JPS6157237A - 光照射処理装置 - Google Patents
光照射処理装置Info
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- JPS6157237A JPS6157237A JP18101684A JP18101684A JPS6157237A JP S6157237 A JPS6157237 A JP S6157237A JP 18101684 A JP18101684 A JP 18101684A JP 18101684 A JP18101684 A JP 18101684A JP S6157237 A JPS6157237 A JP S6157237A
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- Japan
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- gas
- discharge chamber
- gas discharge
- light
- light irradiation
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/126—Microwaves
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/12—Processes employing electromagnetic waves
- B01J2219/1203—Incoherent waves
- B01J2219/1206—Microwaves
- B01J2219/1209—Features relating to the reactor or vessel
- B01J2219/1212—Arrangements of the reactor or the reactors
- B01J2219/1215—Single reactor
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は紫外線や赤外線を用いて各穏材料の表面処理や
化学反応等を行なう光照射処理装置に関する。
化学反応等を行なう光照射処理装置に関する。
近年、光ＣＶＤ （Ｃｈｓｍｌｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄ
ｅｐｏｇｉｔｌｏｎ）技術の進歩に俸い、真空中もしく
は特殊なガス雰囲気中に被処理物を収容し、この被処理
物に紫外線や赤外線の如きある特定の波長領域の光を照
射することにより、上記被処理物を化学反応させたシ、
表面を浄化する等の作業が量産性も含めた形で注目され
ている。
ｅｐｏｇｉｔｌｏｎ）技術の進歩に俸い、真空中もしく
は特殊なガス雰囲気中に被処理物を収容し、この被処理
物に紫外線や赤外線の如きある特定の波長領域の光を照
射することにより、上記被処理物を化学反応させたシ、
表面を浄化する等の作業が量産性も含めた形で注目され
ている。
ところで、この種の作業には、被処理物に対し特定の光
を照射する光照射処理装置を必要とし、既存の装置は例
えば上記特定の波長領域の光を発生する光発生源と、こ
の光発生漂白の光が導かれるとともに、被処理物が収容
される処理室を主体として構成されている。（なお、必
ずしも光発生源と処理室を明確に分離する必要はない。
を照射する光照射処理装置を必要とし、既存の装置は例
えば上記特定の波長領域の光を発生する光発生源と、こ
の光発生漂白の光が導かれるとともに、被処理物が収容
される処理室を主体として構成されている。（なお、必
ずしも光発生源と処理室を明確に分離する必要はない。
）
このような光照射処理装置の光発生源は、現在のところ
実験的レベルでしかないため、内部が所定のガス雰囲気
に保たれた中空容器に、高周波コイルを介して高周波電
圧を印加させることによシ、中空容器内のガスに放電を
生じせしめて、例えば２００ ｎｍ以下の紫外線を発生
させ、この紫外線を透過窓を通じて処理室内に導く方式
となっている。
実験的レベルでしかないため、内部が所定のガス雰囲気
に保たれた中空容器に、高周波コイルを介して高周波電
圧を印加させることによシ、中空容器内のガスに放電を
生じせしめて、例えば２００ ｎｍ以下の紫外線を発生
させ、この紫外線を透過窓を通じて処理室内に導く方式
となっている。
ところが、この方式によると、高周波コイルに発生した
電磁界が外方に漏洩し易く、その分光を効率良く透過窓
から取ν出すことができなかった。
電磁界が外方に漏洩し易く、その分光を効率良く透過窓
から取ν出すことができなかった。
この対策として、最近本発明者は上記高周波コイルの代
りに、マイクロ波を発射するアンテナを中空容器（気体
放電室）内に挿入し、この中空容器の内側から放電を生
起させることを提案した。このようにすれば、外方に漏
洩する電磁界は小さくなり、その分動率を大きく改善で
きることが明らかとなった。
りに、マイクロ波を発射するアンテナを中空容器（気体
放電室）内に挿入し、この中空容器の内側から放電を生
起させることを提案した。このようにすれば、外方に漏
洩する電磁界は小さくなり、その分動率を大きく改善で
きることが明らかとなった。
ところが、このような光照射処理装置の実用化に当って
研究を進めたところ、中空容器を密封状態、つまり言い
換えれば放電気体を封入したｔまの状態で長時間に亘り
放電を続けると、光出力が徐々に低下する傾向にあるこ
とが認められた。この原因について究明したところ、放
電が長時間連続して行なわれると、中空容器内に不純物
が発生し、この不純物の蓄積によって、例えば放電気体
として水銀蒸気および不活性ガスを用いた場合であれば
、中空容器内の水銀蒸気圧が当初設定した圧力にならず
、このことが光出力の低下の大きな要因であることが明
らかとなってきた。そしてこの欠点は、アンテナを用い
ない実験的レベルの光照射処理装置についてもあられれ
ることが見い出された。
研究を進めたところ、中空容器を密封状態、つまり言い
換えれば放電気体を封入したｔまの状態で長時間に亘り
放電を続けると、光出力が徐々に低下する傾向にあるこ
とが認められた。この原因について究明したところ、放
電が長時間連続して行なわれると、中空容器内に不純物
が発生し、この不純物の蓄積によって、例えば放電気体
として水銀蒸気および不活性ガスを用いた場合であれば
、中空容器内の水銀蒸気圧が当初設定した圧力にならず
、このことが光出力の低下の大きな要因であることが明
らかとなってきた。そしてこの欠点は、アンテナを用い
ない実験的レベルの光照射処理装置についてもあられれ
ることが見い出された。
本発明はこのような事情にもとづいてなされたもので、
不純物の蓄積に伴う光出力の低下を確実に防止で♂晃照
射処理装置の提供を目的とする。
不純物の蓄積に伴う光出力の低下を確実に防止で♂晃照
射処理装置の提供を目的とする。
すなわち、上記目的を達成する本発明の光照射処理装置
は、光透過部を備えた気密構造の気体放電室と、この気
体放電室内に放電を生起させる無電極放電手段と、上記
気体放電室内に放電気体を流通させる気体流通系とを具
備し、上記気体放電室内において放電気体をフローさせ
た状態で無電極放電を行なわせるようにしたことを特徴
とする。
は、光透過部を備えた気密構造の気体放電室と、この気
体放電室内に放電を生起させる無電極放電手段と、上記
気体放電室内に放電気体を流通させる気体流通系とを具
備し、上記気体放電室内において放電気体をフローさせ
た状態で無電極放電を行なわせるようにしたことを特徴
とする。
以下本発明を、図面に示す一実施例にもとづいて説明す
る。
る。
この実施例は液晶表示パネルの表面に付着した有機物等
を除去して洗浄する装置について示し、符号１は光発生
源である。この光発生源１は中空状の容器２を備え、こ
の容器２はその両端開口部が夫々蓋部材３，４によりて
気密に閉鎖されて内部に気体放電室５を形成している。
を除去して洗浄する装置について示し、符号１は光発生
源である。この光発生源１は中空状の容器２を備え、こ
の容器２はその両端開口部が夫々蓋部材３，４によりて
気密に閉鎖されて内部に気体放電室５を形成している。
気体放電室５は圧力計６を介して気体供給源７に接続さ
れてお９、本実施例の気体供給源７は、水銀溜８とこの
水銀溜８にガス圧調整用のマスフローコントローラ９を
介して接続された窒素ガス供給用のプスタシク１０とで
構成され、上記水銀溜８は貯えられた水銀を加熱して蒸
気化させるためのヒータ１６を備えている。また、気体
放電室５は真空ポ／グの如き排気装置１１に接続されて
おり、これら気体放電室５と排気装置１１との間には、
排気上流側から開閉弁１２、トラップ１３および開閉弁
１４がこの順で接続されている。そして、上記開閉弁１
２はバタフライ形となっており、その開度が圧力計６か
ら出力される制御信号を受けて作動されるコントローラ
１５によって開閉制御されるようになっている。
れてお９、本実施例の気体供給源７は、水銀溜８とこの
水銀溜８にガス圧調整用のマスフローコントローラ９を
介して接続された窒素ガス供給用のプスタシク１０とで
構成され、上記水銀溜８は貯えられた水銀を加熱して蒸
気化させるためのヒータ１６を備えている。また、気体
放電室５は真空ポ／グの如き排気装置１１に接続されて
おり、これら気体放電室５と排気装置１１との間には、
排気上流側から開閉弁１２、トラップ１３および開閉弁
１４がこの順で接続されている。そして、上記開閉弁１
２はバタフライ形となっており、その開度が圧力計６か
ら出力される制御信号を受けて作動されるコントローラ
１５によって開閉制御されるようになっている。
したがって、気体放電室５内には気体供給源７を通じて
窒素ガスと水銀蒸気との混合がスが供給されるとともに
、この供給された混合ガスは、排気装置１１によって室
外に排気されるようになっており、これら気体供給源７
と排気装置１１とで気体放電室５内に混合ガスを流通さ
せる気体流通系１７が構成されている。
窒素ガスと水銀蒸気との混合がスが供給されるとともに
、この供給された混合ガスは、排気装置１１によって室
外に排気されるようになっており、これら気体供給源７
と排気装置１１とで気体放電室５内に混合ガスを流通さ
せる気体流通系１７が構成されている。
なお、第１図中符号１８はヒータ用電源、１９はマスフ
ローコントローラ９を調整制御するコントローラ、３４
は容器２の外側面に巻回された気体放電室冷却用の水冷
パイプを夫々示すＯ ところで、上記一方の蓋部材３の中央には、コネクタ２
０を介して棒状のアンテナ２１が支持されておシ、この
アンテナ２１は蓋部材３に開設した通孔２２内を挿通し
て気体放電室５内に導入されている。また、通孔２２の
開口部には中空円筒状をなした石英ガラス製の隔壁チュ
ーブ２３が気密に取付けられており、この隔壁チューブ
２３は通孔２２を閉鎖して気体放電室５内の気密を確保
するとともに、上記アンテナ２１の外周囲を同軸的に覆
い、アンテナ２１の周囲と気体放電室５内とを区画して
いる。なお、隔壁チューｆ２３内には好ましい例として
、アンテナ２１を冷却するためのガスが流通されるよう
になっている。
ローコントローラ９を調整制御するコントローラ、３４
は容器２の外側面に巻回された気体放電室冷却用の水冷
パイプを夫々示すＯ ところで、上記一方の蓋部材３の中央には、コネクタ２
０を介して棒状のアンテナ２１が支持されておシ、この
アンテナ２１は蓋部材３に開設した通孔２２内を挿通し
て気体放電室５内に導入されている。また、通孔２２の
開口部には中空円筒状をなした石英ガラス製の隔壁チュ
ーブ２３が気密に取付けられており、この隔壁チューブ
２３は通孔２２を閉鎖して気体放電室５内の気密を確保
するとともに、上記アンテナ２１の外周囲を同軸的に覆
い、アンテナ２１の周囲と気体放電室５内とを区画して
いる。なお、隔壁チューｆ２３内には好ましい例として
、アンテナ２１を冷却するためのガスが流通されるよう
になっている。
アンテナ２１にはマイクロ波発生器２４内のマグネトロ
ンからマイクロ波が供給されるが、このマイクロ波は導
波管２５、同軸ケーブル変換器２６から同軸ケーブル２
７を介してアンテナ２１に伝送される。そして、導波管
２５内を伝送されるマイクロ波の出力は、常時ノ々ワー
メータ２７でモニターされるとともに、同軸ケーブル変
換器２６の終端部には、マイクロ波の反射波を最少に抑
えてマイクロ波を効率良くアンテナ２１に伝送するため
のシランジャ２８およびスリースタブチューナ２９が設
置されている。
ンからマイクロ波が供給されるが、このマイクロ波は導
波管２５、同軸ケーブル変換器２６から同軸ケーブル２
７を介してアンテナ２１に伝送される。そして、導波管
２５内を伝送されるマイクロ波の出力は、常時ノ々ワー
メータ２７でモニターされるとともに、同軸ケーブル変
換器２６の終端部には、マイクロ波の反射波を最少に抑
えてマイクロ波を効率良くアンテナ２１に伝送するため
のシランジャ２８およびスリースタブチューナ２９が設
置されている。
したがりて、上記気体放電室Ｓ内が所定の雰囲気に保た
れた状態で、マイクロ波発生器２４を動作させ、アンテ
ナ２１を通じて気体放電室ｓ内にマイクロ波を発射する
と、この気体放電−室５内のガスに放電が生じ、例えば
１８５ ｎｍ以下の波長の紫外線が放射されるようにな
っておシ、このアンテナ２１とマイクロ波発生器２４と
によって無電極放電手段が構成されている。
れた状態で、マイクロ波発生器２４を動作させ、アンテ
ナ２１を通じて気体放電室ｓ内にマイクロ波を発射する
と、この気体放電−室５内のガスに放電が生じ、例えば
１８５ ｎｍ以下の波長の紫外線が放射されるようにな
っておシ、このアンテナ２１とマイクロ波発生器２４と
によって無電極放電手段が構成されている。
気体放電室５には光取出し口３０が設けられておシ、こ
の光取出し口３０は上記アンテナ２１および隔壁チュー
ブ２３の先端部に対向されている。そして、光取出し口
３０の開口部には、紫外線を取出す光透過部としての透
過窓３１が気密に取付けられており、本実施例の場合は
、透過窓３１の材質として紫外線の透過性に優れたＭｇ
Ｆ２やＬｉＦ等のアルカリハライドを使用している。
の光取出し口３０は上記アンテナ２１および隔壁チュー
ブ２３の先端部に対向されている。そして、光取出し口
３０の開口部には、紫外線を取出す光透過部としての透
過窓３１が気密に取付けられており、本実施例の場合は
、透過窓３１の材質として紫外線の透過性に優れたＭｇ
Ｆ２やＬｉＦ等のアルカリハライドを使用している。
このような透過窓３１には液晶表示パネル等の被処理物
３２を収容した処理ケース３３が接離自在に（＋！η合
されており、この処理ケース３３内は酸素ガス雰囲気に
保たれるようになっている。
３２を収容した処理ケース３３が接離自在に（＋！η合
されており、この処理ケース３３内は酸素ガス雰囲気に
保たれるようになっている。
次に、上記構成の作用についてｉ説明する。
まず、排気装置４１１を作動させ、圧力計６の管理のも
とて気体放電室５内の圧力が１０−’Ｔｏｒｒになるま
で排気する。次に、ガスタンク１０から窒素ガスを気体
放電室５内に供給するとともに、水銀溜８をヒータ１６
で加熱し、この加熱によシ発生した水銀蒸気を上記窒素
ガスとともに気体放電室５内に供給する。なお、この際
水銀溜８の加熱温度を４０〜１００℃に設定するととも
に、窒素ガスの流量はＩ Ａ／ｍｉｎ程度に設定するこ
とが望ましい。そして、上記マスフローコントローラ９
によシ気体放電室５内の水銀蒸気分圧を５ Ｘ １０−
’Ｔｏｒｒ 、窒素ガスとの混合圧力を帆０１〜５０
Ｔｏｒｒの範囲内に調整するとともに、上記開閉弁１２
の開度を圧力計６からの圧力信号に応じて駆動されるコ
ントローラ１５で制御することによって排気流量を調整
し、気体放電室５内を流れるガス圧力を予め設定された
一定値に制御する。
とて気体放電室５内の圧力が１０−’Ｔｏｒｒになるま
で排気する。次に、ガスタンク１０から窒素ガスを気体
放電室５内に供給するとともに、水銀溜８をヒータ１６
で加熱し、この加熱によシ発生した水銀蒸気を上記窒素
ガスとともに気体放電室５内に供給する。なお、この際
水銀溜８の加熱温度を４０〜１００℃に設定するととも
に、窒素ガスの流量はＩ Ａ／ｍｉｎ程度に設定するこ
とが望ましい。そして、上記マスフローコントローラ９
によシ気体放電室５内の水銀蒸気分圧を５ Ｘ １０−
’Ｔｏｒｒ 、窒素ガスとの混合圧力を帆０１〜５０
Ｔｏｒｒの範囲内に調整するとともに、上記開閉弁１２
の開度を圧力計６からの圧力信号に応じて駆動されるコ
ントローラ１５で制御することによって排気流量を調整
し、気体放電室５内を流れるガス圧力を予め設定された
一定値に制御する。
このように、気体放電室５内を水銀蒸気と窒素ガスの混
合ガスが一定圧力で流通されている状態でマイクロ波発
生器２４を動作させ、アンテナ２１から気体放電室５内
にマイクロ波を発射させると、このアンテナ２１の周囲
には第２図中矢印で示したように、磁場ベクトルが放射
状の電磁界が形成され、この結果、隔壁チューブ２３の
周囲に周方向に沿って均一な放電（デ２ズマ）が生起さ
れる。そして、この放電によシ生起された紫外線は、透
過窓３１を通じて処理ケース３３内に導入され、この処
理ケース３３内の酸素が紫外線を受けてオゾンになる。
合ガスが一定圧力で流通されている状態でマイクロ波発
生器２４を動作させ、アンテナ２１から気体放電室５内
にマイクロ波を発射させると、このアンテナ２１の周囲
には第２図中矢印で示したように、磁場ベクトルが放射
状の電磁界が形成され、この結果、隔壁チューブ２３の
周囲に周方向に沿って均一な放電（デ２ズマ）が生起さ
れる。そして、この放電によシ生起された紫外線は、透
過窓３１を通じて処理ケース３３内に導入され、この処
理ケース３３内の酸素が紫外線を受けてオゾンになる。
このオゾンの酸化反応によシ、被処理物３２の表面に付
着している有機物が除去され、所定の光照射処理がなさ
れる。
着している有機物が除去され、所定の光照射処理がなさ
れる。
このような実施例によれば、気体放電室５内で放電気体
としての混合ガスを７０−させつつ放電が行なわれるの
で、長時間に亘る放電によって気体放電室５内に不純物
が発生した場合においても、この不純物は気体放電室５
内を流通する混合ガスとともに室外へ排出され、この不
純物が気体放電室５内に蓄積するのを防止できる。
としての混合ガスを７０−させつつ放電が行なわれるの
で、長時間に亘る放電によって気体放電室５内に不純物
が発生した場合においても、この不純物は気体放電室５
内を流通する混合ガスとともに室外へ排出され、この不
純物が気体放電室５内に蓄積するのを防止できる。
したがって、水銀蒸気圧の変動や透過窓３１に不純物が
付着することによる光透過性の低下も少なくなるから、
光出力の低下を確実に防止することができ、所望の光照
射処理を効率良く行なえる。
付着することによる光透過性の低下も少なくなるから、
光出力の低下を確実に防止することができ、所望の光照
射処理を効率良く行なえる。
しかも、気体放電室５内の混合ガスは常時入れ換わって
いるので、この混合ガスの温度上昇も少く、このため放
電を安定させるために気体放電室５の冷却を行う場合で
も、この冷却装置の能力や大きさを小さくすることがで
き、装置全体のコンパクト化に寄与する。
いるので、この混合ガスの温度上昇も少く、このため放
電を安定させるために気体放電室５の冷却を行う場合で
も、この冷却装置の能力や大きさを小さくすることがで
き、装置全体のコンパクト化に寄与する。
また、本実施例ではアンテナ２１の周囲と気体放電室５
内とを、隔壁チューブ２３によって区画してちるので、
アンテナ２ノが放電空間に直接露出されずに済み、した
がって、アンテナ２１がスノ臂ツタリングされることも
なく、長寿命となる。
内とを、隔壁チューブ２３によって区画してちるので、
アンテナ２ノが放電空間に直接露出されずに済み、した
がって、アンテナ２１がスノ臂ツタリングされることも
なく、長寿命となる。
なお、上記実施例では光は特定方向にのみ照射している
が、気体放電室を例えば石英バルブにすることにより、
光を気体放電室の周囲に満遍なく照射するようにしても
よい。したがって、このような場合には透過窓のような
構成はなくなるため、光発生源がそのまま光照射処理装
置を構成することになる。
が、気体放電室を例えば石英バルブにすることにより、
光を気体放電室の周囲に満遍なく照射するようにしても
よい。したがって、このような場合には透過窓のような
構成はなくなるため、光発生源がそのまま光照射処理装
置を構成することになる。
また本発明において、被処理物は液晶表示パネルに限定
されるものではなく、シたがって処理に用いる光も紫外
線に限らず、赤外線でちっても良い。
されるものではなく、シたがって処理に用いる光も紫外
線に限らず、赤外線でちっても良い。
さらにまた、気体放電室内に導入するガスも水銀および
窒素ガスに限らず、処理の種類や被処理物に応じてアル
ゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）やキセノン（Ｘｓ）
ガス又はこれらの混合ガスに変えても良いことは言うま
でもない。
窒素ガスに限らず、処理の種類や被処理物に応じてアル
ゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）やキセノン（Ｘｓ）
ガス又はこれらの混合ガスに変えても良いことは言うま
でもない。
以上詳述した本発明によれば、気体放電室内に不純物が
発生しても、この不純物は放電気体とともに室外に排出
されるので、気体放電室内の圧力変動や光透過部の光透
過性の低下を少なく抑えることができる。したがって、
光出力の低下を確実に防止することができ、所望の光照
射処理を効率良く行なえる利点がある。
発生しても、この不純物は放電気体とともに室外に排出
されるので、気体放電室内の圧力変動や光透過部の光透
過性の低下を少なく抑えることができる。したがって、
光出力の低下を確実に防止することができ、所望の光照
射処理を効率良く行なえる利点がある。
図面は本発明の一実施例を示し、第１図は光照射処理装
置の概略構成図、第２図は第１図中■−■線に沿う断面
図である。 １・・・光発生源、５・・・気体放電室、１７・・・気
体流通系、２１．２４・・・無電極放電手段（アンテナ
、マイクロ波発生器）、３１・・・光透過部（透過窓）
、３２・・・被処理物。
置の概略構成図、第２図は第１図中■−■線に沿う断面
図である。 １・・・光発生源、５・・・気体放電室、１７・・・気
体流通系、２１．２４・・・無電極放電手段（アンテナ
、マイクロ波発生器）、３１・・・光透過部（透過窓）
、３２・・・被処理物。
Claims (3)
- （１）特定の波長領域の光を発生し、この光を被処理物
に照射する光照射処理装置であって、上記光照射処理装
置は、気密構造をなすとともに、発生した光を被処理物
に照射するための光透過部を備えた気体放電室と、この
気体放電室内に放電を生起させる無電極放電手段と、上
記気体放電室内に放電が生起されている状態においてこ
の気体放電室内に放電気体を流通させる気体流通系とで
構成してなることを特徴とする光照射処理装置。 - （２）上記無電極放電手段は、マイクロ波発生源と、こ
のマイクロ波発生源で発生されたマイクロ波を気体放電
室内に発射せしめてこの気体放電室内に放射状に電磁界
を形成するアンテナとで構成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第（１）項記載の光照射処理装置。 - （３）上記気体放電室内とアンテナの周囲とを、石英ガ
ラス製の隔壁チューブによって区画したことを特徴とす
る特許請求の範囲第（２）項記載の光照射処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18101684A JPS6157237A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | 光照射処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18101684A JPS6157237A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | 光照射処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6157237A true JPS6157237A (ja) | 1986-03-24 |
Family
ID=16093275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18101684A Pending JPS6157237A (ja) | 1984-08-30 | 1984-08-30 | 光照射処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6157237A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989009068A1 (en) * | 1988-03-30 | 1989-10-05 | Paul Hirsch | Process and appliance for disinfecting and/or deodorizing the interior space of a microwave oven and for sterilizing objects contained therein |
| WO2000048685A1 (fr) * | 1999-02-17 | 2000-08-24 | Vladimir Vladimirovich Kostin | Procede de destruction de substances gazeuses hautement toxiques et, notamment, de substances toxiques militaires |
| JP2006516104A (ja) * | 2002-06-26 | 2006-06-22 | シーイーエム・コーポレーション | 高出力マイクロ波支援化学技法のための反応及び温度制御 |
| JP2009202120A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射装置 |
-
1984
- 1984-08-30 JP JP18101684A patent/JPS6157237A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989009068A1 (en) * | 1988-03-30 | 1989-10-05 | Paul Hirsch | Process and appliance for disinfecting and/or deodorizing the interior space of a microwave oven and for sterilizing objects contained therein |
| WO2000048685A1 (fr) * | 1999-02-17 | 2000-08-24 | Vladimir Vladimirovich Kostin | Procede de destruction de substances gazeuses hautement toxiques et, notamment, de substances toxiques militaires |
| JP2006516104A (ja) * | 2002-06-26 | 2006-06-22 | シーイーエム・コーポレーション | 高出力マイクロ波支援化学技法のための反応及び温度制御 |
| JP2009202120A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射装置 |
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