JPS6151283B2 - - Google Patents
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- JPS6151283B2 JPS6151283B2 JP58234362A JP23436283A JPS6151283B2 JP S6151283 B2 JPS6151283 B2 JP S6151283B2 JP 58234362 A JP58234362 A JP 58234362A JP 23436283 A JP23436283 A JP 23436283A JP S6151283 B2 JPS6151283 B2 JP S6151283B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
この発明は光学部品の多層反射防止膜に関し、
特に製造条件が多少変動しても反射特性に大きな
影響を受けることのない多層反射防止膜に係るも
のである。 光学部品の反射防止膜には、単層反射防止膜の
欠点、つまり低反射波長域が狭く、残留反射率が
大きいという欠点を改良した多層反射防止膜が多
く使われている。そしてこのような多層反射防止
膜の基本形の一つに、その膜厚構成を光学部品た
るガラス基板側から、光学膜厚λ0/4(λ0=
設計波長)の第1層膜、λ0/2の第2層膜、お
よびλ0/4の第3層膜とした3層反射防止膜が
ある。各層の物質としては、第1層膜が中間屈折
率物質であるCeF3、LaF3、Al2O3、SiO等、第2
層膜が高屈折率物質であるZrO2、TiO2、
Ta2O5、ZnS等、および第3層膜が低屈折率物質
であるMgF2、SiO2等が用いられる。 そしてこのような従来の3層反射防止膜として
例えばその構成物質をCeF3(λ0/4)−ZrO2
(λ0/2)−MgF2(λ0/4)としたものがあ
る。しかしながらこの従来のものは膜強度が小さ
いという欠点があつた。これに対しCeF3に代え
てAl2O3を使用すると膜強度が大きくなつて、こ
の欠点が改善されることが知られている。しかし
Al2O3のような酸化物上にZrO2を蒸着する場合、
強度を増す目的で下地温度をある温度に加熱する
工程を伴なうので、ZrO2の厚さが増すに従つて
屈折率が次第に小さくなるという、いわゆる厚み
方向の不均質膜となり、そのため3層反射防止膜
の設計波長λ0におけるピーク反射値が大きくな
つてしまうという欠点があつた。この欠点の解決
法として既に開示されている特公昭52−31204号
では、ZrO2の中間に極薄の低屈折率のMgF2層を
数層介在させている。また特公昭51−33750号、
同51−33751号ではMgF2 CeO2を含む複数層で均
質なZrO2層(λ0/2)と等価な等価膜を作つ
ている。しかしこれらの従来のものは、いずれも
構成物質の屈折率がZrO2の屈折率と大きく異な
つているために(ZrO2:2.05 MgF2:1.39
CeO2:2.15)介在層のわずかな膜厚変動および
介在位置のわずかな違い等があると、これによつ
ても蒸着後の製品の反射動性に大きく影響し、安
定した高歩留りを得ることが難しいという問題点
があつた。 この発明は、このような従来の問題点に着目し
てなされたもので、ZrO2よりもわずかに屈折率
の高い物質であるTiO2と、ZrO2との混合物質層
を第2層のZrO2層中に介在させることにより、
その介在物質層の膜厚が多少変動しても蒸着後の
製品の反射特性に大きなばらつきが生じないとい
う、云い換えれば製造条件に多少の変動があつて
もこれに殆んど影響を受けることのない多層反射
膜を提供することを目的としている。 即ちこの発明は、ガラス基板側からの膜厚構成
を第1層膜(λ0/4)、第2層膜、(λ0/2)
および第3層膜(λ0/4)とした3層基本形の
多層反射防止膜において、第1層膜の物質を
Al2O3とし、第2層膜をその第1層膜側からλ
0/4のZrO2、λ0/8のZrO2とTiO2の混合物
質、およびλ0/8のZrO2の物質からなる積層
体とし、第3層膜の物質をMgF2としたことを特
徴としている。ZrO2とTiO2の混合物質の混合比
は、重量比で(TiO2/ZrO2)=0.07〜0.13の範囲
とする。なおこの混合物質が、ZrOやTiO等の低
級酸化物を含む場合には、それぞれZrO2および
TiO2に重量変換して、前記と同様の混合比とな
るようにする。 ガラス基板側の第1層の膜物質をAl2O3とした
ことで膜強度の増大が図られる。ZrO2単味のも
のに代えて、ZrO2とTiO2とを混合し、これを焼
結したものを蒸着物質として使用すればその膜層
の不均質性が改善されることは知られている。し
かしこの発明においてZrO2とTiO2の混合比は、
重量比で(TiO2/ZrO2)=0.07〜0.13とする。混
合比を0.07以上とすると不均質改良効果が十分に
得られる。しかし0.13以上とすると屈折率が大と
なつて低反射領域が狭くなる。また混合物質の厚
さおよびその介在位置については、この混合物質
は第2層ZrO2膜の中間位置に介在させるのでは
なく、ZrO2を膜厚λ0/4蒸着したのちに、こ
の混合物質層をλ0/8の厚さで蒸着し、さらに
この上にλ0/8のZrO2を積層した3層構造と
する。このような積層構造とすることにより、膜
厚λ0/2の第2層膜は、厚み方向に屈折率勾配
が均一なZrO2単味の膜と等価な反射特性を有す
る膜となる。ZrO2とTiO2との混合物質は、その
屈折率が2.13程度で、ZrO2の屈折率2.05に対して
僅かに大であり、かつZrO2を母体とした混合物
なので、ZrO2単味の層との界面が蒸着条件に余
り左右されることなく連続的となり、その界面で
の反射が非常に少なくなり、上述のような良好な
反射特性を有する膜になるものと解される。因み
に第2層膜を膜厚λ0/4以上のZrO2膜と膜厚
λ0/4以下の混合物質膜からなる合計λ0/2
の膜厚よりなる2層構造の膜とした場合にも反射
特性等の良好な改善効果は得られない。また混合
物質の膜厚はλ0/8と述べたが、これをさらに
具体的に述べると、一例として(TiO2/ZrO2)=
0.11の重量比のとき0.09〜0.14×λ0の厚さの範
囲とする。0.09×λ0以下ではピーク反射率を低
下させる効果がなく、0.14×λ0以上では低反射
領域が狭くなる。 次に実施例を従来例と比較しながら述べる。次
頁の表は、膜の構成を示すもので、表中(a)、(b)は
従来例(比較例)、(c)はこの発明の実施例を示し
ている。また第1図および第2図は、この表の各
構成膜の波長と反射率の関係を示すもので、第1
図は屈折率ng=1.52のガラス基板に堆積させた
場合、第2図は同ng=1.59のガラス基板に堆積
させた場合をそれぞれ示している。 まず従来例について述べると、第1図、第2図
ともに、(b)の方が(a)よりも、ピク反射率(530m
μ付近の反射率)が小さい。これはAl2O3の屈折
特に製造条件が多少変動しても反射特性に大きな
影響を受けることのない多層反射防止膜に係るも
のである。 光学部品の反射防止膜には、単層反射防止膜の
欠点、つまり低反射波長域が狭く、残留反射率が
大きいという欠点を改良した多層反射防止膜が多
く使われている。そしてこのような多層反射防止
膜の基本形の一つに、その膜厚構成を光学部品た
るガラス基板側から、光学膜厚λ0/4(λ0=
設計波長)の第1層膜、λ0/2の第2層膜、お
よびλ0/4の第3層膜とした3層反射防止膜が
ある。各層の物質としては、第1層膜が中間屈折
率物質であるCeF3、LaF3、Al2O3、SiO等、第2
層膜が高屈折率物質であるZrO2、TiO2、
Ta2O5、ZnS等、および第3層膜が低屈折率物質
であるMgF2、SiO2等が用いられる。 そしてこのような従来の3層反射防止膜として
例えばその構成物質をCeF3(λ0/4)−ZrO2
(λ0/2)−MgF2(λ0/4)としたものがあ
る。しかしながらこの従来のものは膜強度が小さ
いという欠点があつた。これに対しCeF3に代え
てAl2O3を使用すると膜強度が大きくなつて、こ
の欠点が改善されることが知られている。しかし
Al2O3のような酸化物上にZrO2を蒸着する場合、
強度を増す目的で下地温度をある温度に加熱する
工程を伴なうので、ZrO2の厚さが増すに従つて
屈折率が次第に小さくなるという、いわゆる厚み
方向の不均質膜となり、そのため3層反射防止膜
の設計波長λ0におけるピーク反射値が大きくな
つてしまうという欠点があつた。この欠点の解決
法として既に開示されている特公昭52−31204号
では、ZrO2の中間に極薄の低屈折率のMgF2層を
数層介在させている。また特公昭51−33750号、
同51−33751号ではMgF2 CeO2を含む複数層で均
質なZrO2層(λ0/2)と等価な等価膜を作つ
ている。しかしこれらの従来のものは、いずれも
構成物質の屈折率がZrO2の屈折率と大きく異な
つているために(ZrO2:2.05 MgF2:1.39
CeO2:2.15)介在層のわずかな膜厚変動および
介在位置のわずかな違い等があると、これによつ
ても蒸着後の製品の反射動性に大きく影響し、安
定した高歩留りを得ることが難しいという問題点
があつた。 この発明は、このような従来の問題点に着目し
てなされたもので、ZrO2よりもわずかに屈折率
の高い物質であるTiO2と、ZrO2との混合物質層
を第2層のZrO2層中に介在させることにより、
その介在物質層の膜厚が多少変動しても蒸着後の
製品の反射特性に大きなばらつきが生じないとい
う、云い換えれば製造条件に多少の変動があつて
もこれに殆んど影響を受けることのない多層反射
膜を提供することを目的としている。 即ちこの発明は、ガラス基板側からの膜厚構成
を第1層膜(λ0/4)、第2層膜、(λ0/2)
および第3層膜(λ0/4)とした3層基本形の
多層反射防止膜において、第1層膜の物質を
Al2O3とし、第2層膜をその第1層膜側からλ
0/4のZrO2、λ0/8のZrO2とTiO2の混合物
質、およびλ0/8のZrO2の物質からなる積層
体とし、第3層膜の物質をMgF2としたことを特
徴としている。ZrO2とTiO2の混合物質の混合比
は、重量比で(TiO2/ZrO2)=0.07〜0.13の範囲
とする。なおこの混合物質が、ZrOやTiO等の低
級酸化物を含む場合には、それぞれZrO2および
TiO2に重量変換して、前記と同様の混合比とな
るようにする。 ガラス基板側の第1層の膜物質をAl2O3とした
ことで膜強度の増大が図られる。ZrO2単味のも
のに代えて、ZrO2とTiO2とを混合し、これを焼
結したものを蒸着物質として使用すればその膜層
の不均質性が改善されることは知られている。し
かしこの発明においてZrO2とTiO2の混合比は、
重量比で(TiO2/ZrO2)=0.07〜0.13とする。混
合比を0.07以上とすると不均質改良効果が十分に
得られる。しかし0.13以上とすると屈折率が大と
なつて低反射領域が狭くなる。また混合物質の厚
さおよびその介在位置については、この混合物質
は第2層ZrO2膜の中間位置に介在させるのでは
なく、ZrO2を膜厚λ0/4蒸着したのちに、こ
の混合物質層をλ0/8の厚さで蒸着し、さらに
この上にλ0/8のZrO2を積層した3層構造と
する。このような積層構造とすることにより、膜
厚λ0/2の第2層膜は、厚み方向に屈折率勾配
が均一なZrO2単味の膜と等価な反射特性を有す
る膜となる。ZrO2とTiO2との混合物質は、その
屈折率が2.13程度で、ZrO2の屈折率2.05に対して
僅かに大であり、かつZrO2を母体とした混合物
なので、ZrO2単味の層との界面が蒸着条件に余
り左右されることなく連続的となり、その界面で
の反射が非常に少なくなり、上述のような良好な
反射特性を有する膜になるものと解される。因み
に第2層膜を膜厚λ0/4以上のZrO2膜と膜厚
λ0/4以下の混合物質膜からなる合計λ0/2
の膜厚よりなる2層構造の膜とした場合にも反射
特性等の良好な改善効果は得られない。また混合
物質の膜厚はλ0/8と述べたが、これをさらに
具体的に述べると、一例として(TiO2/ZrO2)=
0.11の重量比のとき0.09〜0.14×λ0の厚さの範
囲とする。0.09×λ0以下ではピーク反射率を低
下させる効果がなく、0.14×λ0以上では低反射
領域が狭くなる。 次に実施例を従来例と比較しながら述べる。次
頁の表は、膜の構成を示すもので、表中(a)、(b)は
従来例(比較例)、(c)はこの発明の実施例を示し
ている。また第1図および第2図は、この表の各
構成膜の波長と反射率の関係を示すもので、第1
図は屈折率ng=1.52のガラス基板に堆積させた
場合、第2図は同ng=1.59のガラス基板に堆積
させた場合をそれぞれ示している。 まず従来例について述べると、第1図、第2図
ともに、(b)の方が(a)よりも、ピク反射率(530m
μ付近の反射率)が小さい。これはAl2O3の屈折
【表】
率がCeF3のそれよりも大きなためである。しか
し第2層の混合物質の屈折率がZrO2より大きい
ために低反射領域が狭くなつている。即ち(b)のも
のはλ0/2層における混合物の屈折率が高すぎ
るための悪い影響が見られる。この(b)のものは、
TiO2の混合比率を低下させると屈折率は小とな
る反面、不均質改良効果も低下して相反する結果
となる。蒸着工程における基板温度の低下、酸素
の導入等により屈折率の変化を図ることもできる
が、蒸着速度の低下、膜強度の不安定性、さらに
は生産工程の条件制御に精密さが要求され有利の
方法とはいえない。 これに対し、この発明に係る(c)のものは、上記
(a)(b)のものに対して、ピーク反射率が低くなると
同時に低反射領域が広く、(a)(b)それぞれの長所を
かね備えた特性となつている。 以上詳述したようにこの発明によれば第1層膜
(λ0/4)をAl2O3とし、第2層膜(λ0/
2)をその第1層膜側からλ0/4のZrO2、λ
0/8のZrO2とTiO2の混合物質、およびλ0/
8のZrO2の各物質からなる積層体とし、第3層
膜(λ0/4)をMgF2としたから、反射特性に
関してはピーク反射率が低くなると同時に低反射
領域も広くなるという優れた効果が得られる。ま
たこれとともに膜強度の増大を図ることができ
る。さらにZrO2層にMgF2を多数層介在させた従
来の多層膜より製造工程が煩雑でなく、その上膜
厚制御等の精密さを簡易にし、生産コストの低減
を図ることができるという効果が得られる。
し第2層の混合物質の屈折率がZrO2より大きい
ために低反射領域が狭くなつている。即ち(b)のも
のはλ0/2層における混合物の屈折率が高すぎ
るための悪い影響が見られる。この(b)のものは、
TiO2の混合比率を低下させると屈折率は小とな
る反面、不均質改良効果も低下して相反する結果
となる。蒸着工程における基板温度の低下、酸素
の導入等により屈折率の変化を図ることもできる
が、蒸着速度の低下、膜強度の不安定性、さらに
は生産工程の条件制御に精密さが要求され有利の
方法とはいえない。 これに対し、この発明に係る(c)のものは、上記
(a)(b)のものに対して、ピーク反射率が低くなると
同時に低反射領域が広く、(a)(b)それぞれの長所を
かね備えた特性となつている。 以上詳述したようにこの発明によれば第1層膜
(λ0/4)をAl2O3とし、第2層膜(λ0/
2)をその第1層膜側からλ0/4のZrO2、λ
0/8のZrO2とTiO2の混合物質、およびλ0/
8のZrO2の各物質からなる積層体とし、第3層
膜(λ0/4)をMgF2としたから、反射特性に
関してはピーク反射率が低くなると同時に低反射
領域も広くなるという優れた効果が得られる。ま
たこれとともに膜強度の増大を図ることができ
る。さらにZrO2層にMgF2を多数層介在させた従
来の多層膜より製造工程が煩雑でなく、その上膜
厚制御等の精密さを簡易にし、生産コストの低減
を図ることができるという効果が得られる。
第1図および第2図はこの発明に係る多層反射
防止膜の実施例と比較例の波長と反射率との関係
を示す特性図で、第1図はガラス基板として屈折
率1.52のものを用いた場合、第2図は同屈折率
1.59のものを用いた場合をそれぞれ示す。
防止膜の実施例と比較例の波長と反射率との関係
を示す特性図で、第1図はガラス基板として屈折
率1.52のものを用いた場合、第2図は同屈折率
1.59のものを用いた場合をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ガラス基板側からの膜厚構成をλ0/4の第
1層膜、λ0/2の第2層膜、およびλ0/4の
第3層膜とした多層反射防止膜において、 前記第1層膜の物質をAl2O3とし、前記第2層
膜を当該第1層膜側からλ0/4のZrO2、λ
0/8のZrO2とTiO2の混合物質、およびλ0/
8のZrO2の各物質からなる積層体とし、前記第
3層膜の物質をMgF2としたことを特徴とする多
層反射防止膜。 2 ZrO2とTiO2の混合物質の混合比が、重量比
で(TiO2/ZrO2)=0.07〜0.13である特許請求の
範囲第1項記載の多層反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58234362A JPS60126601A (ja) | 1983-12-14 | 1983-12-14 | 多層反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58234362A JPS60126601A (ja) | 1983-12-14 | 1983-12-14 | 多層反射防止膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60126601A JPS60126601A (ja) | 1985-07-06 |
JPS6151283B2 true JPS6151283B2 (ja) | 1986-11-08 |
Family
ID=16969812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58234362A Granted JPS60126601A (ja) | 1983-12-14 | 1983-12-14 | 多層反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60126601A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8437083B2 (en) | 2009-05-21 | 2013-05-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element, optical system including the optical element, and optical apparatus including the optical system |
US10908319B2 (en) | 2016-05-02 | 2021-02-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film, and optical member and optical apparatus each using the antireflection film |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0402075B1 (en) * | 1989-06-06 | 1994-04-20 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Heat ray screening glass |
EP0619504A1 (de) * | 1993-04-08 | 1994-10-12 | Optische Werke G. Rodenstock | Antireflex-Belag |
CN108349228B (zh) * | 2015-11-13 | 2019-03-26 | 东洋纺株式会社 | 层叠聚酯薄膜 |
-
1983
- 1983-12-14 JP JP58234362A patent/JPS60126601A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8437083B2 (en) | 2009-05-21 | 2013-05-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element, optical system including the optical element, and optical apparatus including the optical system |
US10908319B2 (en) | 2016-05-02 | 2021-02-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film, and optical member and optical apparatus each using the antireflection film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60126601A (ja) | 1985-07-06 |
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