JPS6178557A - 半田処理装置 - Google Patents

半田処理装置

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JPS6178557A
JPS6178557A JP19962784A JP19962784A JPS6178557A JP S6178557 A JPS6178557 A JP S6178557A JP 19962784 A JP19962784 A JP 19962784A JP 19962784 A JP19962784 A JP 19962784A JP S6178557 A JPS6178557 A JP S6178557A
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JP
Japan
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flux
solder
leads
excess
lux
Prior art date
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Pending
Application number
JP19962784A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Mori
剛 毛利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP19962784A priority Critical patent/JPS6178557A/ja
Publication of JPS6178557A publication Critical patent/JPS6178557A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3489Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K3/00Tools, devices, or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
    • B23K3/08Auxiliary devices therefor
    • B23K3/082Flux dispensers; Apparatus for applying flux
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3468Applying molten solder

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Molten Solder (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は金属メッキ技術に関するもので、特に半導体装
置のリードに半田を被着する技術に適用して1効な技術
に関するものである。
〔背景技術〕
半導体装置のリードに半田を被着する場合、特開昭58
−158992号 公報に示すようにまずリードに72
1クスを被着させ、リード表面の酸化1[’油等の汚れ
を除去して半田がリードに被着しやすい状態にしておく
。そしてフラックスを被着したリードを半田に浸漬する
などして半田な被着している。その後半導体装[K付着
している余分なフラックスを完全に取りさるため洗浄を
行なっている。ところで、リードに7ラツクスを被着さ
せるため、半導体装置をスラックスの噴出し【いるスラ
ックス槽上を移動させて行なったり、あるいはリードに
向けてフラックスなスプレーに曵噴きつけることが行な
われている。このようにしてスラックスを被着した場合
、リードだけに必要量のスラックスな被着させることは
ほとんど不可能で、リード以外の部分、例えば半導体装
置のパッケージや前記半導体装置の搬送治具等に多量の
7ラフクスが被潰し工しまう。そのため、この状態のま
ま洗浄液が溜めである洗浄槽に持ち込むとすぐに洗浄液
が7ラツクスで汚され、洗浄効率が悪化することになる
。そこで本発明者は半導体装置のリードへフラックスを
被着したのち、ブラシ上を移動させて余分なフラックス
を除去することあるいは半導体装置に高圧のエアーを吹
きつけて余分なフラックスを噴き飛ばすことを考えた。
しかしながら、ブラシでフラックスを除去する方法でヲ
マ、スラックス除去効率をあげるためにブラシ交換を数
多くする必要がありメインテナンス上問題である。また
、高圧エアーを吹きつけてフラックスを飛散させる方法
においては7ラツクスのごとき酸を飛び散らしてしまう
ため半田処理装置本体の腐食の原因となり耐久性を著し
く低下させてしまうことを本発明者は見い出した。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、半田処理装置のメインテナンスを簡単
にすることができる技術を提供することである。
本発明の目的は、半田処理装置の耐久性を向上する技術
を提供することである。
〔発明の概要〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、電子部品のリードに7うγクスを被着させる
工程の後段に、余分についた7ラツクスを吸引除去でき
る機構を設けることにより、ブラシ等の72ツクス除去
治具の交換などのメインテナンスを不要にできる。また
、高圧エアーを吹きつける必要もないので7ラツクス除
去時にフラックスを飛散させることもな〜・ので処理装
置の腐食を防止でき、半田処理装置の耐久性の向上を達
成することができる。
〔実施例〕
第1図は、本発明の一実施例である半田処理装置の概略
説明図、第2図は、本発明の他の実施例である半田処理
装置の部分概略図である。
第1図において1は複数個の電子部品、例えば半導体装
置2(以下ICという)を載置するキャリア治具でボル
ダ−3により支持され図示しない搬送機構に1移動され
るようになっ℃いる。4はICのり一ド51C7ラツク
スを被着する7ラツクス被着部で7ラツクスを貯溜する
フラックス槽4aを有している。この7ラツクス槽4a
においては、図示していないがポンプで7ラフクス液を
噴出させて、その噴出液がICのり一ド5に被着するよ
うになっている。6はIC2あるいはキャリア治具IK
ついた余分なフラックスを除去するための吸引機構で、
真空ポンプ7に接続したパイプ8をとおして吸引して7
ラノクスを除去するようになっている。この除去したフ
ラックスは一時7ラックス溜9に溜めておいて、任意の
ときに溜ったフラックスを外部に排出できるようになっ
ている。10はフラフクスを被着したり一ド5に半田を
コーティングする半田被着部で、半田を貯溜する半田槽
10aを有している。前記半田槽10aにはヒータ11
が配設され又おり、このヒータ11によりf4 Mされ
た半El]は■示しないポンプで噴出されるようになっ
ている。12は洗浄部で本実施例では洗浄液を貯溜する
ぢめの洗浄槽12aが配設されている− 13は乾燥部
でヒータ13aが配設されており、乾燥を終えたIC2
は冷却ファン14により出動されるようになって(・る
次に動作について説明する。手詰めあるいは自動的にキ
ャリア治具1cIc2を詰めたのち、前記キャリア治具
1をホルダー3にセットする。こ゛のキャリア治具lは
図示しない搬送機構に℃クラ1クス被着部4.吸引機構
6、半田被着部10、洗浄部、・・・と順次移動するよ
うになっている。フラックス被着部4では、7ラツクス
槽4aに7ラツクスが満たされており、そのフラックス
槽4aには図示しないポンプで7ラツクス液が噴出する
よう罠なっている。ICのリート′への7ラツクス液着
はキャリア治具1に詰めたICのり一ド5が前述の噴出
したフラックスの中を通過させて行なっている。そのた
め、リード5以外の部分、すなわちIC2の底面や側部
あるいはキャリア治具1等に7ラノクスが余分に被着し
てしまう。そこで、真空ポンプ7に接続したパイプから
なる吸引機構6で前記余分フラックスを吸引して除去す
るようになっている。このため、ブラシ等で余分)2ツ
クスを除去する場合に必要な、ブラシの7シツクス汚れ
の管理、ブラシ交換は不要となった。また、フラックス
の除去を吸引により行なうため、ICに高圧エアーを吹
きつける場合に生じるフラックスの飛散に起因した処理
装置の腐食という問題も解決することができる。なお、
吸引したフラックスは一時フラックス溜9に溜めておき
、任意のタイミングで排出するようになっ工いる。リー
ド5に適度な量の7ラツクスが被着したICは、半田被
着部100半田層10aに移動する。この半田層11a
Kおい′″CはヒータIIKより溶融された半田が図示
しないポンプにて噴出しており、その噴出した半田の中
を通過することによりリードの半田コートを行なってい
る。半田コーティングを終えたIC5は、洗浄部12の
洗浄槽12aK移動して、ICs全体の洗浄を行なって
、残存するフラ、3スを完全に洗い流す。なお、洗浄部
12にシャワー、超音波洗浄槽等を直列に配設してもよ
(・。洗浄されたICは乾燥部13のヒータ13aで乾
燥したのち冷却器14にて冷却を行ない。
IC2;キャリア治具1から取り出して半田処理を完了
する。
第2図は本発明の他の実施例である半田処理装置の部分
概略図である。本実施例と第1図で示した実施例と異な
るのは吸引機構だけであり、その他の同一構成部分につ
いては同一符号を付しその説明は省略する。第2同和お
いて15は吸引機構で、パイプ16が図示していない真
空ポンプに接続されている。前記パイプ16の先端部は
図示するように、パイプと連通する内部中空の板状体1
7で形成され、その上面疋は複数の吸引孔18が形成さ
れている。前記吸引機構15の側部あるいは上部からI
C2に向けてノズル19かもエアーを吹きつけ、)2ツ
クスが吸引されるのを補助し工いる。このような構成に
することにより、工CK対する吸引面積を広げて7ラツ
クス除去効率を高め、さらにノズル19からエアー吹ぎ
つけることでより7ラククス除去の効率を高め工いる。
なお、エアーを吹きつけることで7ラツクスが飛散して
も、大面積で形成された板状体17により吸引されるの
で、装置本体の腐食という問題は生じることはない。
〔効 果〕
+11  電子部品のリードにフラックスを被着したの
ち、前記リードに被着した余分フラックス、電子部品の
底部や側部あるいは電子部品を搬送するためのキャリア
治具等に付着したフラックスな吸引でさる吸引機構を設
けることにより、フラックスを除去するためにブラシを
用いなく又もよいので。
前記ブラシの7ラソクス汚れの度合を逐一チェックする
必要はなく、さらにブラシの交換という作条も必要とな
(なる。そのため、メインテナンスの簡略化にともなう
作条能率の向上が達成することができる。
+21  rx電子部品リード罠フラックスを被着した
のち、前記リードに被着した余分フラックス、電子部品
の底部や側部あるいは電子部品を搬送するためのキャリ
ア治具等に付着した7ラツクスを吸引できる吸引機構を
設けることにより、フラックスを除去するために高圧エ
アーを吹きつけて余分な7ラツクスを飛散させなく又も
よいので、飛散した7ラノクスが半田処理装置本体に付
着して装置本体を腐食させるという問題を解決できろ。
これにより、処理装置の耐久性が飛彊的に向上させろこ
とができる。
+3+  吸引機構のパイプの先端部を吸引範囲が大と
なるような形状にすることにより、余分7ラツクスの除
去効率を高めることができる。また、エアーを吹ぎつけ
てもパイプの先端部を吸引範囲が大となる形状にしてい
るので、処理装置本体への7ラツクス付着を抑制しなが
ら、スラブクス除去の効率を高めることが可能となる。
以上、本発明者によってなさ八た発明を実施例にもとづ
き具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。たとえば、吸引機構
を半田被着部と洗浄部の間に配設し℃もよい。また、吸
引機構の先端部の形状は実施例に限定されるものではな
い。
〔利用分野〕
以上の説明では主とし1本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である電子部品のリードへ
半田被着する技術に適用した場合につい℃説明したが、
それに限定されるものではなく、たとえば、電子部品を
実装したプリント基板に半田付けする技術あるいはその
他の物品の金属部分に半田付けをする場合に適用するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明の一実施例である半田処理装置の概略
説明図。 第2図は、本発明の一実施例である半田処理装置の部分
概略図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.電子部品のリード部にフラックスを被着するための
    フラックス被着部と、前記リード部に半田を被着するた
    めの半田被着部と、電子部品等に被着したフラックスを
    洗浄除去する洗浄部と、洗浄した電子部品を乾燥するた
    めの乾燥部とを有する半田処理装置において、前記フラ
    ックス被着部の後段に電子部品に被着したフラックスを
    吸引できる吸引機構が配設されていることを特徴とする
    半田処理装置。
JP19962784A 1984-09-26 1984-09-26 半田処理装置 Pending JPS6178557A (ja)

Priority Applications (1)

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JP19962784A JPS6178557A (ja) 1984-09-26 1984-09-26 半田処理装置

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JP19962784A JPS6178557A (ja) 1984-09-26 1984-09-26 半田処理装置

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JPS6178557A true JPS6178557A (ja) 1986-04-22

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ID=16410994

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JP19962784A Pending JPS6178557A (ja) 1984-09-26 1984-09-26 半田処理装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008124332A (ja) * 2006-11-14 2008-05-29 Nihon Dennetsu Keiki Co Ltd はんだ付け方法およびはんだ付けシステムとフラックス塗布システム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008124332A (ja) * 2006-11-14 2008-05-29 Nihon Dennetsu Keiki Co Ltd はんだ付け方法およびはんだ付けシステムとフラックス塗布システム
JP4746520B2 (ja) * 2006-11-14 2011-08-10 日本電熱ホールディングス株式会社 はんだ付け方法およびはんだ付けシステムとフラックス塗布システム

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