JPS6158556B2 - - Google Patents
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- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 68
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 45
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 17
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 11
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical class O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 5
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960002449 glycine Drugs 0.000 claims description 3
- 235000013905 glycine and its sodium salt Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000011656 manganese carbonate Substances 0.000 claims description 3
- 229940093474 manganese carbonate Drugs 0.000 claims description 3
- 235000006748 manganese carbonate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910000016 manganese(II) carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L manganese(ii) carbonate Chemical compound [Mn+2].[O-]C([O-])=O XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- NDEMNVPZDAFUKN-UHFFFAOYSA-N guanidine;nitric acid Chemical compound NC(N)=N.O[N+]([O-])=O.O[N+]([O-])=O NDEMNVPZDAFUKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- -1 silicon ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 159000000009 barium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000356 chromium(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[[oxido(oxo)silyl]oxy]silane hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])([O-])O[Si]([O-])=O FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003388 sodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
本発明は常温において光沢のある黒色クロムメ
ツキを高電流効率で得るためのメツキ液に関する
ものである。 黒色クロムメツキを得るために無水クロム酸溶
液のメツキ浴に触媒として種々の物質を添加する
ことが行なわれている。それらの添加物として
は、フツ化物、スルフアミン酸等の無機物あるい
は酢酸、蟻酸等の有機物の単独または組み合せが
知られている。 いずれの既知の添加物を用いても、黒色クロム
メツキを得るには、低温、高電流密度を必要とし
たり、均一に電着しなかつたり、均一な皮膜を生
じなかつたり、光沢、黒色度が劣つたり、厚メツ
キができなかつたりし、一般に電流効率も数%の
程度である。 本発明者等は基本的にはケイフツ化物が添加物
として最も有望との見解のもとに、これと組み合
せる添加物を種々探索した結果、アルカリとケイ
フツ酸またはケイフツ化物と硝酸または硝酸塩の
組み合せが最も有効であることを見出した。 本発明によれば メツキ浴1につき 無水クロム酸 200〜700g アルカリ(水酸化ナトリウムとして) 10〜140g ケイフツ酸またはケイフツ化物 0.2g〜飽和 硝酸または硝酸塩 0.5〜10g の割合で含む黒色クロムメツキ液が提供される。 本発明によれば、上記基本組成をさらに過マン
ガン酸塩、炭酸マンガン、タングステン酸塩、尿
素、トリエタノールアミン、アミノ酢酸、N・N
−ジメチルホルムアミドからなる群から選ばれる
第5成分を少量含有する黒色クロムメツキ液が提
供される。 本発明のメツキ液はAl以外の通常のメツキ下
地金属すなわちFe、Zn、Cu、Ni、Cr等に適用で
きる。 本発明においてアルカリとはアルカリ金属およ
びアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸
塩を包含する。ここではアルカリの量のみが問題
になる。どんなアルカリを用いても良いが、価格
の点でもつぱら使用されるのは、ナトリウム化合
物である。 本発明において硝酸塩とは硝酸とアミンのよう
な塩基性有機化合物との付加塩をも含む。硝酸塩
のなかの硝酸根の量のみが問題である。ケイフツ
素化合物も同様にケイフツ素イオンのみが問題で
ある。 本発明のメツキ浴は工業的に何等不都合なく使
用でき、従来のメツキ浴が温度に敏感で、低温で
しか良好な黒色メツキが得られず、温度の上昇と
ともに灰黒色から灰色のメツキになるのに対し、
温度に鈍感で常温で真黒色が得られる。また本発
明のメツキ浴は2〜3A/dm2の低電流密度から50
A/dm2以上の高電流密度にわたつて実施でき、フ
ラツシユメツキから10μ以上の厚メツキまで得る
ことができる。また既知のメツキ浴のなかで電流
効率が高いとされているものでもせいぜい数%で
あつたのに対し、本発明のメツキ浴は10%以上の
電流効率を達成し得る。さらに本発明のメツキ浴
は3価クロム量に鈍感であり、浴管理が容易であ
る。 本発明のメツキ浴において無水クロム酸は少な
くとも200g/添加する必要がある。200g/未
満では浴の電導度、陰極電流効率が低く、黒色ク
ロムメツキの得られる電流密度範囲も狭くなる。
700g/を越えてもそれに見合う効果はなく不経
済である。 アルカリの添加は電流効率を高め、黒色クロム
メツキの得られる電流密度範囲を広げる。その添
加量は無水クロム酸量によつて変化し、水酸化ナ
トリウムの場合10g/ないし140g/の量で使
用される。10g/未満でも、140g/を越えて
も電流効率、黒色クロムメツキの得られる電流密
度範囲が減少し好ましくない。アルカリの添加量
は水酸化ナトリウムの場合水酸化ナトリウムと無
水クロム酸のモル比が1:2ないし1:3の範囲
が好ましい。 ケイフツ酸またはケイフツ化物は0.2g/未満
の添加ではメツキの黒色度が低下し好ましくな
い。ケイフツ酸またはケイフツ化物の使用量に上
限はないが、一般に0.5g/を越えて使用しても
メツキ浴の性能に差は認められない。これはケイ
フツ酸あるいはケイフツ化物の溶解度が浴中の他
イオン量の影響を受け、溶解限が存在するためで
ある。共存イオンの種類によつても異なるが0.5
g/〜1.5g/以上のケイフツ酸あるいはケイ
フツ化物を添加した場合、沈殿が認められ、X線
回折分析の結果沈殿物がケイフツ化物であること
が確認されている。 硝酸または硝酸塩の添加量はその分子量に依存
するが、一般に0.5g/未満では目立つた効果が
現われず、10g/を越えると黒色クロムメツキ
の得られる電流密度範囲が狭くなる。 本発明のメツキ浴においてある一定量以上の硫
酸根の混入は有害であるので、無水クロム酸中に
不純物として存在する硫酸根、あるいは前のメツ
キ工程より持ち込まれる硫酸根はバリウム塩の添
加により除去することが好ましい。 アルカリは先に触れた様に、クロム酸化物の析
出を容易にする。 ケイフツ酸またはケイフツ化物は、クロム酸化
物の析出を容易にし、黒色クロムメツキの得られ
る電流密度範囲を拡大する。 硝酸または硝酸塩は、黒色クロムメツキの光沢
を高め、黒色クロムメツキの得られる電流密度範
囲を拡大し、さらには常温における黒色クロムメ
ツキを可能にする。 本発明のメツキ浴を使用すれば、常温において
2〜3A/dm2から黒色クロムメツキが得られ、20
A/dm2以上で10%前後の高い電流効率が得られ
る。 本発明のメツキ浴は浴温に比較的鈍感である
が、次の傾向がある。 無水クロム酸濃度400g/以下の低濃度浴の場
合、ハルセルパターン図でいえば、浴温10℃以下
では約50A/dm2の高電流密度でやけを生じやす
く、析出最低電流密度が低下する。浴温上昇にと
もない高電流密度域においてやけを生じにくくな
り、析出最低電流密度が若干上昇する。例えば浴
温20℃前後では高電流密度域でやけを生じなくな
り、光沢黒色クロムメツキの得られる電流密度範
囲が最も広くなる。浴温30℃以上では光沢黒色ク
ロムメツキの得られる電流密度範囲が減少するの
で好ましくない。 無水クロム酸濃度500g/以上の高濃度浴の場
合には、温度上昇にともない高電流密度域におい
てやけを生じにくくなり、析出最低電流密度も若
干低下する。浴温35℃以上では光沢黒色クロムメ
ツキの得られる電流密度範囲が減少するので好ま
しくない。 次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 常法により表面を清浄にした銅板(60×101×
1mm)にニツケルメツキ(約4μ)を施した試料
を陰極として、ハルセル(267ml)を用いて全電
流10Aで下記の組成の電解液で3分間電解メツキ
した。陽極には純鉛板を用いた。 無水クロム酸 200g/ 水酸化ナトリウム 10g/ ケイフツ酸 0.2g/ 硝酸コバルト 5g/ 電解中浴温は7〜21℃であつた。無水クロム酸
は溶解後炭酸バリウムを加え、生ずる沈殿を別
して使用した(以下の実施例においてことわりの
ない限りこの処理を施した)。 この結果、黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密
度8.4〜78.4A/dm2の範囲で得られ、12.6〜78.4A/
dm2で光沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 2 無水クロム酸 300g/ 水酸化ナトリウム 60g/ ケイフツ酸 0.5g/ 硝 酸 0.5g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温7〜17℃) 黒色クロムメツキ皮膜は、陰極電流密度2.6〜
56.1A/dm2で得られ、9.1〜56.1A/dm2で光沢のあ
る真黒色皮膜であつた。 清浄化された銅板に直接黒色クロムメツキを施
しても同様の結果が得られる。 実施例 3 無水クロム酸 400g/ 水酸化ナトリウム 60g/ ケイフツ酸 0.5g/ 硝酸グアニジン 5g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温11〜21℃) 黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密度2.8〜
66.8A/dm2の範囲で得られ、11〜66.8A/dm2では
光沢のある真黒色皮膜であつた。 水酸化ナトリウムの代わりに75g/の炭酸ナ
トリウムを使用してもほぼ同様の結果を得る。 実施例 4 無水クロム酸 400g/ 水酸化カリウム 60g/ ケイフツ化ナトリウム 0.7g/ 硝酸銀 10g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温8〜19℃) 黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密度5.8〜
59.1A/dm2の範囲で得られ、11.4〜59.1A/dm2で
は光沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 5 無水クロム酸 600g/ 水酸化ナトリウム 100g/ ケイフツ酸 1g/ 硝酸グアニジン 3g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温16〜25℃) 黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密度3.4〜
66.8A/dm2の範囲で得られ、3.4〜66.8A/dm2で光
沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 6 無水クロム酸 600g/ 水酸化ナトリウム 140g/ ケイフツ酸 5g/ 硝酸ナトリウム 3g/ の浴を用い、他は実施例2と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温15〜26℃) 黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密度6.1〜
59.1A/dm2の範囲で得られ、6.1〜59.1A/dm2で光
沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 7 無水クロム酸 600g/ 水酸化ナトリウム 100g/ ケイフツ酸 15g/ 硝酸グアニジン 5g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温15〜25℃) 黒色クロムメツキ皮膜は、陰極電流密度4〜
66.8A/dm2の範囲で得られ、4〜66.8A/dm2で光
沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 8 無水クロム酸 700g/ 水酸化ナトリウム 45g/ ケイフツ化マグネシウム 1.5g/ 硝酸マンガン 5g/ の浴を用い、無水クロム酸には特級試薬級のもの
(不純物としての硫酸、最高0.01%を含む)を使
用し、無水クロム酸中の不純物としての硫酸根は
除かなかつた。他は実施例1と同様の条件で電解
メツキを行なつた。(浴温8〜19℃) 黒色クロムメツキ皮膜は、陰極電流密度4.0〜
56.1A/dm2の範囲で得られ、11.4〜56.1A/dm2で
は光沢のある真黒色皮膜であつた。 以上の実験結果は添付第1図に他の実施例およ
び比較例とともに図解されている。 実施例 9〜15 無水クロム酸 400g/ 水酸化ナトリウム 60g/ ケイフツ酸 0.5g/ 硝酸グアニジン 5g/ (これは実施例3の浴と同一)にさらに次の第
1表に示す添加物を表示された量だけ加えて、他
は実施例1と同様の条件で電解メツキを行なつ
た。電解中浴温は約8〜18℃であつた。結果は第
1図に示されている。図中実施例1※は比較のた
め浴温のみを8〜18℃として実施例1と同じ条件
で実施した結果である。
ツキを高電流効率で得るためのメツキ液に関する
ものである。 黒色クロムメツキを得るために無水クロム酸溶
液のメツキ浴に触媒として種々の物質を添加する
ことが行なわれている。それらの添加物として
は、フツ化物、スルフアミン酸等の無機物あるい
は酢酸、蟻酸等の有機物の単独または組み合せが
知られている。 いずれの既知の添加物を用いても、黒色クロム
メツキを得るには、低温、高電流密度を必要とし
たり、均一に電着しなかつたり、均一な皮膜を生
じなかつたり、光沢、黒色度が劣つたり、厚メツ
キができなかつたりし、一般に電流効率も数%の
程度である。 本発明者等は基本的にはケイフツ化物が添加物
として最も有望との見解のもとに、これと組み合
せる添加物を種々探索した結果、アルカリとケイ
フツ酸またはケイフツ化物と硝酸または硝酸塩の
組み合せが最も有効であることを見出した。 本発明によれば メツキ浴1につき 無水クロム酸 200〜700g アルカリ(水酸化ナトリウムとして) 10〜140g ケイフツ酸またはケイフツ化物 0.2g〜飽和 硝酸または硝酸塩 0.5〜10g の割合で含む黒色クロムメツキ液が提供される。 本発明によれば、上記基本組成をさらに過マン
ガン酸塩、炭酸マンガン、タングステン酸塩、尿
素、トリエタノールアミン、アミノ酢酸、N・N
−ジメチルホルムアミドからなる群から選ばれる
第5成分を少量含有する黒色クロムメツキ液が提
供される。 本発明のメツキ液はAl以外の通常のメツキ下
地金属すなわちFe、Zn、Cu、Ni、Cr等に適用で
きる。 本発明においてアルカリとはアルカリ金属およ
びアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸
塩を包含する。ここではアルカリの量のみが問題
になる。どんなアルカリを用いても良いが、価格
の点でもつぱら使用されるのは、ナトリウム化合
物である。 本発明において硝酸塩とは硝酸とアミンのよう
な塩基性有機化合物との付加塩をも含む。硝酸塩
のなかの硝酸根の量のみが問題である。ケイフツ
素化合物も同様にケイフツ素イオンのみが問題で
ある。 本発明のメツキ浴は工業的に何等不都合なく使
用でき、従来のメツキ浴が温度に敏感で、低温で
しか良好な黒色メツキが得られず、温度の上昇と
ともに灰黒色から灰色のメツキになるのに対し、
温度に鈍感で常温で真黒色が得られる。また本発
明のメツキ浴は2〜3A/dm2の低電流密度から50
A/dm2以上の高電流密度にわたつて実施でき、フ
ラツシユメツキから10μ以上の厚メツキまで得る
ことができる。また既知のメツキ浴のなかで電流
効率が高いとされているものでもせいぜい数%で
あつたのに対し、本発明のメツキ浴は10%以上の
電流効率を達成し得る。さらに本発明のメツキ浴
は3価クロム量に鈍感であり、浴管理が容易であ
る。 本発明のメツキ浴において無水クロム酸は少な
くとも200g/添加する必要がある。200g/未
満では浴の電導度、陰極電流効率が低く、黒色ク
ロムメツキの得られる電流密度範囲も狭くなる。
700g/を越えてもそれに見合う効果はなく不経
済である。 アルカリの添加は電流効率を高め、黒色クロム
メツキの得られる電流密度範囲を広げる。その添
加量は無水クロム酸量によつて変化し、水酸化ナ
トリウムの場合10g/ないし140g/の量で使
用される。10g/未満でも、140g/を越えて
も電流効率、黒色クロムメツキの得られる電流密
度範囲が減少し好ましくない。アルカリの添加量
は水酸化ナトリウムの場合水酸化ナトリウムと無
水クロム酸のモル比が1:2ないし1:3の範囲
が好ましい。 ケイフツ酸またはケイフツ化物は0.2g/未満
の添加ではメツキの黒色度が低下し好ましくな
い。ケイフツ酸またはケイフツ化物の使用量に上
限はないが、一般に0.5g/を越えて使用しても
メツキ浴の性能に差は認められない。これはケイ
フツ酸あるいはケイフツ化物の溶解度が浴中の他
イオン量の影響を受け、溶解限が存在するためで
ある。共存イオンの種類によつても異なるが0.5
g/〜1.5g/以上のケイフツ酸あるいはケイ
フツ化物を添加した場合、沈殿が認められ、X線
回折分析の結果沈殿物がケイフツ化物であること
が確認されている。 硝酸または硝酸塩の添加量はその分子量に依存
するが、一般に0.5g/未満では目立つた効果が
現われず、10g/を越えると黒色クロムメツキ
の得られる電流密度範囲が狭くなる。 本発明のメツキ浴においてある一定量以上の硫
酸根の混入は有害であるので、無水クロム酸中に
不純物として存在する硫酸根、あるいは前のメツ
キ工程より持ち込まれる硫酸根はバリウム塩の添
加により除去することが好ましい。 アルカリは先に触れた様に、クロム酸化物の析
出を容易にする。 ケイフツ酸またはケイフツ化物は、クロム酸化
物の析出を容易にし、黒色クロムメツキの得られ
る電流密度範囲を拡大する。 硝酸または硝酸塩は、黒色クロムメツキの光沢
を高め、黒色クロムメツキの得られる電流密度範
囲を拡大し、さらには常温における黒色クロムメ
ツキを可能にする。 本発明のメツキ浴を使用すれば、常温において
2〜3A/dm2から黒色クロムメツキが得られ、20
A/dm2以上で10%前後の高い電流効率が得られ
る。 本発明のメツキ浴は浴温に比較的鈍感である
が、次の傾向がある。 無水クロム酸濃度400g/以下の低濃度浴の場
合、ハルセルパターン図でいえば、浴温10℃以下
では約50A/dm2の高電流密度でやけを生じやす
く、析出最低電流密度が低下する。浴温上昇にと
もない高電流密度域においてやけを生じにくくな
り、析出最低電流密度が若干上昇する。例えば浴
温20℃前後では高電流密度域でやけを生じなくな
り、光沢黒色クロムメツキの得られる電流密度範
囲が最も広くなる。浴温30℃以上では光沢黒色ク
ロムメツキの得られる電流密度範囲が減少するの
で好ましくない。 無水クロム酸濃度500g/以上の高濃度浴の場
合には、温度上昇にともない高電流密度域におい
てやけを生じにくくなり、析出最低電流密度も若
干低下する。浴温35℃以上では光沢黒色クロムメ
ツキの得られる電流密度範囲が減少するので好ま
しくない。 次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 常法により表面を清浄にした銅板(60×101×
1mm)にニツケルメツキ(約4μ)を施した試料
を陰極として、ハルセル(267ml)を用いて全電
流10Aで下記の組成の電解液で3分間電解メツキ
した。陽極には純鉛板を用いた。 無水クロム酸 200g/ 水酸化ナトリウム 10g/ ケイフツ酸 0.2g/ 硝酸コバルト 5g/ 電解中浴温は7〜21℃であつた。無水クロム酸
は溶解後炭酸バリウムを加え、生ずる沈殿を別
して使用した(以下の実施例においてことわりの
ない限りこの処理を施した)。 この結果、黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密
度8.4〜78.4A/dm2の範囲で得られ、12.6〜78.4A/
dm2で光沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 2 無水クロム酸 300g/ 水酸化ナトリウム 60g/ ケイフツ酸 0.5g/ 硝 酸 0.5g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温7〜17℃) 黒色クロムメツキ皮膜は、陰極電流密度2.6〜
56.1A/dm2で得られ、9.1〜56.1A/dm2で光沢のあ
る真黒色皮膜であつた。 清浄化された銅板に直接黒色クロムメツキを施
しても同様の結果が得られる。 実施例 3 無水クロム酸 400g/ 水酸化ナトリウム 60g/ ケイフツ酸 0.5g/ 硝酸グアニジン 5g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温11〜21℃) 黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密度2.8〜
66.8A/dm2の範囲で得られ、11〜66.8A/dm2では
光沢のある真黒色皮膜であつた。 水酸化ナトリウムの代わりに75g/の炭酸ナ
トリウムを使用してもほぼ同様の結果を得る。 実施例 4 無水クロム酸 400g/ 水酸化カリウム 60g/ ケイフツ化ナトリウム 0.7g/ 硝酸銀 10g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温8〜19℃) 黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密度5.8〜
59.1A/dm2の範囲で得られ、11.4〜59.1A/dm2で
は光沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 5 無水クロム酸 600g/ 水酸化ナトリウム 100g/ ケイフツ酸 1g/ 硝酸グアニジン 3g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温16〜25℃) 黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密度3.4〜
66.8A/dm2の範囲で得られ、3.4〜66.8A/dm2で光
沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 6 無水クロム酸 600g/ 水酸化ナトリウム 140g/ ケイフツ酸 5g/ 硝酸ナトリウム 3g/ の浴を用い、他は実施例2と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温15〜26℃) 黒色クロムメツキ皮膜は陰極電流密度6.1〜
59.1A/dm2の範囲で得られ、6.1〜59.1A/dm2で光
沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 7 無水クロム酸 600g/ 水酸化ナトリウム 100g/ ケイフツ酸 15g/ 硝酸グアニジン 5g/ の浴を用い、他は実施例1と同様の条件で電解メ
ツキを行なつた。(浴温15〜25℃) 黒色クロムメツキ皮膜は、陰極電流密度4〜
66.8A/dm2の範囲で得られ、4〜66.8A/dm2で光
沢のある真黒色皮膜であつた。 実施例 8 無水クロム酸 700g/ 水酸化ナトリウム 45g/ ケイフツ化マグネシウム 1.5g/ 硝酸マンガン 5g/ の浴を用い、無水クロム酸には特級試薬級のもの
(不純物としての硫酸、最高0.01%を含む)を使
用し、無水クロム酸中の不純物としての硫酸根は
除かなかつた。他は実施例1と同様の条件で電解
メツキを行なつた。(浴温8〜19℃) 黒色クロムメツキ皮膜は、陰極電流密度4.0〜
56.1A/dm2の範囲で得られ、11.4〜56.1A/dm2で
は光沢のある真黒色皮膜であつた。 以上の実験結果は添付第1図に他の実施例およ
び比較例とともに図解されている。 実施例 9〜15 無水クロム酸 400g/ 水酸化ナトリウム 60g/ ケイフツ酸 0.5g/ 硝酸グアニジン 5g/ (これは実施例3の浴と同一)にさらに次の第
1表に示す添加物を表示された量だけ加えて、他
は実施例1と同様の条件で電解メツキを行なつ
た。電解中浴温は約8〜18℃であつた。結果は第
1図に示されている。図中実施例1※は比較のた
め浴温のみを8〜18℃として実施例1と同じ条件
で実施した結果である。
【表】
これらの添加物は大体0.5g/前後から有効で
あるが、過マンガン酸塩は10g/を越えると高
電流密度域でやけを生じやすくなり、炭酸マンガ
ンは25g/を越えると同様に高電流密度域でや
けを生じやすくなり、タングステン酸塩は広範囲
な使用量で有効であるが、50g/以上加えても
無意味であり、尿素は50g/も越えると光沢黒
色皮膜の得られる電流密度範囲が狭くなり、トリ
エタノールアミンは50g/を越えるとメツキ皮
膜の黒色度が低下し、アミノ酢酸は5g/を越
えると黒色メツキの得られる電流密度範囲が狭く
なり、N・N−ジメチルホルムアミドは10g/
を越えるとメツキ皮膜の黒色度が低下する。 既に述べた様に本発明のメツキ浴はアルカリと
ケイフツ素イオンと硝酸イオンの組み合せに特徴
を有するもので、この3者の何れを欠いても本発
明の効果は達成できない。 このことを示すためにこれらの1もしくは2を
欠く比較メツキ浴について電解メツキを行なつ
た。 比較例 1〜3 第2表に示す組成の浴を用いて実施例1と同様
の条件で電解メツキを行なつた。結果は第1図に
示されている。電解中の浴温も表中に示されてい
る。
あるが、過マンガン酸塩は10g/を越えると高
電流密度域でやけを生じやすくなり、炭酸マンガ
ンは25g/を越えると同様に高電流密度域でや
けを生じやすくなり、タングステン酸塩は広範囲
な使用量で有効であるが、50g/以上加えても
無意味であり、尿素は50g/も越えると光沢黒
色皮膜の得られる電流密度範囲が狭くなり、トリ
エタノールアミンは50g/を越えるとメツキ皮
膜の黒色度が低下し、アミノ酢酸は5g/を越
えると黒色メツキの得られる電流密度範囲が狭く
なり、N・N−ジメチルホルムアミドは10g/
を越えるとメツキ皮膜の黒色度が低下する。 既に述べた様に本発明のメツキ浴はアルカリと
ケイフツ素イオンと硝酸イオンの組み合せに特徴
を有するもので、この3者の何れを欠いても本発
明の効果は達成できない。 このことを示すためにこれらの1もしくは2を
欠く比較メツキ浴について電解メツキを行なつ
た。 比較例 1〜3 第2表に示す組成の浴を用いて実施例1と同様
の条件で電解メツキを行なつた。結果は第1図に
示されている。電解中の浴温も表中に示されてい
る。
【表】
さらに浴温の影響を見るために実施例3および
5の浴と比較例3の浴を種々の温度域に保つて、
他は実施例1と同様の条件で電解メツキした。こ
の結果を添付第2図に示す。 添付第1図において実施例はいずれも比較例よ
り良好なメツキの得られる電流密度範囲(ハルセ
ル試験結果における黒色メツキ帯の長さ)におい
て優れていることがわかる。実施例9〜15は実施
例3※(浴組成は実施例3と同一で、浴温8〜18
℃で実施)よりも何らかの点でわずかに優れてい
ることがわかる。 添付第2図において本発明のメツキ浴は比較例
のメツキ浴よりも温度変化に対して鈍感であり、
比較例のメツキ浴よりも広い温度範囲で、特に常
温で、広い電流密度範囲、特に低い範囲で良好な
メツキが得られることがわかる。
5の浴と比較例3の浴を種々の温度域に保つて、
他は実施例1と同様の条件で電解メツキした。こ
の結果を添付第2図に示す。 添付第1図において実施例はいずれも比較例よ
り良好なメツキの得られる電流密度範囲(ハルセ
ル試験結果における黒色メツキ帯の長さ)におい
て優れていることがわかる。実施例9〜15は実施
例3※(浴組成は実施例3と同一で、浴温8〜18
℃で実施)よりも何らかの点でわずかに優れてい
ることがわかる。 添付第2図において本発明のメツキ浴は比較例
のメツキ浴よりも温度変化に対して鈍感であり、
比較例のメツキ浴よりも広い温度範囲で、特に常
温で、広い電流密度範囲、特に低い範囲で良好な
メツキが得られることがわかる。
第1図は本発明メツキ浴と比較メツキ浴の黒色
クロムメツキの得られる電流密度範囲を比較して
示す図である。第2図は本発明メツキ浴と比較メ
ツキ浴の種々の温度域における黒色クロムメツキ
の得られる電流密度範囲を比較して示す図であ
る。
クロムメツキの得られる電流密度範囲を比較して
示す図である。第2図は本発明メツキ浴と比較メ
ツキ浴の種々の温度域における黒色クロムメツキ
の得られる電流密度範囲を比較して示す図であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 メツキ浴1につき 無水クロム酸 200〜700g アルカリ(水酸化ナトリウムとして) 10〜140g ケイフツ酸またはケイフツ化物 0.2〜飽和 硝酸または硝酸塩 0.5〜10g の割合で含む黒色クロムメツキ液。 2 メツキ浴1につき 無水クロム酸 200g〜700g/ アルカリ(水酸化ナトリウムとして) 10〜140g ケイフツ酸またはケイフツ化物 0.2〜飽和 硝酸または硝酸塩 0.5〜10g の割合で含み、さらに 過マンガン酸塩、炭酸マンガン、タングステン
酸塩、尿素、トリエタノールアミン、アミノ酢
酸、N・N−ジメチルホルムアミドからなる群か
ら選ばれる1種または2種以上の化合物の少量を
含む黒色クロムメツキ液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11454078A JPS5541942A (en) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | Black color chrome plating solution |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11454078A JPS5541942A (en) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | Black color chrome plating solution |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5541942A JPS5541942A (en) | 1980-03-25 |
JPS6158556B2 true JPS6158556B2 (ja) | 1986-12-12 |
Family
ID=14640310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11454078A Granted JPS5541942A (en) | 1978-09-20 | 1978-09-20 | Black color chrome plating solution |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5541942A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS635822A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-11 | Amada Co Ltd | 折曲機械のバツクゲ−ジ装置 |
CN102108530B (zh) * | 2010-12-09 | 2012-10-10 | 上海哲能赫太阳能设备有限公司 | 电镀黑铬太阳能集热板的制备方法 |
EP3564411A1 (de) * | 2018-04-30 | 2019-11-06 | Franz GmbH | Verfahren zum schwarzverchromen |
-
1978
- 1978-09-20 JP JP11454078A patent/JPS5541942A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5541942A (en) | 1980-03-25 |
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