JPS6158238A - ウエハ回転洗浄装置 - Google Patents
ウエハ回転洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6158238A JPS6158238A JP17839084A JP17839084A JPS6158238A JP S6158238 A JPS6158238 A JP S6158238A JP 17839084 A JP17839084 A JP 17839084A JP 17839084 A JP17839084 A JP 17839084A JP S6158238 A JPS6158238 A JP S6158238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- rotary table
- balance
- storage case
- holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、ウェハ回転洗浄装置に係シ、特に回転中に発
生する振動を少りくする装置に関する。
生する振動を少りくする装置に関する。
は軸受（４）Ｋよつて支持畜れ、軸継手（５）を通して
回転駆動モータによって回転する。全体はフタおよび外
囲器（６）によって囲まれている。薬液および洗浄液は
ノズル（７）から吹き出す。洗浄の手順について述べる
と、回転テーブル（３）を一定回転数で回転畜せながら
ノズル（７）から液を供給し、一定時間後に液の供給を
停止し、回転による遠心力の作用で液を飛ｌｋさせると
とＫよって乾燥させる。排液は排出口（８）から排出さ
せる。
回転駆動モータによって回転する。全体はフタおよび外
囲器（６）によって囲まれている。薬液および洗浄液は
ノズル（７）から吹き出す。洗浄の手順について述べる
と、回転テーブル（３）を一定回転数で回転畜せながら
ノズル（７）から液を供給し、一定時間後に液の供給を
停止し、回転による遠心力の作用で液を飛ｌｋさせると
とＫよって乾燥させる。排液は排出口（８）から排出さ
せる。
ところで、従来技術に訃いては、ロット処理でウェハ（
１）の処理工程を行うため、ウェハＪｌ￥納ケース（２
）どとで最終工程まで進められるが、その途中には何回
も回転洗浄が行われる。しかし、工程の途中でウェハ（
１）が破損したシすると、以降はウェハ収納ケース（２
）の一部に空きボジシ冒ンが生じ、回転洗浄装置にセッ
トした場合に収納ケース（２）間でウェハ（１）の枚数
と空きポジシ胃ンのばらつきのためＫ、回転テーブルを
回転させると、アンバランスによる振動を発生しウェハ
Ｉの１チツピングや碑損を生じ歩留が低下する。あるい
は空きボジシ１ンにダミーウェハを挿入したシ、ウェハ
を入れかえたプしてバランスを補正し洗浄するが、ウェ
ハ（１）のハンドリングの九め周囲のウェハを汚染し歩
留シが低下する。したがって、ウェハ収納ケース（２）
間でアンバランスがあっても洗浄回転中に振動を生じな
い装置の開発が望まれる。
１）の処理工程を行うため、ウェハＪｌ￥納ケース（２
）どとで最終工程まで進められるが、その途中には何回
も回転洗浄が行われる。しかし、工程の途中でウェハ（
１）が破損したシすると、以降はウェハ収納ケース（２
）の一部に空きボジシ冒ンが生じ、回転洗浄装置にセッ
トした場合に収納ケース（２）間でウェハ（１）の枚数
と空きポジシ胃ンのばらつきのためＫ、回転テーブルを
回転させると、アンバランスによる振動を発生しウェハ
Ｉの１チツピングや碑損を生じ歩留が低下する。あるい
は空きボジシ１ンにダミーウェハを挿入したシ、ウェハ
を入れかえたプしてバランスを補正し洗浄するが、ウェ
ハ（１）のハンドリングの九め周囲のウェハを汚染し歩
留シが低下する。したがって、ウェハ収納ケース（２）
間でアンバランスがあっても洗浄回転中に振動を生じな
い装置の開発が望まれる。
本発明の目的は、ウェハ収納ケース間でアンバランスが
ある場合でも振動を発生しな＾ウェハ回転洗浄装置を提
供するにある。
ある場合でも振動を発生しな＾ウェハ回転洗浄装置を提
供するにある。
ノズルによシ洗浄液を噴射されるウェハを収納している
ウェハ収納ケースが載設されている回転テーブルに立設
され第１の係止孔が上下方向く穿設されてｈる支柱及び
回転テーブルの径方向に多段に穿設されている第２の係
止孔のうち少なくともいずれか一方を設け、上記第１の
係止孔及び又の多寡による回転テーブルのアンバランス
を修正するようＫしたものである。
ウェハ収納ケースが載設されている回転テーブルに立設
され第１の係止孔が上下方向く穿設されてｈる支柱及び
回転テーブルの径方向に多段に穿設されている第２の係
止孔のうち少なくともいずれか一方を設け、上記第１の
係止孔及び又の多寡による回転テーブルのアンバランス
を修正するようＫしたものである。
以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図を参照して
詳述する。なお、前述した従来技術のウェハ回転洗浄装
置と同一部分には同一符号を付し詳細な説明を省略する
。
詳述する。なお、前述した従来技術のウェハ回転洗浄装
置と同一部分には同一符号を付し詳細な説明を省略する
。
回転テーブル（３）上のウェハ収納ケース（２）・・・
間に複数個の穴（綺・・・を有する円往状の支柱（９）
・・・を等配して立設する。上記穴（均・・・は１貫通
穴であって、上下方向に等間隔で穿設されている。そし
て、穴（ロ）の軸線は、内側から外側に向って傾斜する
ように設定されている０ かくして、ウェハ収納ケース（２）・・・のウエノ・（
１）・・・の穴きボジシｌンに応じて、それと等価とな
るバランス補正位置に相当する穴（）０に、テフロンな
どの材質で作られたバランス調整体−を内側から外側に
向って挿入して、回転テーブル（３）のバランス補正位
置する。このバランス調整体Ｑｌは、丸リベット状に形
成され、支柱（９）に係止するための頭部（１０１）と
穴＠に嵌挿される軸部（１０ｂ）とからなっている。
間に複数個の穴（綺・・・を有する円往状の支柱（９）
・・・を等配して立設する。上記穴（均・・・は１貫通
穴であって、上下方向に等間隔で穿設されている。そし
て、穴（ロ）の軸線は、内側から外側に向って傾斜する
ように設定されている０ かくして、ウェハ収納ケース（２）・・・のウエノ・（
１）・・・の穴きボジシｌンに応じて、それと等価とな
るバランス補正位置に相当する穴（）０に、テフロンな
どの材質で作られたバランス調整体−を内側から外側に
向って挿入して、回転テーブル（３）のバランス補正位
置する。このバランス調整体Ｑｌは、丸リベット状に形
成され、支柱（９）に係止するための頭部（１０１）と
穴＠に嵌挿される軸部（１０ｂ）とからなっている。
この軸部（１０ｂ）の軸線は、頭部（１０ａ）の軸線に
対して傾斜して設けられているうとの傾斜角は、支柱（
９）の軸線に直交する直線と穴（→の軸線とのな濱角度
忙はぼ等して設定されている。
対して傾斜して設けられているうとの傾斜角は、支柱（
９）の軸線に直交する直線と穴（→の軸線とのな濱角度
忙はぼ等して設定されている。
このように１本実施例のウェハ回転洗浄装置はウェハ収
納ケース内のウェハの欠損によるアンバランスを容品に
補正することができるため、ウェハの回転洗浄中の撮動
発生を低下させることかで亀、チッピングなどのウエノ
〜の破損発生をなくし歩留向上がはかれる。また、ウェ
ハ収納ケース内のウェハをハンドリングすることなく、
バランスの補正を行うことができるため、ウエノ・収納
ケース内の良品ウェハを汚染することもなくなシ、この
ことも歩留向上に寄与する。
納ケース内のウェハの欠損によるアンバランスを容品に
補正することができるため、ウェハの回転洗浄中の撮動
発生を低下させることかで亀、チッピングなどのウエノ
〜の破損発生をなくし歩留向上がはかれる。また、ウェ
ハ収納ケース内のウェハをハンドリングすることなく、
バランスの補正を行うことができるため、ウエノ・収納
ケース内の良品ウェハを汚染することもなくなシ、この
ことも歩留向上に寄与する。
な・お、上記実施例に限ることなく、第３図及び第４図
に示すように、回転テーブル（３）のウェハ収納ケース
（２）・・・間に半径方向く複数個の穴（Ｈ′）・・・
をもうけ、同様にウェハの空きポジシ菖ンに応じた丸す
ベッ）／状のバランス調整体αＪを挿入してバランスを
補正してもよい。
に示すように、回転テーブル（３）のウェハ収納ケース
（２）・・・間に半径方向く複数個の穴（Ｈ′）・・・
をもうけ、同様にウェハの空きポジシ菖ンに応じた丸す
ベッ）／状のバランス調整体αＪを挿入してバランスを
補正してもよい。
さらにまた、支柱（９）の本数及び完（Ｈ’）の配列数
並びに設置場所は、上記実施例のようにウェハ収納ケー
ス（２）・・・間に４つに限ることなく、任意に設定し
てよい。またバランス調整を、支柱（９）・・・の穴（
）０・・・及び回転テーブル（３）に穿設した穴（Ｈ′
）の両方を利用して行ってもよい。
並びに設置場所は、上記実施例のようにウェハ収納ケー
ス（２）・・・間に４つに限ることなく、任意に設定し
てよい。またバランス調整を、支柱（９）・・・の穴（
）０・・・及び回転テーブル（３）に穿設した穴（Ｈ′
）の両方を利用して行ってもよい。
〔発明の効果〕
この発明のウェハ回転洗浄装置は、ウェハ収納ケース内
のウェハの欠損によるアンバランスを容易に補正するこ
とができるので、ウニノー洗浄中の振動発生を低下させ
ることができ、チッピングなどのウェハの破損発生をな
くし、歩留向上をはかることができる。また、ウェハ収
納ケース内のウェハをハンドリングすることなく、バラ
ンスの補正を行うことができるため、ウェー収納ケース
内の良品ウェハを汚染することがなくなり、このことも
歩留向上に寄与する。
のウェハの欠損によるアンバランスを容易に補正するこ
とができるので、ウニノー洗浄中の振動発生を低下させ
ることができ、チッピングなどのウェハの破損発生をな
くし、歩留向上をはかることができる。また、ウェハ収
納ケース内のウェハをハンドリングすることなく、バラ
ンスの補正を行うことができるため、ウェー収納ケース
内の良品ウェハを汚染することがなくなり、このことも
歩留向上に寄与する。
第１図は本発明の一実施例のウェハ回転洗浄装置の平面
図、第２図は第１図における支柱の要部拡大断面図、第
３図は本発明の他の嚢施例のウェハ回転洗浄装置の平面
図、第４図は第３図の要部拡大断面図、＃ｃ５図及び第
６図は従来のウェハ回転洗浄装置の平面図及び要部を欠
切して示す正面図である。 （１）・・・ウェハ、 （２）・・・ウェハ収納ケ−
２゜（３）・・・回転テーブル、 （力・・・ノズル、
（９）・・・支柱 （呻・・・穴（第１の係止穴）。 （Ｈ′）・・・穴（第２の係止穴）。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第１図 第２図 第３図 係４図 第５図 第６図
図、第２図は第１図における支柱の要部拡大断面図、第
３図は本発明の他の嚢施例のウェハ回転洗浄装置の平面
図、第４図は第３図の要部拡大断面図、＃ｃ５図及び第
６図は従来のウェハ回転洗浄装置の平面図及び要部を欠
切して示す正面図である。 （１）・・・ウェハ、 （２）・・・ウェハ収納ケ−
２゜（３）・・・回転テーブル、 （力・・・ノズル、
（９）・・・支柱 （呻・・・穴（第１の係止穴）。 （Ｈ′）・・・穴（第２の係止穴）。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第１図 第２図 第３図 係４図 第５図 第６図
Claims (1)
- 回転自在に軸支された回転テーブルと、この回転テーブ
ルを回転駆動するモータと、上記回転テーブルに載設さ
れウェハを収納するウェハ収納ケースと、上記回転テー
ブル上方に配設され上記ウェハ収納ケースに収納された
ウェハに洗浄液を供給するノズルと、上記回転テーブル
に立設されバランス調整体が選択的に係止される第１の
係止穴が上下方向に多段に穿設された支柱及び上記回転
テーブルの径方向に多段に穿設され上記バランス調整体
が選択的に係止される第２の係止穴のうち少なくともい
ずれか一方を有し上記ウェハ収納ケースに収納されてい
るウェハ数の多寡による上記回転テーブルのアンバラン
スを修正するアンバランス修正機構とを具備することを
特徴とするウェハ回転洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17839084A JPS6158238A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | ウエハ回転洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17839084A JPS6158238A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | ウエハ回転洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6158238A true JPS6158238A (ja) | 1986-03-25 |
Family
ID=16047655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17839084A Pending JPS6158238A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | ウエハ回転洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6158238A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63178321U (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-18 | ||
| US6691718B2 (en) * | 1999-07-28 | 2004-02-17 | Semitool, Inc. | Wafer container cleaning system |
-
1984
- 1984-08-29 JP JP17839084A patent/JPS6158238A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63178321U (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-18 | ||
| US6691718B2 (en) * | 1999-07-28 | 2004-02-17 | Semitool, Inc. | Wafer container cleaning system |
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