JPS6168579A - X線分析装置 - Google Patents
X線分析装置Info
- Publication number
- JPS6168579A JPS6168579A JP19125684A JP19125684A JPS6168579A JP S6168579 A JPS6168579 A JP S6168579A JP 19125684 A JP19125684 A JP 19125684A JP 19125684 A JP19125684 A JP 19125684A JP S6168579 A JPS6168579 A JP S6168579A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high voltage
- detector
- level
- pulse height
- counter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は定性分析や定量分析に用いられる蛍光X線分析
装置に関し、特にその蛍光X線の計数機構に関するもの
である。
装置に関し、特にその蛍光X線の計数機構に関するもの
である。
(従来技術)
蛍光X線分析装置では試料に一次X線が照射され、それ
により励起されて試料から放射される元素特有の蛍光X
線が分光結晶で分光された後、検出器で検出される。検
出された蛍光X線をn1数するための計数機構には、通
常、検出器の出力パルスを増幅する増幅器、その増幅さ
れた出力パルスのうち特定範囲の波高値をもつものを選
別する波高選別器、及びその波高選別器により選別され
た出力パルスを計数する計数器(カウンタ又はスケーラ
とも呼ばれる)が備えられている。
により励起されて試料から放射される元素特有の蛍光X
線が分光結晶で分光された後、検出器で検出される。検
出された蛍光X線をn1数するための計数機構には、通
常、検出器の出力パルスを増幅する増幅器、その増幅さ
れた出力パルスのうち特定範囲の波高値をもつものを選
別する波高選別器、及びその波高選別器により選別され
た出力パルスを計数する計数器(カウンタ又はスケーラ
とも呼ばれる)が備えられている。
ところで、検出器としては例えば比例HI数管などのガ
ス封入型検出器が使用され、高電圧が印加されて動作し
ているが、このような検出器では、入射するX線の強度
が大きくなると検出器内の空間電荷量が多くなって実効
的な検出器電圧が減小し、検出器出力パルス波高値が減
小してくる現象がある。この現象をピークシフトと呼ん
でいる。
ス封入型検出器が使用され、高電圧が印加されて動作し
ているが、このような検出器では、入射するX線の強度
が大きくなると検出器内の空間電荷量が多くなって実効
的な検出器電圧が減小し、検出器出力パルス波高値が減
小してくる現象がある。この現象をピークシフトと呼ん
でいる。
ピークシフトが生じると、分析対象の元素の蛍光X線の
出力パルスであっても波高選別器で選別されない出力パ
ルスが増加し、数え落しが増加して分析精度が低下する
問題が生じる。
出力パルスであっても波高選別器で選別されない出力パ
ルスが増加し、数え落しが増加して分析精度が低下する
問題が生じる。
そのため、従来の蛍光X線分析装置には、波高選別器の
出力端に計数率計を別途設け、この計数IMlの出力信
号により高電圧発生器を制御して、検出器に印加される
高電圧をX線強度に対応して補正するようにしたものが
ある。
出力端に計数率計を別途設け、この計数IMlの出力信
号により高電圧発生器を制御して、検出器に印加される
高電圧をX線強度に対応して補正するようにしたものが
ある。
(発明が解決しようとする問題点)
」二記の従来の蛍光X線分析装置では、検出器の高電圧
を制御するための計数率計は、波高選別器を通過した後
の出力パルスに対して設けられているため、検出器から
の金山パルスを計数するものではなく目的エネルギーの
出力パルスのみしが計数していない。一方、検出器のピ
ークシフトは検出器に入射する全てのX線の強度に依存
し、検出器でのガスの電離数により決まるものである。
を制御するための計数率計は、波高選別器を通過した後
の出力パルスに対して設けられているため、検出器から
の金山パルスを計数するものではなく目的エネルギーの
出力パルスのみしが計数していない。一方、検出器のピ
ークシフトは検出器に入射する全てのX線の強度に依存
し、検出器でのガスの電離数により決まるものである。
したがって、従来の蛍光X線分析装置では目的エネルギ
ーのX線に対しては検出器の高電圧の補正が行なわれて
いるが、不要エネルギーのX線に対しては補正が行なわ
れていないことになる。そのため、不要X線の多い場合
には検出器の高電圧の補正が不十分となり、分析精度の
向上を図ることができない。
ーのX線に対しては検出器の高電圧の補正が行なわれて
いるが、不要エネルギーのX線に対しては補正が行なわ
れていないことになる。そのため、不要X線の多い場合
には検出器の高電圧の補正が不十分となり、分析精度の
向上を図ることができない。
また、検出器からの全出力パルスに対して検出器の高電
圧を補正するために、増幅器の出力端に波高選別器とは
別にディスクリミネータを新たに設け、このディスクリ
ミネータの出力信号により上記のように計数率計を通し
て検出器に印加される高電圧を補正する機構も考えられ
るが、その場合には機構や回路が複雑化するとともに、
コストアップを招く問題がある。
圧を補正するために、増幅器の出力端に波高選別器とは
別にディスクリミネータを新たに設け、このディスクリ
ミネータの出力信号により上記のように計数率計を通し
て検出器に印加される高電圧を補正する機構も考えられ
るが、その場合には機構や回路が複雑化するとともに、
コストアップを招く問題がある。
本発明は、機構や回路をあまり複雑化せずに、目的エネ
ルギーのX線だけでなく不要エネルギーのX線も計数し
て検出器に印加される高電圧を補正し、ピークシフトに
起因する不都合を防止できるX線分析装置を提供するこ
とを目的とするものである。
ルギーのX線だけでなく不要エネルギーのX線も計数し
て検出器に印加される高電圧を補正し、ピークシフトに
起因する不都合を防止できるX線分析装置を提供するこ
とを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明のX線分析装置は、検出器2に印加される高電圧
を補正するために、その高電圧を発生する高電圧発生器
4の発生電圧を設定する高電圧設定手段16と、この高
電圧設定手段16の設定電圧値を計数器10の計数値に
対応して記憶しているメモリ手段J8と、波高選別器8
の選別レベルを設定する波高選別器レベル設定手段20
と、波高選51!r器レベル設定手段20を介して波高
選別器の選別レベルを切り換え、計数器10の動作を制
御して計数処理を行ない、計数値をもとにしてメモリ手
段18の記憶値により高電圧設定手段16を経て高電圧
発生器40発生電圧を設定する制御・演算手段と、を備
えている。
を補正するために、その高電圧を発生する高電圧発生器
4の発生電圧を設定する高電圧設定手段16と、この高
電圧設定手段16の設定電圧値を計数器10の計数値に
対応して記憶しているメモリ手段J8と、波高選別器8
の選別レベルを設定する波高選別器レベル設定手段20
と、波高選51!r器レベル設定手段20を介して波高
選別器の選別レベルを切り換え、計数器10の動作を制
御して計数処理を行ない、計数値をもとにしてメモリ手
段18の記憶値により高電圧設定手段16を経て高電圧
発生器40発生電圧を設定する制御・演算手段と、を備
えている。
(作用)
=4一
本発明のX線分析装置では、分析計数のための本計数と
、この本計数前の検出器印加電圧補正のための予備計数
の2種類の計数モードをもっている。予備計数では波高
選別器レベル設定手段20により波高選別器8の上限レ
ベルが上げられ、下限レベルが下げられて全出力パルス
が計数され、その計数値をもとにして検出器2に印加さ
れる高電圧が補正される。本計数では波高選別器8の上
限レベル及び下限レベルが分析計数用の正常レベルに戻
され、検出器2には予備計数により補正された高電圧が
印加されて、X線の検出が行なわれる。
、この本計数前の検出器印加電圧補正のための予備計数
の2種類の計数モードをもっている。予備計数では波高
選別器レベル設定手段20により波高選別器8の上限レ
ベルが上げられ、下限レベルが下げられて全出力パルス
が計数され、その計数値をもとにして検出器2に印加さ
れる高電圧が補正される。本計数では波高選別器8の上
限レベル及び下限レベルが分析計数用の正常レベルに戻
され、検出器2には予備計数により補正された高電圧が
印加されて、X線の検出が行なわれる。
(実施例)
第1図は一実施例における計数機構を表わし、2は比例
計数管の如き検出器、4は検出器2に高電圧を印加する
高電圧発生器である。6は検出器2の出力パルスをコン
デンサCを経て入力し増幅する増幅器、8は上限レベル
と下限レベルをもち入力した信号パルスの波高が両レベ
ル間にある場合にのみ出力パルスを発生する波高選別器
、10は波高選別器8の出力パルスを計数する計数器で
ある。
計数管の如き検出器、4は検出器2に高電圧を印加する
高電圧発生器である。6は検出器2の出力パルスをコン
デンサCを経て入力し増幅する増幅器、8は上限レベル
と下限レベルをもち入力した信号パルスの波高が両レベ
ル間にある場合にのみ出力パルスを発生する波高選別器
、10は波高選別器8の出力パルスを計数する計数器で
ある。
12は計数器10の計数値を読み取る計数値読取り手段
であり、そこで、読み取られた計数値は制御・演算手段
14に入力される。16は制御・演算手段14の出力信
号により高電圧発生器4の発生電圧を設定する高電圧設
定手段、18は予備H1数時の計数値と高電圧発生器4
の発生電圧との対応関係を記憶しているメモリ手段とし
ての計数値−高電圧変換テーブルメモリ、20は制御・
演算手段14の出力信号により波高選別器8の上限レベ
ルと下限レベルを設定する波高選別器レベル設定手段で
ある。
であり、そこで、読み取られた計数値は制御・演算手段
14に入力される。16は制御・演算手段14の出力信
号により高電圧発生器4の発生電圧を設定する高電圧設
定手段、18は予備H1数時の計数値と高電圧発生器4
の発生電圧との対応関係を記憶しているメモリ手段とし
ての計数値−高電圧変換テーブルメモリ、20は制御・
演算手段14の出力信号により波高選別器8の上限レベ
ルと下限レベルを設定する波高選別器レベル設定手段で
ある。
制御・演算手段14は計数動作のスタート・ス1〜ツブ
を制御し、本計数時に計数値の出力などのデータ処理を
行なう従来と同様の機能のほかに、本発明に特有の予備
計数時には波高選別器レベル設定手段20を介して波高
選別器8がX線検出器2の全出力パルスを通過させるよ
うにし、またその予備計数時の計数値にもとづ゛いて計
数値−高電圧変換テーブルメモリ18から高電圧設定値
を読み出し、その値に従って高電圧設定手段16を介し
て高電圧発生器4の発生電圧を補正する機能をも有して
いる。
を制御し、本計数時に計数値の出力などのデータ処理を
行なう従来と同様の機能のほかに、本発明に特有の予備
計数時には波高選別器レベル設定手段20を介して波高
選別器8がX線検出器2の全出力パルスを通過させるよ
うにし、またその予備計数時の計数値にもとづ゛いて計
数値−高電圧変換テーブルメモリ18から高電圧設定値
を読み出し、その値に従って高電圧設定手段16を介し
て高電圧発生器4の発生電圧を補正する機能をも有して
いる。
計数値読取り手段12、制御・演算手段14、高電圧設
定手段16、計数値−高電圧変換テーブルメモリ18及
び波高選別器レベル設定手段20は、例えば計算器22
により実現することができる。
定手段16、計数値−高電圧変換テーブルメモリ18及
び波高選別器レベル設定手段20は、例えば計算器22
により実現することができる。
本実施例の動作は、第2図にその概略が示されているよ
うに、波高選別器8が検出器2の出力パルスを全て通過
させる状態に設定される予備計数を行なった後、その計
数値をもとにして検出器2に印加されている高電圧を補
正し、その後、波高選別器8を分析計数用の選別レベル
に戻して本計数を行なう。
うに、波高選別器8が検出器2の出力パルスを全て通過
させる状態に設定される予備計数を行なった後、その計
数値をもとにして検出器2に印加されている高電圧を補
正し、その後、波高選別器8を分析計数用の選別レベル
に戻して本計数を行なう。
次に、本実施例の具体的な動作を第3図のフローチャー
トにより説明する。
トにより説明する。
まず、予備計数を行ない検出器2の印加電圧を補正する
ために、H1数器10をクリアしくステップS1)、波
高選別器8の上限レベルを上げ、下限レベルをノイズレ
ベルの上まで下げた後(ステップS2.S3) 、計数
器10の計数動作を開始させ、タイマーをスタートさせ
る(ステップS4゜S5)。予定時間、例えば数百μs
〜数士msの経過後、計数器10の計数動作を停止させ
その計数値を読み取る(ステップ86〜S8)。その読
み取った計数値をもとにして計数値−高電圧変換テーブ
ルメモリ18から高電圧値を読み取り(ステップS9)
、検出器2の印加電圧がその高電圧値になるように高電
圧設定手段16を介して高電圧発生器4の発生電圧を補
正する( ステップ510)。
ために、H1数器10をクリアしくステップS1)、波
高選別器8の上限レベルを上げ、下限レベルをノイズレ
ベルの上まで下げた後(ステップS2.S3) 、計数
器10の計数動作を開始させ、タイマーをスタートさせ
る(ステップS4゜S5)。予定時間、例えば数百μs
〜数士msの経過後、計数器10の計数動作を停止させ
その計数値を読み取る(ステップ86〜S8)。その読
み取った計数値をもとにして計数値−高電圧変換テーブ
ルメモリ18から高電圧値を読み取り(ステップS9)
、検出器2の印加電圧がその高電圧値になるように高電
圧設定手段16を介して高電圧発生器4の発生電圧を補
正する( ステップ510)。
次に本計数に移行するために、波高選別器8の上限レベ
ル及び下限レベルを分析計数のための正常選別レベルに
戻しくステップ511)、計数器10をクリアした後(
ステップ512)、計数器10の計数動作を開始させ本
計数タイマーをセラ=8= トする(ステップS13,514)。予定の計数時間経
過後、計数器10の計数動作を停止させて計数値を読み
取り(ステップ31.5〜517)、データ処理を行な
う(ステップ518)。
ル及び下限レベルを分析計数のための正常選別レベルに
戻しくステップ511)、計数器10をクリアした後(
ステップ512)、計数器10の計数動作を開始させ本
計数タイマーをセラ=8= トする(ステップS13,514)。予定の計数時間経
過後、計数器10の計数動作を停止させて計数値を読み
取り(ステップ31.5〜517)、データ処理を行な
う(ステップ518)。
(発明の効果)
本発明のX線分析装置では、予備計数において検出器の
出力パルスのうち目的エネルギーの出力パルスだけでな
く、不要エネルギーの出力パルスも計数するため、ピー
クシフト補正が一層正確となり分析精度が向上する。そ
して、ピークシフト補正のためのディスクリミネータや
計数率計を新たに設ける場合に比べると機構や回路が簡
単になる。
出力パルスのうち目的エネルギーの出力パルスだけでな
く、不要エネルギーの出力パルスも計数するため、ピー
クシフト補正が一層正確となり分析精度が向上する。そ
して、ピークシフト補正のためのディスクリミネータや
計数率計を新たに設ける場合に比べると機構や回路が簡
単になる。
なお、本発明では本計数前に予備計数を行なうための時
間が必要であるが、ピークシフトは高計数率領域で現れ
る現象であるためこの予備計数のための時間は例えば数
百μs〜数士msというような短時間でよく、これは分
析のための本計数時間に比べると問題にならない程度の
短時間である。
間が必要であるが、ピークシフトは高計数率領域で現れ
る現象であるためこの予備計数のための時間は例えば数
百μs〜数士msというような短時間でよく、これは分
析のための本計数時間に比べると問題にならない程度の
短時間である。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
同実施例の動作を概略的に示すタイムチャート、第3図
は同実施例の動作を詳細に示すフローチャー1〜である
。 2・・・・検出器、 4・・・・・・高電圧発生器、8
・・・・・・波高選別器、 10・・・・・・計数器
、14・・・・・・制御・演算手段、 16・・・・
・・高電圧設定手段、 18・・・・・・R1数値−
高電圧変換テーブルメモリ、 20・・・・・・波高選
別器レベル設定手段。
同実施例の動作を概略的に示すタイムチャート、第3図
は同実施例の動作を詳細に示すフローチャー1〜である
。 2・・・・検出器、 4・・・・・・高電圧発生器、8
・・・・・・波高選別器、 10・・・・・・計数器
、14・・・・・・制御・演算手段、 16・・・・
・・高電圧設定手段、 18・・・・・・R1数値−
高電圧変換テーブルメモリ、 20・・・・・・波高選
別器レベル設定手段。
Claims (1)
- (1)試料から放射されたX線を検出する検出器と、こ
の検出器に高電圧を印加する高電圧発生器と、前記検出
器からの出力パルスのうちの一定範囲の出力波高値のパ
ルスを選別する波高選別器と、この波高選別器により選
別されたパルスを計数する計数器とを備えたものにおい
て、 前記高電圧発生器の発生電圧を設定する高電圧設定手段
と、 計数器の計数値と検出器に印加される高電圧値との関係
を記憶しているメモリ手段と、 前記波高選別器のレベルを設定する波高選別器レベル設
定手段と、 前記波高選別器レベル設定手段を介して波高選別器の選
別レベルを切り換え、前記計数器の動作を制御して計数
処理を行ない、計数値をもとにして前記メモリ手段の記
憶値により前記高電圧設定手段を経て前記高電圧発生器
の発生電圧を設定する制御・演算手段と、を備えたこと
を特徴とするX線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19125684A JPS6168579A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | X線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19125684A JPS6168579A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | X線分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6168579A true JPS6168579A (ja) | 1986-04-08 |
Family
ID=16271509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19125684A Pending JPS6168579A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | X線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6168579A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5200625A (en) * | 1990-10-30 | 1993-04-06 | Shimadzu Corporation | X-ray spectrometer |
JP2019114427A (ja) * | 2017-12-25 | 2019-07-11 | 株式会社島津製作所 | 電子線マイクロアナライザ |
-
1984
- 1984-09-11 JP JP19125684A patent/JPS6168579A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5200625A (en) * | 1990-10-30 | 1993-04-06 | Shimadzu Corporation | X-ray spectrometer |
JP2019114427A (ja) * | 2017-12-25 | 2019-07-11 | 株式会社島津製作所 | 電子線マイクロアナライザ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4591984A (en) | Radiation measuring device | |
JPH0259434B2 (ja) | ||
US4075480A (en) | Quench determination in liquid scintillation counting systems | |
US5200625A (en) | X-ray spectrometer | |
JPH10318946A (ja) | エネルギー分散型x線分析装置 | |
JP2713420B2 (ja) | 放射線の量子測定装置 | |
JPS6168579A (ja) | X線分析装置 | |
US5428656A (en) | Apparatus and method for fluorescent x-ray analysis of light and heavy elements | |
US4151412A (en) | Method and apparatus for automatic spectrum scanning in a proportional counter | |
US7529337B2 (en) | Energy dispersion type radiation detecting system and method of measuring content of object element | |
JPH0335635B2 (ja) | ||
JPH09304542A (ja) | 放射線測定装置 | |
JP2522224B2 (ja) | 蛍光x線分析方法 | |
JP2000199748A (ja) | 蛍光x線分析方法および蛍光x線分析装置 | |
US3691386A (en) | Data processing system employing quench simulation for enabling accurate computation of sample activity levels in liquid scintillation spectrometry | |
JP3790643B2 (ja) | エネルギー分散形x線検出器を備えた表面分析装置 | |
JPS6126846A (ja) | X線マイクロアナライザによる試料の分析方法 | |
JP2971756B2 (ja) | 蛍光ガラス線量計測定装置 | |
JP2564930B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP2002357571A (ja) | 波長分散型蛍光x線分析装置 | |
JP3123860B2 (ja) | 波長分散型分光器とエネルギ分散型分光器を用いた元素分析装置 | |
JPS62121383A (ja) | 放射線測定装置 | |
JPH07104292B2 (ja) | X線分析装置 | |
JPH07306271A (ja) | 液体シンチレーションシステム | |
JPH02219000A (ja) | X線装置の自動制御装置 |