JPS6165748A - ウエハ−吸着装置 - Google Patents

ウエハ−吸着装置

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Publication number
JPS6165748A
JPS6165748A JP18616684A JP18616684A JPS6165748A JP S6165748 A JPS6165748 A JP S6165748A JP 18616684 A JP18616684 A JP 18616684A JP 18616684 A JP18616684 A JP 18616684A JP S6165748 A JPS6165748 A JP S6165748A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
suction
attractive
cutter
pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18616684A
Other languages
English (en)
Inventor
Seitaro Tokura
戸倉 誠太郎
Masaharu Ninomiya
二宮 正晴
Isao Onishi
勲 大西
Toshihiro Kosaka
高坂 俊広
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KYUSHU DENSHI KINZOKU KK
Nihon Spindle Manufacturing Co Ltd
Osaka Titanium Co Ltd
Original Assignee
KYUSHU DENSHI KINZOKU KK
Nihon Spindle Manufacturing Co Ltd
Osaka Titanium Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KYUSHU DENSHI KINZOKU KK, Nihon Spindle Manufacturing Co Ltd, Osaka Titanium Co Ltd filed Critical KYUSHU DENSHI KINZOKU KK
Priority to JP18616684A priority Critical patent/JPS6165748A/ja
Publication of JPS6165748A publication Critical patent/JPS6165748A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
    • B28D5/0094Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work the supporting or holding device being of the vacuum type

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Feeding Of Workpieces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、例えばスライシングマシン等により切り出さ
れるウェハーの吸着装置に関する。
周知のようにシリコン、ゲルマニウム、GGG。
サファイヤ、ガラス、セラミック、フェライト等の4子
材料は、棒状の結晶体(以下インゴットと称する)から
スライシングマシンにより短片状ウェハーに切り出して
使用される。これらの(子材料(J硬質かつ脆性を有し
、取り出しに際し往々番として折損または疵全発生する
おそれがある。このためウェハーの枚葉取り出しには吸
着手段が用いられているが吸盤全ウェハーに押しつける
ことはウェハーを回転するカッタに押しつけるとと\な
り、ウェハーの切断直に@を発生する等の問題がある。
このため吸盤はウェハーに対し微小間扁全存して対向し
、吸引力によ°り切断されたウエノ1−全吸着すること
が好ましいが、大なる吸引力を必要とすると共に、ウェ
ハーに対し吸盤の吸着面全正確に平行する必要があり、
片当りするときは吸引力が低下し、把持が不確実となる
欠点がある。
この解決手段として吸盤の吸着面全ウニ/′1−と平行
にするための微調整手段全役けることも堤案されている
が、操作にきわめて手斂全要する欠点がある。他の手段
として、吸盤の前面全スライシングマシンのカッタによ
り切1祈することによりウェハーの121I断面と平行
に形成することも堤案されている。しかしこれら何れの
方法においても微細間隙を存して吸着子るためには相当
の吸引力全必要とし、しかも切断されるウェハーと回転
するカッタとの間には切削液が介入して表面張力により
真空状態となり、ウェハーはカッタに密着し、従って往
々にして確実な吸着が行なわれず、ウエノλ−?落下さ
せる等の問題がある。
また切断するウェハーの厚みが変化すればその都度再調
整しなければならず多大な手数?要する欠点があった。
本発明はかかる点に4みてなされたもので%膚少な吸引
動力によりウェハーに対する吸、1Fを良好ならしめ把
持全確実ならしめると共に、ウェハーに対しカッタより
離間方向のトルクを付与し、カッタとの接触による疵の
発生の防止並びにカッタとの密着に対し剥離作用を付与
すること全目的とするもので、吸着装置に接続される真
空室が形成される吸着本体には、該真空室に連通ずる貫
通孔に嵌挿される吸盤を備え、この吸盤先端には弱い弾
性の吸着パッドが取付けられ、かつ吸盤1ifI百には
真空室に連なる吸気口を開口すると共に、上記吸盤には
ウェハーに対する吸着力より弱い力にて後方に付勢する
付勢手段が設けられたことk ’%旨とするものである
以下1本発明を図面に示す一実施例に基づいて詳細lど
説明する。
本実施例は、前記電子材料よりなるインゴットaを切断
し、ウェハーb2形成するスライシングマシンAに本発
明を適用した例を示すもので、カッタCは内周に切刃全
線えたドーナツ伏の薄板を以て構成され、インゴットλ
はカッタCの内腔にかつ水平に位置せしめ、インボッ)
apQ々に上昇してウェハーbを切断する周知構造のも
のである。
上記ウェハーbB吸着すべき吸着装置lは、インゴット
友の上昇と同期して該吸着装置1を上昇せしめる昇降手
段2にアーム8全介して連設される。この昇降手段2は
適宜構造のものが適用できるが、図はその1例と示す。
この昇降手段2はスライシングマシンAの取付台F≦ζ
取寸けられる支持ブラケット6と、このブラケット6に
取付けられる支持板61により図において左右方向に摺
動可能に支持される本体フレーム6とを備え、本体フレ
ーム6は左右移行用シリンダ丁により左右方向、即ち吸
着装置lをウェハーbに対し近接離間せしめる。本体フ
レーム6は昇降モータ8および昇降モータ8の回動によ
り昇降される昇降杆9を備え、これらは木′体フレーム
6番ど貫挿される主軸10に固着される支持ブロック1
1に取付けられ、前記アーム3は昇降杆9の下端に連結
される。12は主Qtoの回動用ロータリアクチュエー
タである。これによりアーム3は昇降モータ8の回動に
より鎖線8@で示す下降位置から、インゴット1の上昇
と同期して実線で示す上昇位置に上昇される。そして少
くともウェハーbの切断終了直前において左右移行用シ
リンダ7により吸着装置1 をウェハーbに近接し、ウ
ェハーbの吸着完了後は再び吸着装置l全後退せしめる
。次いで鎖線8aの位置に降下せしめると共に、主軸1
0i中心として14sbに示す回動位置に回動し、吸着
した内で八−h % 、a宵の烏美玉の((ヅ云省収)
に俳謄する。
上記吸着装置1は、吸気手段(図示省4)に連結される
取付孔21を橢えた吸着本体20と、この本体20に取
付けられる吸!!22とを備え、吸着本体2Gには裏蓋
28との間に上記取付孔21に連通される真空室24が
形成されている。
吸122は吸着本体20の上記真空室24に連設された
貫通孔215に摺動自在に嵌挿され、後記には中央に連
JI孔27が穿孔される規制板26が取付けられ、規制
板26には吸察22を後方(ウェハーbとは反対方向)
に付勢する゛付勢手段28が設けられる。この付勢手段
28としては1例えば弱いばねが用いられる。その他1
弦力による吸引力または反撥力を用いるようにしてもよ
く、あるいはベローズ、ダイヤプラム、差動トランス全
利用してもよい。この付勢手段28Iどより常時は吸盤
22は後方に付勢され、前部フランジ29は吸  ゛着
本体20の前面に当接されている。1及盤22の前面に
は、上記連通孔27を介して真空室24に連なる吸気口
80が形成され、かつ前端外周に)ま先・喘が拡開され
た盃状の弱い弾性の吸着パッド81が嵌着されている。
上記吸気口3oは図示の如く十字形とすることが好まし
く、これは切断されたウェハーbがカッタCに密着した
とき、ウェハーbの回:ub並びにカッタCに追随して
移行するの?阻止するために、回動または移行方向と略
直角の縁線?臂せしめることが効果的である。
上記構成において、吸着装置1は昇降手段2にヨリイン
コツトaの上昇に追随して徐々に上昇される。そして少
くともウェハーbの切落される直前において吸着装置l
は昇降手段2の左右移行用シリング7の作1肋によりウ
ェハーbに対し近接位なに押し出され、同時に吸気作用
が印加される。
これにより吸着パッド81はウェハーbに対し若干の隙
間があっても弾性が弱いため隙間に発生する吸引気流に
よりウェハーb側に湾曲し、全周面7%ウェハーbに密
着する。次いで吸盤22内の真空圧が増加するに従い、
吸着パッド81は偏平となり吸盤22を付勢手段!!8
に抗して前進せしめる。従ってウェハーblどは付勢手
段28の反力により引張り力が及ぼされ、カッタCとの
当接面Iこは離間方向のトルクが働き、切り落されたと
きは付勢手段28の作用にてウェハーbはカッタCとは
離間され、カッタCとの接触による疵等を発生すること
が防止される。
上記実施例はスライシングマシンに本発明全適用した例
?示したが、その他例えば墳み重ねられたウェハーの枚
葉取出し5こ際しても本発明全適用することができる。
この場合においても柔軟な吸着パッドが吸引風三番こよ
りウェハーに密着し、真空圧の上昇により吸盤が前進し
直接ウェハーに密着するから、確実に把持することがで
きる。
以上の如く本発明によるときは柔軟な吸着パッドを備え
たから、比較的少い吸引風擾によっても湾曲してウェハ
ーに吸着させることができ、これにより内部の真空圧が
高められる故吸引動力の減少?計ることができる。しか
も真空圧の上昇に伴い吸盤は付勢手段に抗して前進し直
接ウエノ)−全吸着するから、ウェハーの把持は確実で
ある。
従って従来の吸盤の押しつけによるウニ/X−の破損等
を防止することができると共に切断するウェハーの厚み
が変ってもウェハーと吸盤との間隙の微調整゛全必要と
せず、取扱い及び操作が容易である等の効果全盲する。
【図面の簡単な説明】
第1図は一邦切欠したスライシングマシンの要部の概略
説明図、第2図は吸着装置の樅断面閾、第8図は@2図
に沿いて裏蓋全除去して示す右側面図、7144図は第
2図において吸着パッドを除去して示す左側面図である
。 110.吸着装置 20 、 、、吸着本体 228. 、吸盤 24 、 、 、真空室 251. 、貫通孔 28、、、#警手段 go 8.、吸気口 at 、 、 、吸着パッド A−−スライシングマシン λ44.インゴット b、0.ウェハー C16,カッター 特許出願人    大阪チタニウム製造株式会社特許出
願人   九州1子金属株式会社特許出願人    日
本スピンドル製造株式会社代  理  人    池 
  1)  万 喜 i生″:゛・ −1− 外  1名 第1図 Δ 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 吸気装置に接続される真空室が形成される吸着本体には
    、該真空室に連通する貫通孔に嵌挿される吸盤を備え、
    この吸盤先端には弱い弾性を有する吸着パッドが取付け
    られ、かつ吸盤前面には真空室に連なる吸気口を開口す
    ると共に、上記吸盤にはウエハーに対する吸着力より弱
    い力にて後方に付勢する付勢手段が設けられたことを特
    徴とするウエハー吸着装置。
JP18616684A 1984-09-04 1984-09-04 ウエハ−吸着装置 Pending JPS6165748A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18616684A JPS6165748A (ja) 1984-09-04 1984-09-04 ウエハ−吸着装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP18616684A JPS6165748A (ja) 1984-09-04 1984-09-04 ウエハ−吸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6165748A true JPS6165748A (ja) 1986-04-04

Family

ID=16183542

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18616684A Pending JPS6165748A (ja) 1984-09-04 1984-09-04 ウエハ−吸着装置

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JP (1) JPS6165748A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021028102A (ja) * 2019-08-09 2021-02-25 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 棒材切断機

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2021028102A (ja) * 2019-08-09 2021-02-25 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 棒材切断機

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