JPS6132750A - Laminated conductive film - Google Patents

Laminated conductive film

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JPS6132750A
JPS6132750A JP15407184A JP15407184A JPS6132750A JP S6132750 A JPS6132750 A JP S6132750A JP 15407184 A JP15407184 A JP 15407184A JP 15407184 A JP15407184 A JP 15407184A JP S6132750 A JPS6132750 A JP S6132750A
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JP
Japan
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film
layer
metal oxide
liquid crystal
conductive film
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Application number
JP15407184A
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Japanese (ja)
Inventor
順一 田中
内田 宇之助
久和 中村
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高分子フィルム上にSiO,5iOz、TiO
2、ZrO2、Al2O3、Ta2O5、Nb2O3、
SnO2、CeO2の群から選ばれた少なくとも1種以
上の金属酸化物層を設け、第2層目として該金属酸化物
層上に有機物層を設け、更に第3層目として該有機物層
上に導電層として酸化インジウムを主成分とする被膜を
形成した積層導電フィルムに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a method for depositing SiO, 5iOz, TiO on a polymer film.
2, ZrO2, Al2O3, Ta2O5, Nb2O3,
A layer of at least one metal oxide selected from the group of SnO2 and CeO2 is provided, an organic layer is provided as a second layer on the metal oxide layer, and a conductive layer is further provided on the organic layer as a third layer. The present invention relates to a laminated conductive film in which a film containing indium oxide as a main component is formed as a layer.

透明導電体としては、以前より酸化スズ、酸化インジウ
ム膜をガラス基板上に形成したものが知られており、今
日では各種ディスプレイの電極や透明な面発熱体等に広
く利用されている。
As transparent conductors, those formed by forming tin oxide or indium oxide films on glass substrates have been known for some time, and today they are widely used in electrodes of various displays, transparent surface heating elements, and the like.

一方、透明導電フィルムは従来のガラス基板を高分子フ
ィルムに置ぎ替えたものであり、薄くて軽量、割れなく
フレキシブルであり、加工性が良く、大面積が可能であ
るなどガラス基板にはない種々の特徴を持っており特に
液晶用の電極材料としては有望である。
On the other hand, transparent conductive films replace conventional glass substrates with polymer films, and are thin, lightweight, unbreakable, flexible, easy to process, and can be made into large areas, which glass substrates do not have. It has various characteristics and is particularly promising as an electrode material for liquid crystals.

透明導電体のフィルム化はポリエステルフィルムによっ
て始まったが、通常2軸延伸法により作製するため複屈
折を生じ、TN(ツイスト・ネマティック)型液晶表示
素子の透明電極として用いることかで外なかった。
The production of transparent conductor films began with polyester films, but since they are usually produced using a biaxial stretching method, birefringence occurs, so they could only be used as transparent electrodes in TN (twisted nematic) type liquid crystal display devices.

そのため−軸延伸ポリエステルフィルムが液晶素子用透
明電極として検討されているが、これを用いる場合は光
学異方性の軸を液晶素子に用いられる偏向板の紬に一致
させなくてはならず、作業性が非常に悪い。
For this reason, an axially stretched polyester film is being considered as a transparent electrode for liquid crystal elements, but when using this, the axis of optical anisotropy must match the pongee of the polarizing plate used in liquid crystal elements, and the work very bad sex.

又、−軸延伸であるため、熱時の収縮率に異方性があり
、光学的にも外観的にも透明電極としての性能を損なう
Furthermore, since it is -axially stretched, there is anisotropy in the shrinkage rate when heated, which impairs the performance as a transparent electrode both optically and in appearance.

その他セルロース系のフィルムなどが粉討されているが
、耐熱性がなく液晶表示素子の加工工程でかなり変形す
るだめ使用することが困難である。
Other cellulose-based films are being considered, but they are difficult to use because they are not heat resistant and deform considerably during the manufacturing process of liquid crystal display elements.

従って液晶表示素子用電極としては、特に限定するもの
ではないが透明性が良く、非晶質で、耐熱性のあるフィ
ルムを用いなくてはならない。
Therefore, as electrodes for liquid crystal display elements, although not particularly limited, it is necessary to use a film that has good transparency, is amorphous, and has heat resistance.

そこで鋭意研究を行った結果、複屈折率が位相差にして
40度以内であり、かつ光弾性定数が2.0mm/kg
以下であり、更に2O0°Cに於ける熱収縮率が5%以
下である高分子フィルムが最も適していることを見出し
た。
As a result of intensive research, we found that the birefringence is within 40 degrees in terms of phase difference, and the photoelastic constant is 2.0 mm/kg.
It has been found that a polymer film having a heat shrinkage rate of 5% or less at 200°C is most suitable.

しカルながら従来のガラス基板では生じなかったフィル
ム化に伴なう水蒸気や空気の拡散により液晶の著しい劣
化及び障害が起こることが判明した。
However, it has been found that significant deterioration and failure of the liquid crystal occurs due to the diffusion of water vapor and air accompanying film formation, which did not occur with conventional glass substrates.

そこで鋭意検討した結果、SiO,SiO2、TiO2
、ZrO2、A1.03、Ta2O5、Nb2O1、S
n○2、CeO2のうち、少なくとも1種以上の透明な
金属酸化物層をベースフィルム上に設けることによって
、水蒸気や空気の透過を防止し、液晶の寿命を飛躍的に
向上することが出来る積層導電フィルムを見出したので
以下に於て詳細に説明する。
As a result of intensive study, we found that SiO, SiO2, TiO2
, ZrO2, A1.03, Ta2O5, Nb2O1, S
By providing a transparent metal oxide layer of at least one of n○2 and CeO2 on the base film, a laminated layer that prevents the transmission of water vapor and air and dramatically improves the lifespan of the liquid crystal. A conductive film has been found and will be described in detail below.

まず第1に液晶用としては積層導電フィルムを用いる際
のベースフィルムは、特に限定するものではないが厚さ
にか)わらず複屈折率は40度以上の位相差があっては
ならない。
First of all, when using a laminated conductive film for a liquid crystal, the base film should not have a birefringence index of 40 degrees or more, regardless of thickness (although not particularly limited).

通常TN型液晶表示素子は明視野で用いるが、フィルム
の複屈折が天外な場合、地の部分が着色し、文字部分の
コントラストが小さくなるとν1う欠点が生じる。
Normally, a TN type liquid crystal display element is used in a bright field, but if the birefringence of the film is extraordinary, the background part will be colored and the contrast of the character part will be reduced, resulting in the drawback of ν1.

従ってベースフィルム並びに金属酸化物、有機物層の複
屈折は全くないことが好ましいが、生産工程に於けるバ
ラツキ等も考慮した場合は複屈折率の程度は、厚さにか
)わらず位相差にして40度が限界であることを見出し
た。
Therefore, it is preferable that the base film, metal oxide, and organic material layers have no birefringence at all, but if variations in the production process are taken into consideration, the degree of birefringence should be determined regardless of the retardation regardless of the thickness. We found that 40 degrees is the limit.

尚この測定は位相差メータにて金属酸化物、有機物層を
設けたべ一入フィルムの主軸方向の光波の速度差から生
ずる位相差を測定することにより得られる。
This measurement is obtained by measuring the phase difference caused by the speed difference of light waves in the main axis direction of a single film provided with metal oxide and organic layers using a phase difference meter.

第2の条件として光弾性定数であるが、これはフィルム
に力を加え変形した場合に於ける複屈折の生じ易さを表
わしている定数である。
The second condition is the photoelastic constant, which is a constant that represents the ease with which birefringence occurs when a force is applied to the film and the film is deformed.

一般にフィルム電極を用いた液晶セルに於り)ては、フ
ィルム電極をセットする場合とか、フィルム電極を接着
する場合など、フィルム電極に張力や圧縮応力が加わる
ことがあるが、この際に大きな複屈折を生じたのでは第
1の条件で記した如く、表示のコントラストが小さくな
る。
In general, in liquid crystal cells using film electrodes, tension or compressive stress may be applied to the film electrode when setting the film electrode or gluing the film electrode. If refraction occurs, the contrast of the display will be reduced, as described in the first condition.

更に重要な点は、フィルム電極を用tする場合は、液晶
の曲面表示が行なわれる場合があり、この時フィルムに
かなりの張力及び圧縮力がか)るため応力下に於いて大
外な複屈折を生じる材料では、同様の理由により表示コ
ントラストを小さくするため好ましくない。
An even more important point is that when film electrodes are used, liquid crystal displays may be displayed on a curved surface, and at this time considerable tension and compression forces are applied to the film, resulting in large complexities under stress. Materials that cause refraction are not preferred because they reduce display contrast for the same reason.

従ってフィルム電極に用いるベースフィルム並びに金属
酸化物、有機物層は応力下に於いて、出来る限り複屈折
を生じない材質が好ましい。
Therefore, the base film, metal oxide, and organic layer used in the film electrode are preferably made of materials that do not cause birefringence under stress as much as possible.

こ)で種々の透明プラスチックにつき検討した結果、光
弾性定数は2.0mm/kgが限界であり、これ以下の
値が好ましい。
As a result of examining various transparent plastics in this case, the photoelastic constant was found to have a limit of 2.0 mm/kg, and values below this value are preferred.

一般に光弾性定数の小さな材料としては、ヤング率が大
きく、即ち歪みが生じ難く、組成的には大外な分極率を
有する分子を含まないことが好ましい。
Generally, as a material with a small photoelastic constant, it is preferable that the Young's modulus is large, that is, it is difficult to cause distortion, and the composition does not contain molecules with an unusual polarizability.

尚、光弾性定数の測定は光弾性装置を用い、金属酸化物
、有機物層を設けたベースフィルムにかけた応力と生じ
た光弾性 の関係から求められる。
The photoelastic constant is measured using a photoelastic device and is determined from the relationship between the stress applied to the base film provided with the metal oxide and organic layers and the resulting photoelasticity.

第三の条件としてベースフィルム並びに金属酸化物、有
機物層の熱的性質であるが、まず透明積層導電フィルム
の作製時、金属酸化物の安定化のため100℃から2O
0°Cの範囲で熱処理を行うが、フィルムの収縮率が大
きい場合には、金属酸化物膜に応力集中が起り、シワや
クラックが生じる。
The third condition is the thermal properties of the base film, metal oxide, and organic layer. First, when producing the transparent laminated conductive film, heating from 100°C to 2O to stabilize the metal oxide.
Heat treatment is performed in the range of 0°C, but if the shrinkage rate of the film is large, stress concentration occurs in the metal oxide film, causing wrinkles and cracks.

また電極パターンに加工する工程に於いては、洗浄、乾
燥等の工程を数回経るが、酸化物層がついたベースフィ
ルムの熱収縮率が大きな場合は、パターン精度が損なわ
れ、その後の加工に支障をきたす。
In addition, in the process of processing into electrode patterns, steps such as washing and drying are performed several times, but if the base film with an oxide layer has a large heat shrinkage rate, pattern accuracy will be impaired and subsequent processing will be delayed. cause trouble.

その他液晶表示体を組み込んだ機器が比較的高温になる
場合があり、この様な環境では電極フィルムが収縮・変
形し、その機能を損なう恐れがある。
Other devices incorporating liquid crystal displays may reach relatively high temperatures, and in such environments the electrode film may shrink or deform, potentially impairing its functionality.

この様な理由か呟液晶用電極に用いるフィルム並びに金
属酸化物1.有機物層は耐熱性が必要であり、最低限度
2O0℃に於ける収縮率が5%以下であることが好まし
い。
For these reasons, films and metal oxides used for liquid crystal electrodes1. The organic layer needs to have heat resistance, and preferably has a shrinkage rate of at least 5% at 200°C.

第四には液晶等に用いる場合にはフィルム側からの水蒸
気や空気の透過を防止しなければならない。
Fourth, when used for liquid crystals, etc., it is necessary to prevent water vapor and air from permeating from the film side.

一般的に用いられるシッフベース系、アゾ系、アゾキシ
系、ビフェニル系、フェニルシクロヘキシル系の液晶い
ずれに於ても、加水分解を受は易いため水蒸気透過は寿
命に直接的な影響を与える。
Since commonly used Schiff base, azo, azoxy, biphenyl, and phenylcyclohexyl liquid crystals are susceptible to hydrolysis, water vapor permeation has a direct effect on their service life.

特にシッフベース系では注意が必要である。Particular attention should be paid to Schiff-based systems.

又空気が透過した場合は液晶内に気泡が生し大きな障害
となる。
Furthermore, if air passes through the liquid crystal, bubbles will form inside the liquid crystal, causing a major problem.

従ってガラス基板を高分子フィルム化するためには、ど
うしても水蒸気や空気の透過を防がねば液晶用途には用
いることが出来ない。
Therefore, in order to turn a glass substrate into a polymer film, it is necessary to prevent the permeation of water vapor and air before it can be used for liquid crystal applications.

そこで防止法としては水蒸気や空気をトラップ出来るベ
ースフィルムを用いれば良いが、液晶等に用いる際の最
も好ましい条件である複屈折率が位相差にして40度以
内で、かつ光弾性定数が2.Om+n/kg以下という
光学定数を満足するためには無定形高分子でなければ達
成出来ない。
Therefore, as a prevention method, it is possible to use a base film that can trap water vapor and air, but the most preferable conditions for use in liquid crystals, etc. are that the birefringence is within 40 degrees in terms of phase difference, and the photoelastic constant is 2. In order to satisfy the optical constant of Om+n/kg or less, it can only be achieved using an amorphous polymer.

しかしながらこれら無定形高分子フィルムの水蒸気や空
気の透過率は一般的に大きく、液晶劣化を防止すること
は困難である。
However, the permeability of water vapor and air through these amorphous polymer films is generally high, making it difficult to prevent liquid crystal deterioration.

そこで種々の金属酸化物膜につき鋭意検討した結果可視
領域に於いて、透過率が85%以上で、かつ水蒸気透過
率が2 X 10”g/cm2・24Hr以下で又空気
透過率が4×1(戸CC/c(62・24Hr以下の金
属酸化物層を設けることによって液晶用の信頼性試験で
ある80℃、90%RHの環境下に於いて、従来の基準
を大巾に上回る1300時間の使用に耐えることを見出
したものである。
Therefore, we conducted extensive studies on various metal oxide films, and found that in the visible range, the transmittance is 85% or more, the water vapor permeability is 2 x 10"g/cm2・24Hr or less, and the air permeability is 4 x 1. (CC/c) By providing a metal oxide layer of 62.24 hours or less, a reliability test for liquid crystals of 1,300 hours in an environment of 80°C and 90% RH, which far exceeds the conventional standard. It has been found that it can withstand the use of

これらの金属酸化物層としては、SiO、SiO2、T
iO2、ZrO2、AI、03、Ta=05、Nb2O
,,51102、CeO2の群から選ばれた少なくとも
一種以上を用いることにより、その目的を達することが
出来る。
These metal oxide layers include SiO, SiO2, T
iO2, ZrO2, AI, 03, Ta=05, Nb2O
, , 51102, and by using at least one selected from the group of CeO2, the purpose can be achieved.

これらの金属酸化物層の厚さは特に限定しないが、10
0〜5000Aの範囲が好ましい。
The thickness of these metal oxide layers is not particularly limited, but is 10
A range of 0 to 5000 A is preferred.

厚さがxooX未満では連続的な膜を形成しないため目
的とする水蒸気や空気の透過の防止を達成することは困
難である。
If the thickness is less than xooX, a continuous film will not be formed and it will be difficult to achieve the desired prevention of permeation of water vapor and air.

又5000Aを越えた厚さでは、酸化物層にクラックが
入ったりして好ましくない。
Moreover, if the thickness exceeds 5000 Å, cracks may occur in the oxide layer, which is not preferable.

ここで水蒸気や空気のバリヤ一層の金属酸化物上に直接
導電膜である酸化インシ゛ウムを主成分とする被膜を形
成した場合、二つの金属酸化物層間で密着力が不足して
耐擦傷性や耐折性に欠けることが判明した。
If a conductive film containing indium oxide as a main component is formed directly on a metal oxide layer as a water vapor or air barrier, the adhesion between the two metal oxide layers will be insufficient, resulting in poor scratch resistance and It turned out that it lacked flexibility.

そこで、導電性膜である酸化インジウムを主成分とする
被膜を形成する場合、有機物を薄く設けると金属酸化物
層間のクッション材の役目を果たすと共にバリヤ一層で
ある金属酸化物層の保護も兼ね備えて前述の欠点が補な
えることを見出した。
Therefore, when forming a film containing indium oxide, which is a conductive film, as a main component, providing a thin layer of organic material serves as a cushioning material between the metal oxide layers and also protects the metal oxide layer, which is a barrier layer. It has been found that the above-mentioned drawbacks can be compensated for.

有機物層としては前述の条件を満足すれば特に限定する
ものではないが、性能面からは余り薄い場合は金属酸化
物層の応力緩和が計れないため、0,5μm以上の厚み
は必要である。
The organic layer is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned conditions, but from a performance standpoint, if it is too thin, the stress relaxation of the metal oxide layer cannot be measured, so a thickness of 0.5 μm or more is required.

以上記した様に従来のガラス基板に替えて高分子フィル
ムベースによる透明導電性フィルムを用いることにより
、薄く、フレキシブルである新しいタイプの液晶素子の
作製が可能になると共に、生産面に於いては取扱いが容
易で、打抜ぎ加工も可能であり、生産性を飛躍的に向上
することが出来る。
As mentioned above, by using a transparent conductive film based on a polymer film instead of a conventional glass substrate, it is possible to create a new type of thin and flexible liquid crystal element, and it is also possible to create a new type of liquid crystal element that is thin and flexible. It is easy to handle, can be punched, and can dramatically improve productivity.

更に性能面ではフィルム側からの水蒸気や空気透過を防
止したため、寿命の大巾な向上が計られ又、高分子フィ
ルムの欠点である容易に傷が入る点をも改善したもので
ある。
Furthermore, in terms of performance, since water vapor and air permeation from the film side is prevented, the service life is greatly improved, and the drawback of polymer films, which are easily scratched, is also improved.

以上主として液晶用の電極材料について述べたが、高分
子フィルム上に特定の金属酸化物層を設け、更に有機物
層、その上に酸化インジウムを主体とする被膜を有した
積層導電フィルムは、他の用途においてもフィルム面か
らの水蒸気や空気の拡散を防ぎ、例えば種々の電気特性
、信頼性等の低下を防止することが出来、液晶用の電極
材料同様きわめて有用なものである。
The above description has mainly been about electrode materials for liquid crystals, but the laminated conductive film, which has a specific metal oxide layer on a polymer film, an organic layer, and a coating mainly made of indium oxide on top of that, is a In other applications, it can prevent the diffusion of water vapor and air from the film surface, and can prevent deterioration of various electrical properties, reliability, etc., and is extremely useful as an electrode material for liquid crystals.

以下、実施例により更に詳細に説明する。Hereinafter, it will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例 ベースフィルムとしては、100μm厚のポリエーテル
スルフォンフィルムを用い、第1層目のバリヤ一層の金
属酸化物として5in2をスパッタ法で5ooX厚に形
成し、更に第2層目の有機物層としてアクリル系樹脂を
5μ「0厚でコートした。
As the base film of the example, a polyether sulfone film with a thickness of 100 μm was used, and a 5in2 film was formed by sputtering to a thickness of 50X as the first barrier layer of metal oxide, and an acrylic layer was further formed as the second organic layer. The resin was coated with a thickness of 5 μm.

次に第3層目の導電層として酸化インジウムを該アクリ
ル系樹脂層の上に同様にスパッタ法により250A厚に
設は積層導電フィルムを作成した。
Next, as a third conductive layer, indium oxide was deposited on the acrylic resin layer to a thickness of 250 Å by the same sputtering method to create a laminated conductive film.

この際の金属酸化物、有機物層を設けたベースフィルム
の複屈折率は2O度であり、光弾性定数は1.75n+
m/kgであり、2O0℃に於ける収縮率は1.0%で
あった。
In this case, the birefringence of the base film provided with the metal oxide and organic layers was 20 degrees, and the photoelastic constant was 1.75n+
m/kg, and the shrinkage rate at 200°C was 1.0%.

又、金属酸化物、有機物層を付与したフィルムの水蒸気
透過率は2 X 10g7cm2・24Hrであり、空
気透過率は4 X 10@cc/am2・24)1rで
あり、可視光領域に於ける透過率は87%であった。
Furthermore, the water vapor permeability of the film provided with metal oxide and organic layers is 2 x 10g7cm2・24Hr, the air permeability is 4×10@cc/am2・24)1r, and the transmission rate in the visible light region is The rate was 87%.

又比較例として同一のベースフィルムに同様な方法で直
接酸化インジウムを25OA厚につけた積層導電膜を作
成した。
As a comparative example, a laminated conductive film was prepared by directly applying indium oxide to a thickness of 25 OA on the same base film using the same method.

尚、この際のベースフィルムの水蒸気透過率は1×10
−2g/crn2・2411r、又空気透過率は2×1
O−2cc/c「112・241Irであった。
In addition, the water vapor permeability of the base film at this time is 1 × 10
-2g/crn2・2411r, and air permeability is 2×1
O-2cc/c "112.241Ir.

以上の2種類の積層導電フィルムを用いて液晶表示用−
のセルを作製し、80℃、90%RHの環境下で信頼性
試験を行った。
For liquid crystal displays using the above two types of laminated conductive films
A cell was prepared and a reliability test was conducted in an environment of 80° C. and 90% RH.

この結果金属酸化物であるSiO2を設けたセルでは、
従来の基準を大巾に上回る1300時間の使用が可能で
あった。
As a result, in a cell equipped with SiO2, which is a metal oxide,
It was possible to use it for 1,300 hours, far exceeding the conventional standard.

一方、ベースフィルムに直接酸化インジウム薄膜を付し
た比較例より作製したセルでは、約500時間で使用が
不可能となった。
On the other hand, a cell prepared in a comparative example in which the indium oxide thin film was directly attached to the base film became unusable after about 500 hours.

以上実施例で示した様に水蒸気や空気の透過を防止する
金属酸化物層を設けることによって、液晶の寿命を飛躍
的に向上出来る積層導電フィルムであることがわかる。
As shown in the examples above, it can be seen that the laminated conductive film can dramatically improve the life of the liquid crystal by providing a metal oxide layer that prevents water vapor and air from passing through.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 高分子フィルムの片面にもしくは両面に、第1層目とし
て金属酸化物のSiO、SiO_2、TiO_2、Zr
O_2、Al_2O_3、Ta_2O_5、Nb_2O
_3、SnO_2、CeO_2の群から選ばれた少なく
とも1種以上の金属酸化物層を設け、更に第2層目とし
て該金属酸化物層の少くとも片面上に有機物層を設け、
更に第3層目として該有機物層上に導電層として酸化イ
ンジウムを主成分とする被膜を形成した積層導電フィル
ム。
Metal oxides SiO, SiO_2, TiO_2, Zr as the first layer on one or both sides of the polymer film.
O_2, Al_2O_3, Ta_2O_5, Nb_2O
_3, SnO_2, and CeO_2, providing at least one metal oxide layer selected from the group, and further providing an organic layer as a second layer on at least one side of the metal oxide layer,
Further, as a third layer, a laminated conductive film is provided, in which a film containing indium oxide as a main component is formed as a conductive layer on the organic layer.
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