JPS6163640A - メタクリルアミドの重合抑制方法 - Google Patents

メタクリルアミドの重合抑制方法

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JPS6163640A
JPS6163640A JP18278084A JP18278084A JPS6163640A JP S6163640 A JPS6163640 A JP S6163640A JP 18278084 A JP18278084 A JP 18278084A JP 18278084 A JP18278084 A JP 18278084A JP S6163640 A JPS6163640 A JP S6163640A
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JP
Japan
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methacrylamide
polymerization
chelating agent
nitrite
acid
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JP18278084A
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Kenichi Wada
健一 和田
Tadashi Iwakuma
岩熊 正
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はメタクリルアミドの重合抑制力法に関するもの
である。
(従来の技術) メタクリルアミドは一般にアセトンシアンヒドリンと硫
酸との反応から得られるメタクリルアミド硫酸塩を、水
などの溶媒中でアンモニアにより中和し、晶出分離する
ことによって結晶として得られる(特公昭44−260
94、同45−2566、同47−35885等)。
しかし、メタクリルアミドは極めて重合しやすく、製造
工程中または製品化温度が上昇したり乾燥したりする場
合、あるいは長期間保存したりする場合などに重合が進
み品質を劣化させる。
従来、アクリルアミド等のビニールモノマーの重合抑制
剤として知られているものに、銅、ロダン錯塩、亜硝酸
ナトリウム、リン酸ナトリウム、硫酸マンガンなどの無
機化合物、クロペン、ハイドロキノン、チオ尿素、フェ
ノール類、エチレンジアミン四酢酸、ヒドロキシエチル
エチレンジアミン三酢酸、などの有機化合物がある。
しかし、これらの中クロペンは重合抑制能力は犬である
が、メタクリルアミド製品の着色をもたらすので不適で
ある。又、他の無機または有機化合物はいずれも重合抑
制能力が不十分であることがわ力)った。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明者らはメタクリルアミドの重合抑制力法r関して
鋭意検討の結果、驚くべきことにアミノカルボン酸型キ
レート剤と亜硝酸アルカリ金属塩との混合物が優れた重
合抑制効果を有すること、また、重合抑制剤をメタクリ
ルアミド製造におけるメタクリルアミド硫酸塩溶液の中
和工程の前に添加するのが極めて効果的であることを見
出し、本発明にいたった。
(問題点を解決するための手段) すなわち本発明は、シアンヒドリン法によるメタクリル
アミドの製造において、アミノカルボン酸型キレート剤
と亜硝酸アルカリ金属塩からなる重合抑制剤を添加する
ことを特徴とするメタクリルアミドの重合抑制方法であ
る。
本発明の方法は、アセトンシアンヒドリンと硫酸との反
応によりメタクリルアミドを製造するシアンヒドリン法
に適用される。
本発明の方法では、重合抑制剤としてアミノカルボン酸
型キレート剤と亜硝酸アルカリ金属塩を併用する(以下
、必要に応じ両者をまとめて複合型重合抑制剤という)
重合抑制剤として使用されるアミノカルボン酸キレート
剤としては、エチレンジアミン四酢酸(+4 l0TA
 ) 、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸(H
ETA) 、ニトリロ三酢酸(NTA)、トリメチレン
ジアミン四酢酸(TMTA)等のアルカリ金属塩または
部分アルカリ金属塩があげられる。
アルカリ金属塩としてはナトリウム、カリウム、リチウ
ム等のアルカリ金属に属するものであって、とくにナト
リウムが実用的である。金属塩または部分金属塩はそれ
ぞれ単独であっても、また両者の混合物であってもよい
。また、亜硝酸アルカリ金属塩としては亜硝酸ナトリウ
ム、亜硝酸カリウム、亜硝酸リチウム等亜硝酸のアルカ
リ金属塩であれば何でもよいが、亜硝酸すl−IJウム
が実用的である。
複合型重合抑制剤におけるアミノカルボン酸型キレート
剤と亜硝酸アルカリ塩との使用割合は、[:10乃至1
0:1の範囲、通常、等量程度であればよい。
これら複合型重合抑制剤の使用濃度は、それを構成する
各重合抑制剤の和がメタクリルアミド結晶に対し1〜l
OO重量ppmとなるよう添加される。
これらの重合抑制剤はアセトンシアンヒドリンと硫酸と
の反応の適宜の工程、好ましくは反応により生成したメ
タクリルアミドを含有する反応生成液の中和反応前また
は中和反応後に添加されるのが一般的であり1反応生成
液に対する添加量は、通常、10〜1000重量ppm
、好ましくは50〜350重量1つpmである。
なお、これら重合抑制剤はそれぞれの飽和以下の濃度の
水溶液の型で供給される。
また、本発明の方法において、複合型重合抑制剤は、メ
タクリルアミド結晶の乾燥工程において遠心分離後や減
圧乾・燥前に添加してもよい。
(発明の作用および効果) 本発明罠より得られるメタクリルアミドは重合抑制剤無
添加のメタクリルアミドは勿論、前述の重合抑制剤を単
独で添加したメタクリルアミドに比し品質安定性が良く
、長期間の貯蔵や輸送時(においても重合が抑制される
(実施例) 以下、実施例により、本発明を具体的に説明する。
なお、重合抑制効果の測定は重合体の存在にもに針叶−
t 979工業用水試験法の14ページ9.2透過光層
度の項に従って測定し、メタクリルアミド10%水溶液
の濁度として表わしたものであり20以下が合格と判定
される。
また、色度はAPi−読比色度であり、メタクリルアミ
ドの710%水溶液について測定したものであり、30
以下が合格と判定される。
実施例1〜3、比較例1〜11 ウォーターバスに浸漬し、攪拌機を装備した3eのビー
カー)(水974 mlを入れ、硫酸/アセトン/アン
ヒドリン= r、7 (モル比)、アミド化温度160
°Cの条件で製造したアミド化率93.5%のメタクリ
ルアミド暁酸塩739gを液温30℃以下で滴下した。
次いで、第1表に示す重合抑制剤を反応液に対し150
重量ppm添加した。その後、液体アンモニアを気化さ
せたアンモニアガス169 gを液温40〜45°Cを
医ちながら氷冷下に1時間かげて吹込み中和反応を行っ
た。得られたスラリーよりメタクリルアミドを内径15
C1rLの遠心分離機を用いて分離し、脱水を十分に行
ったのち、得られたメタクリルアミドを70℃のウォー
ターパスに浸した11のナス型フラスコに入れ、ロータ
リーエバポレーターを用いて、内圧50 mm水銀柱で
20分かげて減圧乾燥し、重合抑制剤15重量ppmを
含有するメタクリルアミド403gを得た。このメタク
リルアミドを温度40°Cで5日間保存し、濁度および
色度を前述の方法により測定した、結果を第1表および
第2表の実施例の欄に示す。
実施例4〜6、比較例12〜22 重合抑制剤の添加方法を、実施例における中和前の反応
液に添加する方法から、減圧乾燥前の結晶に均一な噴霧
により添加する方法に変更したこと以外は実施例と全く
同じ実験を行った。結晶中の重合抑制剤濃度は15重量
ppmであったっ結果を第1表および第2表の比較例の
間に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)シアンヒドリン法によるメタクリルアミドの製造に
    おいて、アミノカルボン酸型キレート剤と亜硝酸アルカ
    リ金属塩からなる重合抑制剤を添加することを特徴とす
    るメタクリルアミドの重合抑制方法。 2)アミノカルボン酸型キレート剤と亜硝酸アルカリ金
    属塩とが、アセトンシアンヒドリンと硫酸の反応により
    生成したメタクリルアミド硫酸塩溶液に添加される特許
    請求範囲第1項記載の方法。
JP18278084A 1984-09-03 1984-09-03 メタクリルアミドの重合抑制方法 Granted JPS6163640A (ja)

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JPS6163640A true JPS6163640A (ja) 1986-04-01
JPH0335312B2 JPH0335312B2 (ja) 1991-05-27

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5837093A (en) * 1992-01-17 1998-11-17 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus for performing plain etching treatment
KR100503138B1 (ko) * 2001-11-06 2005-07-21 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 안정화된 아미드 조성물
JP2005343845A (ja) * 2004-06-04 2005-12-15 Hakuto Co Ltd アクリロニトリルの重合抑制剤および重合抑制方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5837093A (en) * 1992-01-17 1998-11-17 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus for performing plain etching treatment
KR100503138B1 (ko) * 2001-11-06 2005-07-21 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 안정화된 아미드 조성물
JP2005343845A (ja) * 2004-06-04 2005-12-15 Hakuto Co Ltd アクリロニトリルの重合抑制剤および重合抑制方法

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