JPS616266A - 高融点金属材料 - Google Patents

高融点金属材料

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Publication number
JPS616266A
JPS616266A JP3203784A JP3203784A JPS616266A JP S616266 A JPS616266 A JP S616266A JP 3203784 A JP3203784 A JP 3203784A JP 3203784 A JP3203784 A JP 3203784A JP S616266 A JPS616266 A JP S616266A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
melting point
plating
high melting
brazing
nickel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3203784A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadao Umetsu
梅津 貞夫
Yasuaki Azuma
東 安明
Kunio Kaku
賀来 国男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toho Kinzoku Co Ltd
Original Assignee
Toho Kinzoku Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toho Kinzoku Co Ltd filed Critical Toho Kinzoku Co Ltd
Priority to JP3203784A priority Critical patent/JPS616266A/ja
Publication of JPS616266A publication Critical patent/JPS616266A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C26/00Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はろう付性に富んだ高融点金属材料に関するも
のである。
電子レンジのマグネトロンには、第1図に示すような部
品が金談れている。この部品は上端部に」二部エンドハ
ラ)1が、またそれよりも下方位置には下部エンドハツ
ト2が設けられ、これら上下のエンドハツト1.2の間
にはトリウムタングステンからなるコイル3が介装され
、該コイル3の上下端部はそれぞれの側のエンドハツト
1.2に白金ろう等を用いてろう接されている。上部エ
ンドハツト1には中央リード棒5の上端部がろう接され
、該中央リード棒5は下部エンドハツト2の中央に穿設
されている通孔2a内を通って、コイル3と下部エンド
ハツト2に接触しないように下方に伸びている。下部エ
ンドハツト2には側部り−ド棒6の上端部がろう接され
ており、その脚部8aと前記中央リード棒5の下方に伸
びた脚部5♂とがセラミックスでつくられたステム絶縁
体7の2つの通孔7a、7bに挿通され、銀ろう等のろ
う材8で該ステム絶縁体7にろう接されている。
ところで、上記マグネトロン部品は使用中に部分的に1
500℃以上の高温にさらされるので、2木のリード棒
5,6はタングステン、モリブデン等の高融点金属でつ
くられるのが普通であるが、このような高融点金属は一
般にろう付性が悪いので、これをセラミックスのステム
絶縁体等にろう接するのは難しく、ろう接に対する信頼
性が低かった。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので。
マグネトロン等の構成材料として適したろう付性に富ん
だ高融点金属材料を提供するものである。
すなわち、本発明にかかる高融点金属材料は、タングス
テン、モリブデン等の高融点金属の表面にニッケルメッ
キを施したのち、還元性雰囲気中または真空中で高温加
熱して表面のニッケルメッキ層を内部に拡散させたこと
を特徴としている。
以下、実施例にもとづいてこれを詳細に説明する。
本発明に用いられるタングステン、モリブデン等の高融
点金属は通常粉末冶金法でつくられるもので、上記マグ
ネトロン用リード棒としては、直径数Iの丸棒が使用さ
れる。このタングステン又はモリブデンにはドープ剤等
微量な添加物が添加されていてもよく、製造中に不可避
的に混入する不純物等、耐熱性、JLI’T性等の必要
な性質を大幅に損わない程度に他の元素が含まれていて
もよい。
丸棒等所望の形状の高融点金属からなる素材が得られた
ら、これにニッケルメッキを施す。このニッケルメッキ
は、実際にろう接される部分のみに施しておけばよく1
例えば外8!2■、長さ約501のリード棒の場合は、
その下端部11〜12■震の長さにメッキしておけばよ
い。
このメッキは、次のような手順で二段階に分けて行なう
のが好ましい。先ず、素材に前処理としてソーダ電解を
施す。このソーダ電解は、例えば苛性ソーダ(Na0H
)を120g/ n含む2〜4N(7)液中で、例えば
電流値20Aで15秒間行なう、つぎに、例えば下記組
成のストライクメッキ液を用いて一次メツキを行なう。
塩化ニッケル(NiC2争1(H2O)  220g/
交塩酸()l(4)         120cc/u
水 メッキ条件は 例えば直流30Aで10秒間である。
−次メツキが終了したら、つぎに例えば下記組成のノー
2キ液を用いて二次メッキを行なう。
硫酸ニッケル(NiSO4φ8H20)  240g/
文塩化ニッケル(NiCf2・8H20)   45g
/交ホウ酸(H,BO3)        30g/交
水 メ、ンキ条件は、直径2鵬■の棒の場合で、例えば2.
3±0.2Aの電流で2分間行なう、メッキ厚は片側で
1.5〜5ミクロン(JLm)程度とするのがよ<、2
.5〜3.5 #Lyaとするのがより好ましい。
メッキ層の厚みがこれよりも小さすぎれば所期の効果が
得られにくく、逆にメッキ層をこれよりも厚くするのは
不経済である。
上記メッキが終了したら、水洗し熱風乾燥等の方法で乾
燥して、素材表面にニッケルメッキ層を形成した中間製
品を得る。つぎに、この中間製品を電気炉中で加熱して
表面のニッケル層を素材内部へ拡散させる。この加熱は
水素ガスのような還元雰囲気中もしくは真空中で行なう
。加熱温度は770°±30℃とするのがよく、高温で
の保持時間は通常は15分程度でよい、加熱温度が低す
ぎるとニッケルの充分な拡散が行なわれず、逆に高すぎ
ると拡散が進みすぎてろう付性が低下するおそれがあり
、加熱に必要なエネルギー量も多くなるので好ましくな
い、この加熱によって表面層のニッケルが部分的に素材
内部に拡散するので、表面のニッケルに富んだ層の素材
に対する密着強度がきわめて高いものとなる。また、表
面部にはニッケルに富んだ層が形成されているので、タ
ングステン、モリブデン等の生地よりもはるかにろう付
性が向上するのである。
以上に説明した如く、本発明にかかる高融点金属材料は
、表面にニッケルに富んだ表面層が形成されているので
、銀ろう等のろう材を用いる場合のろう付性が高く、し
かも前記ニッケルに富んだ表面層が部分的に素材中に拡
散して強固に一体化しているので、表面層の剥離等が生
じにくい、したがって、この高融点金属材料は、ろう接
が容易でろう接強度の高いきわめてすぐれたものである
【図面の簡単な説明】
第1図はマグネトロン部品の1例をあられす断面図であ
る。 1・・・上部エンドハツト、2・・・下部エンドハツト
、3・・・コイル、5.6・・・リード棒。 第1図 ・f−続 ネ山 ■[ヨ −゛)(方式)昭和60イ1
−7月2411

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)タングステン、モリブデン等の高融点金属の表面
    にニッケルメッキを施したのち、還元性雰囲気中または
    真空中で高温加熱して表面のニッケルメッキ層を内部に
    拡散させたことを特徴とする高融点金属材料。
JP3203784A 1984-02-21 1984-02-21 高融点金属材料 Pending JPS616266A (ja)

Priority Applications (1)

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JP3203784A JPS616266A (ja) 1984-02-21 1984-02-21 高融点金属材料

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3203784A JPS616266A (ja) 1984-02-21 1984-02-21 高融点金属材料

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JPS616266A true JPS616266A (ja) 1986-01-11

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ID=12347671

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JP3203784A Pending JPS616266A (ja) 1984-02-21 1984-02-21 高融点金属材料

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1422737A2 (en) 2002-11-20 2004-05-26 Lg Electronics Inc. Magnetron and method for joining magnetron components

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