JPS6179575A - 研磨基布およびその製造方法 - Google Patents
研磨基布およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6179575A JPS6179575A JP59200267A JP20026784A JPS6179575A JP S6179575 A JPS6179575 A JP S6179575A JP 59200267 A JP59200267 A JP 59200267A JP 20026784 A JP20026784 A JP 20026784A JP S6179575 A JPS6179575 A JP S6179575A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyurethane elastomer
- concave groove
- short fiber
- abrasive
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野ン
本発明は高精度、高品位の平面加工用の研磨基布に関す
るものでロシ、更に詳しくは耐摩耗性に富み、寸法精度
に優れる研磨基布およびその製造方法に関するものであ
る。
るものでロシ、更に詳しくは耐摩耗性に富み、寸法精度
に優れる研磨基布およびその製造方法に関するものであ
る。
(従来技術)
従来より、研磨用不織布に切9込み#1t−形成するこ
とにより研磨圧力を均等化したシ、研磨液の供給を均等
化する試みがなされてきた。
とにより研磨圧力を均等化したシ、研磨液の供給を均等
化する試みがなされてきた。
(発明が解決しようとする問題点)
前記の従来の研磨用不織布に切9込み溝を形成したもの
では、研磨用不織布が高速回転中に切り込み溝部分から
引きちぎれてしまう等の強度低下が著しいばかりで々く
、研磨用不織布が伸びてしまう等寸法精度が悪いもので
あった。
では、研磨用不織布が高速回転中に切り込み溝部分から
引きちぎれてしまう等の強度低下が著しいばかりで々く
、研磨用不織布が伸びてしまう等寸法精度が悪いもので
あった。
(発明の目的)
本発明は従来の欠点を改善し、高速回転中に引きちぎれ
たりすることのない耐久性に優れ、しかも寸法安定性に
優れた研磨基布およびその製造方法を提供せんとするも
のである。
たりすることのない耐久性に優れ、しかも寸法安定性に
優れた研磨基布およびその製造方法を提供せんとするも
のである。
(発明の構成)
本発明の研磨基布は織布(1)と短繊維交絡体(2)を
積層一体化してなる繊維基材(3)の空隙部に微細孔構
造を有するポリウレタンエラストマーが充填され、短繊
維交絡体には研磨液供給路用の凹部溝(4)が形成され
、該凹部溝(4)表面付近にはポリウレタンエラストマ
ーの緻密層(5)が形〒されてなるものであplまた本
発明の研磨基布の製造方法は、織布と短繊維交絡体を積
層一体化してなる繊維基材の空隙部に微細孔構造を有す
るポリウレタンエラストマーを充填せしめ、次いで前記
ポリウレタンエラストマー全充填した繊維基材9短繊維
交絡体表面に高周波加熱圧絹によシ研磨液供給路となる
°1凹部溝を形成するものである。
積層一体化してなる繊維基材(3)の空隙部に微細孔構
造を有するポリウレタンエラストマーが充填され、短繊
維交絡体には研磨液供給路用の凹部溝(4)が形成され
、該凹部溝(4)表面付近にはポリウレタンエラストマ
ーの緻密層(5)が形〒されてなるものであplまた本
発明の研磨基布の製造方法は、織布と短繊維交絡体を積
層一体化してなる繊維基材の空隙部に微細孔構造を有す
るポリウレタンエラストマーを充填せしめ、次いで前記
ポリウレタンエラストマー全充填した繊維基材9短繊維
交絡体表面に高周波加熱圧絹によシ研磨液供給路となる
°1凹部溝を形成するものである。
本発明で使用する織布は寸法安定性の良いものが好まし
く、6ナイロン% 6・6ナイロン、ポリエステル、ビ
ニロン、綿、レーヨン等tv+成繊m、天然繊維のうち
ポリウレタンエラストマーの溶剤で膨潤または溶解しな
い繊維を織成したものが使用できる。
く、6ナイロン% 6・6ナイロン、ポリエステル、ビ
ニロン、綿、レーヨン等tv+成繊m、天然繊維のうち
ポリウレタンエラストマーの溶剤で膨潤または溶解しな
い繊維を織成したものが使用できる。
短繊維交絡体を構成する短繊維としては、6ナイロン、
6・6ナイロン、ポリエステル等の合成繊維やウール等
の天然繊維も使用でき、やはシボリウレタンエラストマ
ーの溶剤で膨潤または溶解−しないものが間開できる。
6・6ナイロン、ポリエステル等の合成繊維やウール等
の天然繊維も使用でき、やはシボリウレタンエラストマ
ーの溶剤で膨潤または溶解−しないものが間開できる。
織布と短FJl推交絡体を積層一体化するには、織布上
に短繊維交絡体を積層し、これをニードルパンチにより
一体化せしめれば良い。
に短繊維交絡体を積層し、これをニードルパンチにより
一体化せしめれば良い。
本発明で使用するポリウレタンエラストマー−特に限定
されないが耐アルカリ性を要求される研磨基布の場合に
は、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレング
リコール、ポリブチレンアジペート、ポリカプロラクト
ン、ポリカーボネート等をポリオール成分とするポリウ
レタンエラストマーが好適であり、次亜塩素酸ソーダ等
の酸化剤などに耐える必要のある研腫基布の場合にはポ
リカーボネートをポリオール成分とするポリウレタンエ
ラストマーが好適である。
されないが耐アルカリ性を要求される研磨基布の場合に
は、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレング
リコール、ポリブチレンアジペート、ポリカプロラクト
ン、ポリカーボネート等をポリオール成分とするポリウ
レタンエラストマーが好適であり、次亜塩素酸ソーダ等
の酸化剤などに耐える必要のある研腫基布の場合にはポ
リカーボネートをポリオール成分とするポリウレタンエ
ラストマーが好適である。
#!維基材の空隙部に前記ポリウレタンエラストマーの
微細孔構造のものを充填するには、繊維基材に前記ポリ
ウレタンエラストマーの有機溶剤溶液を含浸せしめ、こ
れを前記ポリウレタンエラストマーは溶解しないが前記
有機溶剤とは相溶性を有する水を主成分とする非溶媒中
に浸漬してポリウレタンエラストマーを湿式凝固させれ
ば良い。
微細孔構造のものを充填するには、繊維基材に前記ポリ
ウレタンエラストマーの有機溶剤溶液を含浸せしめ、こ
れを前記ポリウレタンエラストマーは溶解しないが前記
有機溶剤とは相溶性を有する水を主成分とする非溶媒中
に浸漬してポリウレタンエラストマーを湿式凝固させれ
ば良い。
有機溶剤としてはN 、 N−ジメチルホルムアミド、
ジオキサン、テトラヒドロフジ、ン、アセト/等が使用
できるが、とくにN、N−ジメチルホルムアミドが好ま
しい。ポリウレタンエラストマー中には顔料、抗酸化剤
、防黴剤、加水分;イ防止剤、紫外線吸収剤、消光剤−
4鷺添刀■することもできる。
ジオキサン、テトラヒドロフジ、ン、アセト/等が使用
できるが、とくにN、N−ジメチルホルムアミドが好ま
しい。ポリウレタンエラストマー中には顔料、抗酸化剤
、防黴剤、加水分;イ防止剤、紫外線吸収剤、消光剤−
4鷺添刀■することもできる。
凹部溝を形成するには、凸部で有する高周波電極を微細
孔構造のポリウレタンエラストマーを充填した繊維基材
の短繊維交絡体層側に当接し、−高周波電流全印荷する
と7ともに押圧すれば良い。こノ操作により短繊維又+
1+6体層中のポリウレタンエラストマーが織布中に岐
仏圧縮さn織布と短繊維交絡体層の接着強度を向上させ
ることができるものである。 、 (発明の作用、効果) ・本発明
の研磨基布は、短繊維交絡体(2)に凹部溝(4)が形
成され、その凹部溝(4)の表面付近にはポリウレタン
エラストマーの緻密層(5)が形成されているので、高
速回転中に引きちぎれたりすることもなく、耐久性に優
れるものでおるばかやでなく、耐水圧が優れ研磨液が抵
抗なく流れ凹部溝(4)におけ1目桔シ現象が発生口な
いし、更に凹′部溝(4’)の表面密度が高くなってい
るので微細孔構造内部への空気の供給が抑制きれ酸化労
化を受けにくくなり経時安定性も著しく向上すると込う
効果を奏する。、またわ1H<6基材が織布と短繊維交
絡体を積層一体化したものであるから寸法安定性に優れ
るものでおる。
孔構造のポリウレタンエラストマーを充填した繊維基材
の短繊維交絡体層側に当接し、−高周波電流全印荷する
と7ともに押圧すれば良い。こノ操作により短繊維又+
1+6体層中のポリウレタンエラストマーが織布中に岐
仏圧縮さn織布と短繊維交絡体層の接着強度を向上させ
ることができるものである。 、 (発明の作用、効果) ・本発明
の研磨基布は、短繊維交絡体(2)に凹部溝(4)が形
成され、その凹部溝(4)の表面付近にはポリウレタン
エラストマーの緻密層(5)が形成されているので、高
速回転中に引きちぎれたりすることもなく、耐久性に優
れるものでおるばかやでなく、耐水圧が優れ研磨液が抵
抗なく流れ凹部溝(4)におけ1目桔シ現象が発生口な
いし、更に凹′部溝(4’)の表面密度が高くなってい
るので微細孔構造内部への空気の供給が抑制きれ酸化労
化を受けにくくなり経時安定性も著しく向上すると込う
効果を奏する。、またわ1H<6基材が織布と短繊維交
絡体を積層一体化したものであるから寸法安定性に優れ
るものでおる。
本発明の研磨基布の製造方法ておいては、微細孔構造を
有するポリウレタンエラストマーヲ空隙部に充ユλしん
短繊維交絡体表jに高周波加熱圧縮付近の微細孔構造の
ポリウレタンエラストマーは溶融し、しかも圧縮される
のでポリウレタンエラストマーの緻密層が凹部溝の形成
と同時に形成でき、しかもこの緻密層に凹部溝の深さに
比例して肉厚となるように形成されるので研磨時に補強
効果をも示すものである。また織布と短繊維交絡体t−
積層一体化した繊維基材に微細孔構造のポリウレタンエ
ラストマーを充填したものを使用しているので、高周波
加熱圧縮した場合でも、本発明者が別途試みた短繊維交
絡体層j−のものに微細孔構造のポリウレタンエラスト
マーを充填したもののように凹部溝の対応する裏面に第
2図に見られるような凹みが形成されることもなく、強
度的にもまた平滑性の面からも好ましいものである。
有するポリウレタンエラストマーヲ空隙部に充ユλしん
短繊維交絡体表jに高周波加熱圧縮付近の微細孔構造の
ポリウレタンエラストマーは溶融し、しかも圧縮される
のでポリウレタンエラストマーの緻密層が凹部溝の形成
と同時に形成でき、しかもこの緻密層に凹部溝の深さに
比例して肉厚となるように形成されるので研磨時に補強
効果をも示すものである。また織布と短繊維交絡体t−
積層一体化した繊維基材に微細孔構造のポリウレタンエ
ラストマーを充填したものを使用しているので、高周波
加熱圧縮した場合でも、本発明者が別途試みた短繊維交
絡体層j−のものに微細孔構造のポリウレタンエラスト
マーを充填したもののように凹部溝の対応する裏面に第
2図に見られるような凹みが形成されることもなく、強
度的にもまた平滑性の面からも好ましいものである。
(実施例)
繊維長51輔、繊度2デニールのポリエチレンテレフタ
レート70%、繊維長29門、繊度L5デニールのポリ
エチレンテレフタレート30%より成る短繊維交絡体層
(800y/m’)にポリエチレンテレフタレートマル
チフィラメント全経糸、緯糸とする平織り生地(厚味0
20wn)k積層し。
レート70%、繊維長29門、繊度L5デニールのポリ
エチレンテレフタレート30%より成る短繊維交絡体層
(800y/m’)にポリエチレンテレフタレートマル
チフィラメント全経糸、緯糸とする平織り生地(厚味0
20wn)k積層し。
ニードルパンチングにより一体化したのチ、150℃の
表面温度を有する金属ロール間全通過させ。
表面温度を有する金属ロール間全通過させ。
屯5問厚の繊維質基材を得た。次いでボリプチレンアジ
ベー) 、 a 、 4/−ジフェニルメタンジイソ
シアネー)、 1.4ブタンジオールより合成した1
00%モジュラス160Kq/cに熱軟化点195℃の
ポリウレタンエラストマーの10%溶液を含浸し、20
℃の水中で凝固、脱溶媒し120℃で乾燥し、ett推
*苓材に対して36%のポリウレタンエラストマーが微
細孔構造を有して充填されてなるシート状物を得九。更
にスプリットマシンで短n<H1交絡体層表面t−iき
取り、4.0m+厚の表面平滑性に優れるシート状物を
得た。
ベー) 、 a 、 4/−ジフェニルメタンジイソ
シアネー)、 1.4ブタンジオールより合成した1
00%モジュラス160Kq/cに熱軟化点195℃の
ポリウレタンエラストマーの10%溶液を含浸し、20
℃の水中で凝固、脱溶媒し120℃で乾燥し、ett推
*苓材に対して36%のポリウレタンエラストマーが微
細孔構造を有して充填されてなるシート状物を得九。更
にスプリットマシンで短n<H1交絡体層表面t−iき
取り、4.0m+厚の表面平滑性に優れるシート状物を
得た。
次いで巾L5yonの真ちゅう裏板が8闘間隔で格子状
に配列した電極を用いて、6秒間発振させ、押圧したと
ころ、裏面は実質的に凹部を有さない極めて表面平滑性
に優れた研磨基布が得られた。
に配列した電極を用いて、6秒間発振させ、押圧したと
ころ、裏面は実質的に凹部を有さない極めて表面平滑性
に優れた研磨基布が得られた。
このものの凹部の溝の深さは2.5wnであった。この
ものをブラウン管研磨用に繰シ返し使用したが何ら問題
点はなかつ念。
ものをブラウン管研磨用に繰シ返し使用したが何ら問題
点はなかつ念。
(比較例)
横椎長51m5+%繊度2デニールのポリエチレンテレ
7タレー)70%、繊維長29a%繊度L5デニールの
ポリエチレンテレフタレート30zより成る85oy/
、Iの短繊維交絡体に実施例と同様ポリウレタンエラス
トマーを含浸し、繊維に対して36%付着させ、両面を
スプリットマシンで き取、り7% 44−0rrr厚
の不織布を得念のち、V字型の切り込みを25mmの深
さで入れたものにし、同様にブラウン管研磨用に使用し
たが切シ込み部で繊維が切断さt″LL次念凸部のちぎ
れ現象が発生した。
7タレー)70%、繊維長29a%繊度L5デニールの
ポリエチレンテレフタレート30zより成る85oy/
、Iの短繊維交絡体に実施例と同様ポリウレタンエラス
トマーを含浸し、繊維に対して36%付着させ、両面を
スプリットマシンで き取、り7% 44−0rrr厚
の不織布を得念のち、V字型の切り込みを25mmの深
さで入れたものにし、同様にブラウン管研磨用に使用し
たが切シ込み部で繊維が切断さt″LL次念凸部のちぎ
れ現象が発生した。
第1図は本発明の研磨基布の拡大断面図、第2図は織布
を使用しなかった場合の研磨基布の一部の拡大断面図で
ある。 ((1)・・・織布 (2)・・・短繊維交絡
体(3)・・・繊維基材 (4)・・・凹部溝(5
)・・・緻密層
を使用しなかった場合の研磨基布の一部の拡大断面図で
ある。 ((1)・・・織布 (2)・・・短繊維交絡
体(3)・・・繊維基材 (4)・・・凹部溝(5
)・・・緻密層
Claims (2)
- (1)織布と短繊維交絡体を積層一体化してなる繊維基
材の空隙部に微細孔構造を有するポリウレタンエラスト
マーが充填され、短繊維交絡体には研磨液供給路用の凹
部溝が形成され、該凹部溝表面付近にはポリウレタンエ
ラストマーの緻密層が形成されてなる研磨基布。 - (2)織布と短繊維交絡体を積層一体化してなる繊維基
材の空隙部に微細孔構造を有するポリウレタンエラスト
マーを充填せしめ、次いで前記ポリウレタンエラストマ
ーを充填した繊維基材の短繊維交絡体表面に高周波加熱
圧縮により研磨液供給路となる凹部溝を形成することを
特徴とする研磨基布の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59200267A JPS6179575A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 研磨基布およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59200267A JPS6179575A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 研磨基布およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6179575A true JPS6179575A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16421488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59200267A Pending JPS6179575A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 研磨基布およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6179575A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05146969A (ja) * | 1991-06-24 | 1993-06-15 | Intel Corp | 半導体基板上に形成された誘電体層を研磨する装置 |
WO1996030164A1 (en) * | 1995-03-28 | 1996-10-03 | Norton Company | Dielectric curing |
JP2002009025A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-11 | Toray Ind Inc | 研磨パッド |
WO2006123463A1 (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | 研磨パッド、その製造方法およびそれを用いた半導体デバイスの製造方法 |
JP2007296011A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Maruhon Ind Co Ltd | 遊技機 |
JP2015006731A (ja) * | 2011-05-23 | 2015-01-15 | ネクスプラナー コーポレイション | 上に別個の突起を有する均一な本体を有する研磨パッド |
-
1984
- 1984-09-25 JP JP59200267A patent/JPS6179575A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05146969A (ja) * | 1991-06-24 | 1993-06-15 | Intel Corp | 半導体基板上に形成された誘電体層を研磨する装置 |
WO1996030164A1 (en) * | 1995-03-28 | 1996-10-03 | Norton Company | Dielectric curing |
JP2002009025A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-11 | Toray Ind Inc | 研磨パッド |
WO2006123463A1 (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | 研磨パッド、その製造方法およびそれを用いた半導体デバイスの製造方法 |
US8517798B2 (en) | 2005-05-18 | 2013-08-27 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Polishing pad, method of producing the same and method of producing semiconductor device by using the same |
JP2007296011A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Maruhon Ind Co Ltd | 遊技機 |
JP2015006731A (ja) * | 2011-05-23 | 2015-01-15 | ネクスプラナー コーポレイション | 上に別個の突起を有する均一な本体を有する研磨パッド |
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