JPS6167751A - 非晶質合金及びその製造法 - Google Patents

非晶質合金及びその製造法

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JPS6167751A
JPS6167751A JP59188109A JP18810984A JPS6167751A JP S6167751 A JPS6167751 A JP S6167751A JP 59188109 A JP59188109 A JP 59188109A JP 18810984 A JP18810984 A JP 18810984A JP S6167751 A JPS6167751 A JP S6167751A
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amorphous
sputtering
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潔 千葉
Hiromitsu Ino
井野 博満
Kazuto Tokumitsu
徳満 和人
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C45/00Amorphous alloys
    • C22C45/02Amorphous alloys with iron as the major constituent

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [利用分野1 本発明は新規′/韮非晶質合金及びその製造法に関し、
更に詳しくは情報記録材等に利用できる耐食性の良い非
晶質合金及びその製造法に関する。
[従来技術1 合金に於いて結晶構造に伴なう周期性を失った乱れた構
造はある種の均一性を生む。これは結晶構造に存する粒
界、格子欠陥等のない均一性であり、また、析出物、偏
析等のない組成の均質性ぐある。この結果として非晶質
構造に於いては広い組成にわたって組成が均一に、かつ
、連続に変化する合金を実現する事ができる。これは結
晶m造に於いて均v1に混ぜ合ける事のできない元素の
合金が非晶質構造に於いては種々実工見できる事を意味
1−る。
ところで特開昭52−31703JQ公報には、一般式
Fa  (鉄IR(式中Rは希土類元素)より/【る非
晶質合金、例えば「e−Tb (テルビウム)は非晶質
状態に於IiるTbの組成の連続変化により、キニ1り
一点、保磁力等の磁気的特性を可変−づる事が可能であ
ることが開示されている。
A:1(−’4?j公1lI5A−15483号公報に
tよ、例えばTe(テルル およびSより’tEる群から選ばれた少なくとも一種の
元素を含有するTO−半金属系合金をレーザー光(こよ
り穴あ(〕記録づる媒体と【ノ(用いられていることが
開示されている。
[問題点] このように、Fe系合金は結晶横;告に於いて多くの相
変態をもつ事、また磁気的411質等のTr質より多く
の有用41工業祠料どして用いられる1、−ブ)、Te
は半導体C゛あり、熱伝導率が一般金属と比較すると極
めて小ざい特質をもつど共に、例えば光記録に於いて、
汎用に先出き込み光源どして用いられる波長800 n
 m (d近の半導体レーリ゛−光に対し強い吸収をも
つ等、優ムたfi質をもつ。
しかしながら、」−述したような二丁業的に有用な月利
の絹み合せどじCFeと1’−eの絹み合けによる「e
−Te系合金はFe中にT−0が固溶せずわずかにFe
l−e及びFe Te 2の組成等の結晶体及び偏析及
び/または析出を示す複合的な結晶体の頭数的組成でし
かjqられて4丁かった。
[発明の構成2作用1 本発明者らはFeに対し−[0の連続組成の固溶を鋭危
検詞(〕た結果、Feに対しTeが格子間に侵入した後
、ある組成を越えるとFe−−j−e合金が非晶状態ど
なり、F e及びl−eの組成にス・1し連続的に固溶
する非晶質合金を形成する事を見い出し Iこ 。
すなわち本発明は、Fe−TOからなり、丁0の含有量
が14へ・90原子%である新JF;、!な耐食+1に
優れた非晶質合金を特定発明どし、その製造法を第2発
明どするものである。
本発明に於ける新規な合金とは、一般式r(!1oo−
zTexNIT!L、×は原子%)で表わされる非晶質
構造を右する合金である。多結晶体の「eにleを微量
ずつ添加していくとTOは「e格子間に侵入し、格子を
歪ませる。ぞして、Teの含有量により以下のように構
造が変化することが((「認された。
すなわち×が約7%まではαFe(Te)固溶体C′あ
ることが確認された。そしC×がこれ以上になると非晶
質構造が散在する結晶構造の過渡的領域どなる。Xが1
2%の組成では、格子の歪みが顕著であり、例えば格子
歪みに敏感に感応し、磁性の変化を検知するγ線共鳴吸
収法(メスバウアー分光法)により歪んだ結晶状態の存
在が1liff認、されでおり、よって、×が12%前
後まで・は前記過渡的領域にあると思われる。
一ブj、X =14%の組成で゛はメスバウアースペク
トルはFeに基づく強磁↑!1の磁気的現+11目(l
の顕署な乱れが観測されると共に、結晶状態を確認する
分析法として周知のX線回折法等の結果ど総合すると非
晶構造どじで存在りる事が確認された。
結晶にり非晶に至るTOの組成の遷移域は格子歪みが漸
次的に大きくなる事と、同一組成合金でも作成時の微妙
り条f′1にJzり非晶生成は微妙に影響をう(]るの
で必ずしも非晶体の組成限弄は明確でないが、十)ホの
点から少なくとも×が14%以上の組成であれば、「e
−Teの非晶V[合金が得られることがわかる。
又、Xが90%を越えると、同様に過渡的領域となるこ
とが確認された。
そして、このXが14〜90%の非晶質合金は、耐食性
に優れていること及び以下の有用な特性を有することが
確認された。Te組成を145’A子%から増して行く
と、非晶質構造が上述の通り保たれると共に、「e−1
−e合金にお【Jる金属性特に導電性は、×−60%ま
ではFeと殆んど変らず、その後多少低下するも、X−
90%までは良好な導電性を示し、90%を越える前述
の過渡域では、Teに=4− よる半導体性の合金となる1、この」、うに本発明の非
晶質合金は導電性を有し、情報記録材等への適用の際の
静電気対策等に右利4丁ものどなる。一方、磁気的特性
は×−14%近傍に於ける強磁性的性質より次第に非晶
質金属中に磁気f−メントの分散した状態に至る。又、
光学的特性はTe組成の増加と共に金属的特性J:すT
e固有の光学特性に近づき、例えば、波長800nm付
近の半導体レーザー光に対J−る感光特性は増加する。
このように本発明の非晶質合金は、磁気、光磁気、ある
いは光等による情報記録月利とじで有用な特性を右づる
ものである。
また、×が14・〜50%のものでは、200℃で30
分間の真空中熱処理においても非晶質構造が安定してい
ることが確認されており、本発明のFe −Te非晶質
合金は耐熱性も優れたもので・ある。
以上から本発明のFe−Te非晶質合金のTe含有量は
、14〜90原子%であり、金属的特性特に導電性の点
よりは60原子%以下が好ましく、又耐熱性の点よりは
50原子%以下が好ましい。
なお、本発明の非晶質合金は、非晶買狛↑(1を10わ
ない範囲ぐ他元素をわずかに含有してもJ、い。
例えばFe原料に含まれるMo、Ti、Mn、W、7r
]−1f及びC11等である、1 本発明のFe−1−eからなる非晶質合金は合金作成時
合金IM成元素が結晶に再配り11−する以前に111
1造が凍結される条イ′1、いわゆる臨界冷却速度以−
にの急冷を実現覆る方法により作成される1、該yj法
どして最も良く用いられているのは、ガン法、ピストン
・アンビル法、ギャスjイング法」、たけ回転ロール法
どじで知られる溶融液イホを金属板子に高速に薄膜に広
げ、急冷を行ない非晶質合金シートを得る方法等である
。しかしながら「:e−1−eからなる非晶質合金では
これらの方法では[OどTeの融点が大きくWなる、粘
性が低い等の点で゛非晶質化が難かしい。本発明の非晶
質合金は好ましく【ま気相より固化する方法、づ−なわ
ら真空蒸着法、スパッタリング法等の物理蒸着法により
f+成される。真空蒸着法に於いては多元蒸着法、又は
合金試料と電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法。
抵抗加熱払、フラッシコ蒸着法等の組合せが用いられる
。しかしながら多元蒸着法に於いでは複数の蒸発源が必
要な事、合金膜Hに於いては蒸気圧の相違が大きく、試
料の分解/+(大きい等の問題がある11本発明のFe
−7eからイ〔る非晶質合金は、特に好ましくはスパッ
タリング法により実現9作成される。スパッタリング法
は、直流又はR1−の2枠又はマグネ1〜[]ン方式、
ざらには対向ターゲラ1〜lj式、イAンビーlXh式
等が用いられる。
「e及びTeJ、りなる合金、又は複数ターゲット等J
、り気相状となった2元元素の原子団は基板−1−に急
冷過程をへて沈肴刀−る。このスパッタリング法による
製)前払に於いでは、上述した組成範囲内に於いて、「
0−TO非晶質合金を作成する事がで゛きる。気相」、
り固化するIノ法に1ノリいて用いられる基板は金属、
ガラス、セラミックス、ゾラスチックス等、特に制約は
ない。スパッタリング法は、耐熱性の低いプラスブック
1jX板を用い、連続形成がでさるH、”、i’Q情報
情報記録への適用においで171に右利である。
一7= 以上の通り、本発明に於けるFe−Teから2iる非晶
質合金は、−1散した組成に於ける粒界、析出、偏析等
の不均質t’lをもつ結晶合金と異なり、連続的組成に
於()る均質な合金を形成する。イして本発明のFe−
丁e非晶質合金は前述した通り、適宜な組成に於いてT
業的に優位な優れた特徴を示す。例えばFeに対しTe
の添加により耐食性の優れた合金が得られる。そして、
特定の領域においては耐熱性に優れた非晶質合金が得ら
れる。
また合金の組成により磁気的性質が強磁f1より常磁性
的に転移するvUFNIが得られる。まlこTeの添加
により電気的骨質が金属的と半導体的の遷移領域をもつ
月1’i+が得られる。また、光記録に於いて重要な半
導体レーザー光に対し感光性の良好なFe合金材料が得
られる。
本発明に於けるFe−Teからなる非晶質合金の応用用
途は前記用途に限られるものではなく、例えば、さらに
−11配特↑(1等を複合的に利用する用途にも用いら
れる。また、例えば熱、光等の外的エネルギーを加える
事により一部、又は全部を結=8= 晶化させ物理的、及び又は化学的’l?i +lを変化
する事を利用1−る用途にも用いられる。これは、例え
ば上記した半導体レー棄ア・−光吸収を利用した高密度
メ■り一等情報祠判どしても有用で′ある。
以下、本発明のより具体的な説明を実施例で示1o但し
、本発明は以下の実施例で限定されるもので・はない。
また、実施例中の組成は原子%である。
「実施例1] 高周波2極スパツタリング装置を内に純庶99.9%の
直径6 cmのFeターゲラ1〜と09,99%の直径
約1 mmの球状Toを90個分散配岡した複合ターゲ
ラ1へを設(−〕た。ざらに厚ざ 125fJ、γUの
ポリイミドフィルl\をターゲッ1〜面にり約4 cm
 Butした水冷基板ホルダーに取りイd【Jた。真空
11勺を2,7x 10馬paにIJI気した後、99
.’19!’1%の△rを2,7[)a、槽内に導入し
、100Wのパワーでスパッタリングを行なった。スパ
ッタリング)181印は約1人/ Saaで100分後
膜厚5,700人の合金膜を19Iこ。19られた合金
膜の膜組成はF 885.5丁e14sでありX線回折
測定によると回折ピークは完全にブ1−1−トイT非晶
質状態を示した。Jなわち、所望のFe−Te非晶質合
金を得た。
し実施例2〜7.比較例1〜Gコ ターゲット上のTOの個数及び分散状態を変える以外は
実施例1と同じ条件で組成の異なった合金膜を作り、そ
れぞれにつきX線回折測定を行なった。結果を第1表に
示8I−0実施例2〜7で作られた物質は、均i1なF
e−Te非晶質合金となつ1、:。
(以下余白) 第1表 [実施例8〜11.比較例7〜10] 1.5mm厚のガラス板を直流マグネトロン装置の基板
ホルダーに取りf4t:t 、純度99.99%の5 
mm角。
1厚厚のTe板を純度99,9%、直径12cmのFe
ターゲット上に複数個分布させ、4PaのAr雰囲気下
200Wのパワーでスパッタリングし組成の異なった合
金膜を作成した。スパッタ速度は約10人/sec、膜
厚は約2,000人であった。得られlζ合金膜をX線
回折分析した後、2Nのl−I N O3溶液に浸した
。常温で5分間浸漬した後、合金膜−を観察した。結果
を第2表に示す。但し、表中、Xは膜が完全溶解、△は
ハクリ、○は僅かに変化、◎は変化なしを示す。実施例
に示すように本発明の非晶質合金は優れた耐食性を示η
第2表 [実施例121 真空蒸盾装岡内の2つの抵抗加熱式アルミナルツボより
なる蒸着源に、純[99,9%のFe、及び純度99.
99%のleを入れ、真空槽を2.7x10−3paに
排気した。2つの独立した電源rre及びTOの蒸弁速
度を制御し、蒸発源より20 cm頗れtこ厚さ1.2
mmのポリメチルメタクリレ−1・基板上に合金膜を形
成した。蒸着速庶は約15人/sec’r冑られた膜の
組成はF esJ 044、膜厚は170人であった。
X線回折によると合金膜は非晶質を示しIc。
該合金膜を、スポット径12/1m、波長820nmの
半導体レーザーの10 mW、  500ns光パルス
で照射したところ、被膜を残したまま反則率が約4%程
度変化した。
[実施例13〜16] 実施例8〜11で冑たザンブルを用い、真空中で200
℃、30分間の熱処理をして、その非晶質構造の耐熱性
を評価した。その結果を第3表に示す。
第3表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、FeとTeからなり、Teの含有量が14〜90原
    子%である耐食性非晶質合金。 2、FeとTeからなる非晶質合金をスパッタリング法
    に形成する非晶質合金の製造法。
JP59188109A 1984-09-10 1984-09-10 非晶質合金及びその製造法 Granted JPS6167751A (ja)

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PCT/JP1985/000502 WO1986001835A1 (fr) 1984-09-10 1985-09-09 Alliage amorphe et son procede de production
EP85904493A EP0193616B1 (en) 1984-09-10 1985-09-09 Amorphous alloy and process for its production
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WO1986001835A1 (fr) 1986-03-27
EP0193616A1 (en) 1986-09-10
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EP0193616B1 (en) 1992-03-18

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