
ン系、ポリアミド系樹脂等があるが、分子間力が強く官
能基濃度が高いポリビニルアルコール系樹脂が最も好ま
しい。
Next is the case where an organic material is provided as a single layer as an air barrier layer. Examples of organic materials suitable for this purpose include cellulose, polyacrylonitrile, polyvinylidene chloride, and polyamide resins. Most preferred is a polyvinyl alcohol resin that has a strong functional group concentration and a high functional group concentration.

しかしながらポリビニルアルコール系樹脂は親水性であ
るため高分子フィルムには直接強固には付着させること
は出来ず、又高湿度下では水を吸着し、水素結合を切断
させ、構造の液密性が損なわれ空気バリヤー性が急激に
低下する。
However, since polyvinyl alcohol resin is hydrophilic, it cannot be firmly attached directly to polymer films, and under high humidity it adsorbs water and breaks hydrogen bonds, impairing the liquid-tightness of the structure. The air barrier properties deteriorate rapidly.

更にポリビニルアルコール樹脂は導電膜のエツチング液
である塩酸におかされるため、単独では用いることは出
来ない。
Furthermore, polyvinyl alcohol resin cannot be used alone because it is exposed to hydrochloric acid, which is an etching solution for conductive films.

そこで以上の欠点を改善するため鋭意検討した結果、ま
ず基板である高分子フィルムに空気バリヤー性に最も優
れたポリビニルアルコール系樹脂を強固に付着させ、有
機アンダーコートに比べ数段、空気や水蒸気バリヤーと
しても優れている金属酸化物を用い、更に高湿度下での
劣化を防止し、更に耐塩酸性のため更に金属酸化物をポ
リビニルアルコール系樹脂上に形成すれば上記の欠点が
全て解決出来ることを見い出したものである。
Therefore, as a result of intensive studies to improve the above-mentioned drawbacks, we first firmly adhered polyvinyl alcohol resin, which has the best air barrier properties, to the polymer film that is the substrate. We believe that all of the above drawbacks can be solved by using a metal oxide that is excellent as a polyvinyl alcohol resin, which prevents deterioration under high humidity, and which is also resistant to hydrochloric acid by forming a metal oxide on the polyvinyl alcohol resin. This is what I discovered.

これらの金属酸化物層の厚さは特に限定しないが、10
0〜5OOOAの範囲が好ましい。
The thickness of these metal oxide layers is not particularly limited, but is 10
A range of 0 to 5OOOA is preferred.

厚さが100λ未満では連続的な膜を形成しfysため
目的とする水蒸気や空気の透過の防止を達成することは
困難である。
If the thickness is less than 100λ, a continuous film is formed and it is difficult to achieve the desired prevention of permeation of water vapor and air.

又5ooo^を越えた厚さでは、酸化物層にクラックが
入ったりして好ましくない。
Moreover, if the thickness exceeds 500^, cracks may occur in the oxide layer, which is not preferable.

バリヤ一層としての有機物層の厚さは特に限定するもの
ではないが、性能面からは、余り薄い場合はバリヤーコ
ートとしての性能が期待8来なくなるため、0.5μm
以上の厚みは必要である。。
The thickness of the organic material layer as a barrier layer is not particularly limited, but from a performance standpoint, if it is too thin, the expected performance as a barrier coat will not be achieved.
The above thickness is necessary. .

又、20μmを越える厚みでは応力が強く、カール等の
問題が生じる。
Moreover, if the thickness exceeds 20 μm, stress will be strong and problems such as curling will occur.

又、導電層として酸化インジウム等を主成分とする被膜
を形成する前、耐擦過傷性向上を目的に、高分子フィル
ム上に該フィルムに適したアンダーコートを設けてもさ
しつかえない。
Furthermore, before forming a film containing indium oxide or the like as a main component as a conductive layer, an undercoat suitable for the polymer film may be provided on the polymer film for the purpose of improving scratch resistance.

以上記した様に従来のガラス基板に替えて高分子フィル
ムベースによる透明導電性フィルムを用いることにより
、薄く、フレキシブルである新しいタイプの液晶素子の
作製が可能になると共に、生産面に於いては取扱いが容
易で、打抜き加工も可能であり、生産性を飛躍的に向上
することが出来る。
As mentioned above, by using a transparent conductive film based on a polymer film instead of a conventional glass substrate, it is possible to create a new type of thin and flexible liquid crystal element, and it is also possible to create a new type of liquid crystal element that is thin and flexible. It is easy to handle, can be punched, and can dramatically improve productivity.

更に性能面ではフィルム側からの水蒸気や空気透過を防
止したため、寿命の大巾な向上が計られ、又高分子フィ
ルムの欠点である容易に傷が入る点をも改善したもので
ある。
Furthermore, in terms of performance, since water vapor and air permeation from the film side is prevented, the service life is greatly improved, and the drawback of polymer films, which are easily scratched, is also improved.

以上主として液晶用の電極材料について述べたが、アン
ダーコートを付与した高分子フィルム上に特定の金属酸
化物層で有機物層をサンドインチしてその上あるいは、
高分子フィルムのもう一方の片面上に酸化インジウムを
主体とする被膜を有した透明積層導電フィルムは、他の
用途においてもフィルム面からの水蒸気や空気の拡散を
防ぎ、例えば種々の電気特性、信頼性等の低下を防止す
ることが出来、液晶用の電極材料同様きわめて有用なも
のである。
The above description has mainly been about electrode materials for liquid crystals.
The transparent laminated conductive film, which has a coating mainly composed of indium oxide on the other side of the polymer film, can also be used in other applications by preventing the diffusion of water vapor and air from the film surface, and improving various electrical properties and reliability. It is possible to prevent deterioration in properties, etc., and is extremely useful like electrode materials for liquid crystals.

以下、実施例により更に詳細に説明する。Hereinafter, it will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例 ベースフィルムとしては、100μm厚のポリエーテル
スルホンフィルムを用い、金属酸化物層としてSiO□
をスパッタリング法で500A厚に形成し更に有機物バ
リヤ一層としてポリビニルアルコール樹脂を5μmlt
にコートし、再びSiO□をスパッタ法で500λ厚に
形成した。
A polyether sulfone film with a thickness of 100 μm was used as the base film of the example, and SiO□ was used as the metal oxide layer.
was formed to a thickness of 500A by sputtering, and then 5 μml of polyvinyl alcohol resin was added as an organic barrier layer.
Then, SiO□ was again formed to a thickness of 500λ by sputtering.

このフィルムの複屈折率は20度であり、光弾性定数は
1.75mm/kgでり、又該フィルムの水蒸気透過率
は3X10′g/cI112・24Hr−atmであり
、空気透過率は5X10′5cc/cI112・24H
r−atmであり、可視光領域に於ける透過率は87%
であった。
The birefringence of this film is 20 degrees, the photoelastic constant is 1.75 mm/kg, the water vapor permeability of this film is 3X10'g/cI112.24Hr-atm, and the air permeability is 5X10' 5cc/cI112・24H
r-atm, and the transmittance in the visible light region is 87%.
Met.

又比較例としてのベースフィルムの水蒸気透過率はIX
 10’g/am2・24Hr−atm1又空気透過率
は2 X 10′!cc/’Cl112・24Hr−a
tllであった。
Also, the water vapor permeability of the base film as a comparative example is IX
10'g/am2・24Hr-atm1 and air permeability is 2 x 10'! cc/'Cl112・24Hr-a
It was tll.

更に、ベースフィルムのポリエーテルスルホンフィルム
上にS r 02をスパッタリング法で50OA厚、ポ
リビニルアルコール樹脂5μm厚にコートし、更にこの
上にS r 02の50OA厚の薄膜を設けたフィルム
の外側の5i02側に導電層として酸化インジウムをス
パッタリング法により250A厚に設けた透明積層導電
フィルムと、又上記ベースフィルムにSio2薄膜、ポ
リビニルアルコール樹脂及びS i O2薄膜を設けた
フィルムのベースフィルム側に導電層として酸化インジ
ウムをスパッタリングで250A厚に設けた透明積層導
電フィルムを作製した。
Further, on the polyether sulfone film of the base film, S r 02 was coated to a thickness of 50 OA and polyvinyl alcohol resin was coated to a thickness of 5 μm by a sputtering method, and a thin film of S r 02 of 50 OA thick was further provided on top of this. A transparent laminated conductive film with a thickness of 250A provided with indium oxide by sputtering as a conductive layer on the base film side, and a conductive layer on the base film side of the film in which a Sio2 thin film, a polyvinyl alcohol resin, and a SiO2 thin film were provided on the base film. A transparent laminated conductive film having a thickness of 250 A was prepared by sputtering indium oxide.

一方比較例としてベースフィルムに直接導電層とじて酸
化インジウムをスパッタリング法で250λ厚につけた
透明積層導電フィルムを作製した。
On the other hand, as a comparative example, a transparent laminated conductive film was prepared in which a conductive layer was directly attached to a base film and indium oxide was applied to a thickness of 250λ by sputtering.

以上の3種類の積層導電フィルムを用いて液晶表示用の
セルを作製し、80℃、90%RHの環境下で信頼性試
験を行った。
A cell for a liquid crystal display was prepared using the above three types of laminated conductive films, and a reliability test was conducted under an environment of 80° C. and 90% RH.

この結果本願発明のSio2薄膜、ポリビニルアルコー
ル樹脂、更にSio2薄膜を設けた前2者の透明積層導
電フィルムよりなるセルでは、実用化が可能な基準を大
巾に上回る1700時間の使用が可能であった。 一方
、ベースフィルムに直接酸化インジウム薄膜を付した比
較例より作製したセルでは、約500時間で使用が不可
能となった。
As a result, the cell made of the Sio2 thin film of the present invention, the polyvinyl alcohol resin, and the former two transparent laminated conductive films provided with the Sio2 thin film can be used for 1700 hours, which far exceeds the standard for practical use. Ta. On the other hand, a cell prepared in a comparative example in which the indium oxide thin film was directly attached to the base film became unusable after about 500 hours.

以上実施例で示した様に本願発明の透明積層導電フィル
ムは水蒸気や空気の透過を防止する金属酸化物層と有機
物層を設けることによってなり、液晶の寿命を飛躍的に
向上出来る透明積層導電フィルムであることか°わかる
As shown in the examples above, the transparent laminated conductive film of the present invention is formed by providing a metal oxide layer and an organic layer that prevent water vapor and air from passing through, and is a transparent laminated conductive film that can dramatically improve the lifespan of liquid crystals. I understand that it is.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 透明な高分子フィルムの片面にSiO、SiO_2、T
iC_2、ZrO_2、Al_2O_3、Ta_2O_
5、Nb_2O_3、SnO_2、CeO_2の群から
選ばれた少くとも1種以上の酸化物層を設けた上にポリ
ビニルアルコール系樹脂からなる有機物層を設け、更に
該有機物層上に再び上記の金属酸化物層を設ける。 このようにして得た基板フィルム上の片面もしくは両面
に導電層として酸化インジウムを主成分とする被膜を形
成した透明積層導電フィルム。
[Claims] SiO, SiO_2, T on one side of a transparent polymer film
iC_2, ZrO_2, Al_2O_3, Ta_2O_
5. On top of a layer of at least one oxide selected from the group of Nb_2O_3, SnO_2, and CeO_2, an organic layer made of polyvinyl alcohol-based resin is provided, and the above metal oxide is further placed on the organic layer again. Provide layers. A transparent laminated conductive film in which a film containing indium oxide as a main component is formed as a conductive layer on one or both sides of the substrate film thus obtained.
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