JPH03187955A

JPH03187955A - 選択透過物品及びその製造方法

Info

Publication number: JPH03187955A
Application number: JP2049198A
Authority: JP
Inventors: Hidekazu Ando; 英一安藤; Koichi Suzuki; 巧一鈴木; Junichi Ebisawa; 海老沢　純一; Yasushi Takemasa; 武政　康史
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1989-03-07
Filing date: 1990-03-02
Publication date: 1991-08-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、光（電磁波）の一部を選択的に透過あるいは
反射して、流入あるいは流出する光エネルギーを制御す
る選択透過物品の製造方法及び該方法によって製造され
た選択透過物品に関するものである。

［従来の技術］建築用、自動車用などの大面積ガラスに選択透過膜をコ
ーティングする場合、通常直流スパッタリング法が用い
られる。この方法で、酸化物膜を形成するにはターゲッ
トに導電性が必要でありＩＴＯ（錫を含む酸化インジウ
ム）、Ａ１ドープしたＺｎＯなどの一部例外を除（と金
属酸化物は導電性がないため、通常金属又は合金ターゲ
ットが用いられ、酸化性雰囲気でこれの反応性スパッタ
リングで行なわれる。しかし、酸化物膜を非酸化物から
なる選択透過膜上に形成する場合、即ち、基板（／誘電
体膜）／選択透過膜／酸化物膜等の構成の選択透過物品
を製造する場合に、酸化物膜形成時の酸素プラズマ雰囲
気下で前に成膜しである選択透過膜の一部が酸化するこ
とが避けられない。これによる酸化の程度は現状の技術
ではコントロールすることができず、結果として光学性
能がバラツクという問題点をかかえていた。

［発明の解決しようとする課題］本発明の目的は、従来技術が有していた前述の問題点を
解決しようとするものである。

［課題を解決するための手段］本発明は、前述の問題点を解決すべくなされたもので、
透明基板上に選択透過膜を形成し、次に酸化物膜を形成
する際に、該選択透過膜が酸化されるのを防ぐための酸
化バリア膜を該選択透過膜上に形成し、次いで酸化物膜
を形成することを特徴とする選択透過物品の製造方法及
び透明基板上に基板側から選択透過膜、酸化物膜と順次
積層された少なくとも２層よりなる選択透過物品であっ
て、選択透過膜と酸化物膜の間に、該選択透過膜の酸化
を防ぐ薄いバリア層が形成されていることを特徴とする
選択透過物品及び透明基板上に基板側から誘電体膜、次
いで選択透過膜、酸化物膜と順次積層された選択透過物
品であって、選択透過膜と酸化物膜との間に、該選択透
過膜の酸化を防ぐ薄いバリア層が形成されていることを
特徴とする選択透過物品を提供するものである。

第１図は、本発明に係わる選択透過物品の一例の断面図
を示したものであり、１は透明あるいは着色したガラス
やプラスチックなどからなる基板又はフィルム等の基体
、２は金属、窒化物、炭化物、吸収性酸化物あるいはこ
れらの複合物などの非酸化物からなる選択透過膜、３は
酸化バリア膜、４は酸化物膜を示す。

選択透過膜としては、熱線遮断膜、紫外線遮断膜等、光
（電磁波）の一部を選択的に透過あるいは反射して、光
エネルギーの流入又は流出を制御する膜であれば特に限
定されない。

第２図は、本発明に係わる選択透過物品の別の一例の断
面図を示したものであり、５は誘電体膜である。

本発明は、第１図、第２図に示したような、膜構成の選
択透過物品のみでなく、完全な酸化物でない選択透過膜
上に酸化物膜を形成する全ての場合に適用できる。第２
図の構成を（り返したような膜構成、例えば基体／誘電
体／Ａｇ／酸化バリア膜／酸化物膜／　Ａ　ｇ　／酸化
バリア膜／酸化物膜、等、様々な場合に適用できる。

本発明における最も大きな特徴は、選択透過膜の上にこ
の酸化を防ぐ薄いバリア層３を形成することである。こ
のバリア層の膜材料は特に限定はされないが、通常のス
パッタリング法を用いマルチパスモードで成膜する場合
、生産性を考慮して選択透過膜あるいは空気側に形成す
る酸化物膜のいずれかのターゲットから形成できる金属
膜、あるいは窒化膜が好ましい。膜厚はあまり薄いとバ
リア効果が十分でなく、最外層の酸化物膜４を反応性ス
パッタリングで形成するときに選択透過膜２の一部が酸
化されてしまう。また、あまり厚いと逆に完全に酸化さ
れずに残ってしまい、透過率が下がってしまうことにな
る。従って膜厚としては５ないし３０人、好ましくは１
口ないし２０人が良い。

本発明は上記したように少なくとも３層構成（酸化され
て酸化物膜と同様の膜となるような金属の膜を酸化バリ
ア層として形成した場合には、最終的には、実質的に選
択透過膜と酸化物膜の少なくとも２層構成）よりなるが
、場合によっては基板１と選択透過膜２あるいは誘電体
膜５、または酸化バリア膜２と酸化物膜４との間に１層
、または複数の層を形成して付着力向上や光学特性の調
整の機能を持たしても良い。

酸化物膜４は、硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジ
ルコニウム、チタン、ハフニウム、錫、タンタル、イン
ジウムのうち少なくとも１種とを含む酸化物膜や、酸化
錫、又は酸化珪素などが好ましいが、特にこれだけに限
定されるものではなく、耐久性向上、光学定数調整、成
膜時の安定性、あるいは成膜速度の向上などのために他
の成分を含んでいてもさしつかえないことは言うまでも
ないことである。また本発明の酸化物膜は必ずしも透明
である必要はなく、酸素欠損の状態の吸収性膜や、一部
窒素、炭素を含有していても同様に有効であることはい
うまでもないことである。

酸化物膜４は、特に限定はされないが、硼素又は珪素の
うち少なくとも一種とジルコニウム、ハフニウム、タン
タル、錫、インジウム、チタンのうち少なくとも１種と
を含む酸化物膜は耐擦傷性や化学的安定性に優れるので
、特に高耐久が必要な用途には適する。

酸化物膜４の組成は特に限定はないが、膜が非晶質化し
て耐擦傷性や信頼性向上のためには、チタン、ジルコニ
ウム、ハフニウム、錫、タンタル、インジウム、硼素、
珪素の酸化物膜をそれぞれＴｉ０ｚ、ＺｒＯ２，Ｈｆ０
ｚ、５ｎＯｔ、Ｔａ２０５．ＩｎｚＯ３゜ＢｚＯｓ、　
５ｉＯｉと表わすとき、Ｔｉ（ｈ、　Ｚｒ０ｚ、ＨｆＯ
２゜Ｓｎｏｗ、　ＴａＪｓ及びＩｎｔＯｎから選ばれた
酸化物の合計１００部に対して、Ｂａ５ｓ、　ＳｉＯ□
から選ばれた酸化物の合計がモル比で５部以上、好まし
くは１０部以上、特に２０部以上あるのが良い。またＢ
２Ｏ３の場合、あまり多いと信頼性、特に化学的耐久性
が低下するので、用途によっては、Ｔｉ０ｉ、ＺｒＯ□
、Ｈｆ０ｔ、　５ｎＯａ、　Ｔ８２０ｇ及びＩｎ２Ｏ５
から選ばれた酸化物の合計１００部に対してモル比で２
００部以下好ましくは１００部以下、特に５０部以下が
良い。５ｉｆｔの場合は、あまり多いとアルカリに対す
る耐久性が低下するので、Ｔ　ｉＯ２１ＺｒＯｉ、Ｈｆ
０ｉ、Ｓｎｏｗ、ＴａｇＯｓ及びＩｎＪｓから選ばれた
酸化物の合計１００部に対してモル比で１９００部以下
、好ましくは９００部以下、特に４００部以下が良い。

表１は、各種非晶質酸化物膜の性質を示したものである
。それぞれ表に挙げた組成のターゲットを用いて、反応
性スパッタリングにより成膜したものである。同じター
ゲットを用いても、膜組成や成膜条件により若干変動す
ることがあるので、表１はあくまでも一例を示したもの
である。

結晶性は、薄膜Ｘ線回折により観測した。

又、耐擦傷性は、砂消しゴムによる擦り試験の結果で、
０は傷が殆どつかなかったもの、×は容易に傷が生じた
ものである。

耐摩耗性は、テーパー試験（摩耗輪Ｃ５−１０Ｆ、加重
５００　ｇ、　１０００回転）の結果、ヘイズ４％以内
のものを○、ヘイズ４％超のものを×とした。耐酸性は
０．１Ｎ　　Ｈ２ＳＯ４中に２４０時間浸漬した結果、
ＴＶ　　（可視光透過率）、Ｒｖ　（可視光反射率）の
浸漬前に対する変化率が１％以内のものを○、１〜４％
のものをΔ、膜が溶解して消滅してしまったものを×と
した。耐アルカリ性は０．ＩＮ　ＮａＯＨ中に２４０時
間浸漬した結果、ＴＶ、Ｒｖの浸漬前に対する変化率が
１％以内のものを○、２％以内のものを△、膜が溶解し
てしまったものをＸとした。煮沸テストは、１気圧下、
１００℃の水に２時間浸漬した後、ＴＶ、Ｒ，の浸漬前
に対する変化率が１％以内であるときＯ，１％超のとき
×とした。

ＺｒＢｘＯｙ膜に関しては、表１から明らかなように、
膜中のＢが少ないと結晶性の膜ができ、Ｂが多いと非晶
質の膜ができる傾向があることがわかる。そして、結晶
性の膜は耐擦傷性及び耐摩耗性が劣るのに対して非晶質
の膜は優れていることがわかる。これは非晶質の膜は、
表面が平滑である為であると考えられる。従って、Ｚｒ
Ｂつ０．膜（膜中のＺｒに対するＢの原子比Ｘが０．１
＜ｘ）の膜は耐擦傷性、耐摩耗性に優れている。Ｂ２Ｏ
３膜は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしまうの
で、ｚｒＢ＊ｏｙ膜においてｘ＜４程度が好ましい。

ＺｒＢ、０．膜中のＺｒに対するＯ（酸素）の原子比は
特に限定されないが、多すぎると膜構造が粗になりボッ
ボッの膜になってしまうこと、又、あまり少ないと膜が
金属的になり透過率が低下したり膜の耐擦傷性が低下す
る傾向があることなどの理由によりＺｒＬと８２０３の
複合系となる量程度であることが好ましい。即ち、複合
酸化物をＺｒ０ｚ＋　Ｘ　Ｂｏｂ、　ｓと表すと、Ｂが
Ｚｒに対して原子比でＸ含まれる時に、ｙ＝２＋１．５
ｘ程度であることが好ましい。

又、表１より、ＺｒＢｘＯｙ膜中のＢの量が増えるにつ
れ、膜の屈折率が低下する傾向があること１がわかる。膜中のＢを増やすことにより、屈折率ｎは２
．１４ぐらいから１．４６程度まで低下する。

従って０．１　＜ｘ＜４．２＜ｙ＜８のＺｒＢＸＯ，膜
は良好な耐擦傷性及び耐摩耗性を有し、かつ、Ｂの量に
よって自由に屈折率を選択できる本発明の目的に好適な
非晶質酸化物膜である。

さらに、表１に示したように、膜中のＢの含有量が増え
るにつれ、耐酸性、耐アルカリ性が劣化する傾向がある
。Ｘ≧２．３で耐酸性が悪くなり、さらにＸ≧４で耐ア
ルカリ性の低下及び煮沸テストで劣化を示すようになる
。従って、空気中で露出した状態で使用されるような高
化学的耐久性が要求される用途には、ＺｒＢｘＯｙ（ｘ
＜２．３）の非晶質酸化物膜が好ましく、又、ＺｒＢｘ
Ｏｙ　（Ｘ≧２．３）の膜はこの他の用途において、低
屈折率膜として利用できる。

以上のように、ＺｒＯ□膜にＢを加えたことにより、膜
が非晶質化し、表面が平滑化し、これが耐摩耗性及び耐
擦傷性の向上に寄与していると２考えられる。

次に、Ｚｒ５ｚｘＯｙ膜に関しては、表１より、やはり
アモルファスであり、耐擦傷性、耐摩耗性の高い膜が得
られる。

屈折率については、Ｚｒ０ａ　（ｎ　＝　２．１４）と
５１０２（ｎ　＝　１．４６）の間でその組成割合によ
って上下する。

ＺｒＳｉ＊Ｏｙ膜において、０．０５≦Ｚ（膜中のＺｒ
に対するＳＬの原子比）〈１９であることが好ましい。

ｚ＜０．０５だと、膜が非晶質化せず、十分な物理的耐
久性が得られない。又、Ｚ≧１９だと、耐アルカリ性が
悪くなる。又、ｙ（ＺｒＳｉっｏｙ模膜中Ｚｒに対する
Ｏ（酸素）の原子比）は、ＺｒＢｘＯｙ膜について述べ
たのと同様の理由により、Ｌｒ０ｇと５ｉＯｉの複合系
と考えて、ＳｉがＺｒに対して原子比で２含まれる時に
、ｙ＝２＋２ｚ程度であることが好ましい。

従って空気中で露出した状態で使用する用途には、０．
０５≦ｚ　＜　１９．２．１　≦ｙ　＜　４０（７）　
ＺｒＳｉ、Ｏ。

膜が好ましく、１９≦ＺのＺ　ｒ　Ｓ　ｉｚ　Ｏｙ膜は
、その他の用途において、低屈折率膜として利用できる
。

又、ＺｒＢ、Ｓｉ　ｚｏｙ膜も本発明の酸化物膜として
使用できる。かかる膜中のＺｒに対するＢの原子比ｘ、
Ｓｉの原子比２．０（酸素）の原子比ｙは、Ｘ＋Ｚ≧０
．０５であれば膜が非晶質化し、耐擦傷性及び耐摩耗性
の高い膜となるので好ましい。又、ｘ＋ｚ＜１．９であ
れば耐アルカリ性も良好であるので、ＺｒＢｘＳｉ２．
Ｏｙ膜においては、０．０５≦ｘ十ｚ＜１９であるのが
好ましい。ただし、上述のように、Ｂ２Ｏ３は吸湿性で
空気中の水分を吸収して溶けてしまうため、ＺｒＢｘＳ
ｉ、Ｏ，膜中にあまり多（含有されない方がよい。具体
的には、膜中において、Ｏ（酸素）を除＜ＺｒとＢとＳ
ｉの合計量に対して、Ｚｒ＜２５原子％、かつＳｉ＜２
５原子％で残りがＢとなる程Ｂが含まれていると化学的
耐久性が不十分となる。即ぢ、ＺｒＢｘＳｉｚＯｙ膜中
のＺｒ：Ｂ：Ｓｉ（原子比）を１　：ｘ：ｚとすると、
］　／　（ｌ　＋Ｘ＋２）　＜０．２５、かつＺ／（１
＋ｘ＋ｚ）　＜０．２５、即ち、ｘ十ｚ−３＞Ｏｌかつ
ｘ−３ｚ＋１＞０の組成は化学的耐久性が好ましくない
。ｙは、ＺｒＢｘＯｙの場合に述べたのと同様の理由に
よりこの膜をＺｒＯ２＋　８２０３＋　５ｉ０２の複合
系と考えて、ｙは２＋１．５　ｘ＋　２ｚ程度であるこ
とが好ましい。よってほぼ２＜ｙ＜４０程度であること
が好ましい。ＢやＳｉの含有量が多い程ＺｒＢｘＳｉＪ
、膜の屈折率は低下する。

Ｚｒ以外の金属、即ち、ＴＬ、　Ｈｆ、　Ｓｎ、　Ｔａ
、　Ｉｎ　　と、ＢとＳＬのうち少なくとも１種とを含
む酸化物も同様に非晶質となり、十分な耐擦傷性、及び
耐摩耗性が得られる。Ｔｌ５ＩＺＯＩ＋膜を表１のサン
プル２８に一例として示した。

本発明の酸化物膜４は、Ｚｒ、　Ｔｉ、　Ｈｆ、　Ｓｎ
、　Ｔａ、　ＩｎＢ、Ｓｉ、０以外の元素、例えばＢ、
　Ｓｉと同様にガラス構成元素であるＰ、　Ａｓ等を、
耐久性向上、光学定数調整、成膜時の安定性、あるいは
成膜速度の向上筒のために、微量に含んでいてもよい。

酸化物膜４の膜厚も特に限定されないが、あまり薄いと
十分な耐久性が得られないため、用途にもよるが、５０
Å以上好ましくは１０口人　５以上、特に１５０Å以上あることが望ましい。

一方、あまり膜厚が厚（なると生産性が悪くなり、また
干渉効果もでてきて反射の色も強（なるので、その屈折
率にもよるが通常１０００Å以下、好ましくは７００Å
以下、特に５００Å以下が選択される。

選択透過膜２の膜材料は限定されず、用途によって、あ
るいは要求仕様によって金属、窒化物、炭化物、吸収性
酸化物、あるいはこれらの複合物から選択される。通常
は、選択透過膜２としては、金、銀、白金、チタン、ク
ロム、ジルコニウム、窒化チタン、窒化クロム、または
窒化ジルコニウムなどから選択される。

誘電体膜５としては、上述の酸化物膜４と同様の材料や
、５ｎ０２．５ｉＯ７，ＺｎＯ，ＴｉＯ３，ＳｎとＺｎ
の複合酸化物等が使用でき、特に限定されない。

選択透過膜２に窒化膜を用いる場合、基板１との付着力
を増すために、選択透過膜２と基板１との間に酸化物を
形成するのは有効である。

６［作用］本発明において、酸化バリア膜３は、酸化物膜４を反応
性スパッタリングで形成する際、選択透過膜２が酸素プ
ラズマ雰囲気にさらされて部酸化してしまうのを、バリ
ア膜３自体が酸化されることで防止するものである。

［実施例］（実施例１）ガラス基板をスパッタリング装置の真空槽にセットしｌ
　Ｘ　１Ｏ−６Ｔｏｒｒまで排気した。アルゴンと窒素
の混合ガスを導入して圧力を２×１Ｏ−３Ｔｏｒｒとし
た後、選択透過膜２としての熱線遮断膜２としてチタン
を反応性スパッタリングして窒化チタン（第１層）を約
２０人形成した。

次にアルゴンガスに切り替え２　Ｘ　１Ｏ−３Ｔｏｒｒ
にして、酸化バリア膜３としてＺｒＢ２ターゲットをス
パッタリングしてＺｒ８ｇ膜を１５人形成した。更にア
ルゴンと酸素の混合ガスに切り替え圧力を２Ｘ　１Ｏ−
３Ｔｏｒｒにして、酸化物膜４としてＺｒＢ２ターゲッ
トを反応性スパッタリングしてジルコニラムと硼素から
なる酸化物膜（第２層）を約２００人形成し、実質的に
ガラス／ＴｉＮ（２０人）／ＺｒＢｚＯｇ　（２１５人
）の２層からなる選択透過膜をつくった。

こうして得られた選択透過ガラスの可視光線透過率ＴＶ
、太陽光線透過率Ｔｔ、コート面反射率Ｒ□、ガラス面
反射率Ｒｖａは、それぞれ７１、５６．１０．９　（％
）であり、また透過率や反射率の値、および色調の再現
性も良好であった。

（実施例２）ガラス基板を真空槽にセットし、ｌＸｌ０−’Ｔｏｒｒ
以下に排気した。２　Ｘ　１０−”Ｔｏｒｒのアルゴン
と酸素の混合ガス中でＺｒ−３Ｌターゲツト（原子比１
：２）を反応性スパッタリングしてＺｒＳｉ２０ｓ膜（
屈折率約１．７）を約６５０人形成した。次にアルゴン
ガス中でＡｇをスパッタリングして熱線反射膜としての
Ａｇ膜を約７０人形成したのち、酸化バリア膜３として
Ｚｒ５ｉａ膜を１５人形成し、次にアルゴンと酸素の混
合ガスに切りかえて、第１層と同じＺｒ５ｉｘＯａ膜を
約５６０人形成して、実質的にはガラス／　ＺｒＳｉ２
０ｓ　（６５０人）／Ａｇ（７０人）／　ＺｒＳｉ２０
ｇ　（５７５人）の３層構成からなる選択透過膜をつ（
った。かかる選択透過膜付ガラスのＴＶ（可視光線透過
率）、ＴＥ　（太陽光線透過率）、Ｒｖ、（膜面可視光
反射率）、ＲＥＦ（膜面太陽光線反射率）、Ｒｖｏ（ガ
ラス面可視光反射率）、ＲＩ（ガラス面太陽光線反射率
）はそれぞれ、８２．１，６７．０，１３．０，２０．
９，１２．９，２１．０　　（％）であり、また透過率
や反射率の値、および色調再現性も良好であった。

（実施例３）ガラス基板を真空槽にセットし、１Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ
以下に排気した。２　Ｘ　１Ｏ−３Ｔｏｒｒのアルゴン
と酸素の混合ガス中でＺｒ−３Ｌターゲツト（原子比Ｉ
：１）を反応性スパッタリングしてＺｒ５ｉＯｎ膜（屈
折率約１．７５）を約７７５人形成した。次にアルゴン
ガス中でＡｇをスパッタリングしてＡｇ膜を約７０人（
第２層）形成したのち、酸化バリア層としてＺｒＳｉ膜
（第３層）を１５人形成し、次にアルゴンと酸素の混合
ガス中で第１層と同じ　９ＺｒＳｉ０４膜を約８６０人（第４層）形成し、次いで
第２層と同様にしてＡｇ膜を約７０人（第５層）、次い
で第３層と同様にしてＺｒ５ｉＯ酸化バリア膜（第６層
）を１５人形成し、さらに第１．４層と同様にしてＺｒ
ＳｉＯ４膜を約４７５人（第７層）形成して、実質的に
はガラス／　Ｚｒ５ｉＯ４（７７５人）／Ａｇ（７０人
）　　／Ｚｒ５ｉ０４（８７５人）／Ａｇ（７０人）　
／Ｚｒ５ｉＯ４（４９０人）の５層からなる選択透過膜
をつくった。かかる選択透過膜付ガラスのＴＶ（可視光
線透過率）、Ｔ、：　（太陽光線透過率）、ＲＶＦ（膜
面可視光反射率）、ＲＥＦ（膜面太陽光線反射率）、Ｒ
ｖ、（ガラス面可視光反射率）、Ｒ，：、（ガラス面太
陽光線反射率）はそれぞれ、８３、０．５５．１．１０
．口、３１．６，９．９，３１．６　（％）であり、再
現性良く生産できた。

（比較例１）酸化バリア層３を成膜しない点を除き、あとは実施例１
と同様なサンプルを作製した。こうして得られた熱線遮
断ガラスの可視光線透過率ＴＶ、太陽光線透過率Ｔｔ、
コート面反射率　０Ｒｖｒ、ガラス面反射率Ｒｖｏは、それぞれ７１゜５６
、１３．１２　（％）であったが、作製ごとに透過率や
反射率の値、および色調が微妙に変化し、一定の光学性
能を有するものを得るのが容易ではなかった。

［発明の効果］酸化バリア層３を形成することにより、選択透過膜２が
一部酸化されることを防止する。この結果、一定の光学
性能を有する選択透過物品が容易に再現性良く製造でき
る。

方、このバリア層を形成しない場合はＴｉＮ。

Ａｇなどの選択透過膜２が一部酸化されＴｉＯ□やＡｇ
２Ｏ等が形成されるため透過率が上昇又は低下し、色調
も変化するのみならず、安定的に作ることが困難になる
。

酸化バリア層としてこの上に形成される酸化物膜の金属
を用いた場合は、酸化物膜形成時に酸化バリア層の殆ど
全てが酸化されることで光学的には、酸化バリア層と酸
化物膜の区別がつかず、実質的には酸化物膜−層と同じ
ことになる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明に係る熱線遮断ガラスの一例
の断面図である。１：透明基板　５２：熱線遮断膜３：酸化バリア膜４：酸化物膜５：誘電体膜　６

Claims

【特許請求の範囲】

（１）透明基板上に選択透過膜を形成し、次に酸化物膜
を形成する際、該選択透過膜が酸化されるのを防ぐため
の酸化バリア膜を該選択透過膜上に形成し、次いで酸化
物膜を形成することを特徴とする選択透過物品の製造方
法。
（２）酸化バリア膜が、その上に形成される酸化膜に含
まれる金属と同じ金属を含む膜であることを特徴とする
請求項１記載の選択透過物品の製造方法。
（３）酸化物膜が、硼素と珪素のうち少なくとも１種と
ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、錫、チタン、インジウムのうち少なくとも１種とを
含む酸化物を主成分とすることを特徴とする請求項１又
は２記載の選択透過物品の製造方法。
（４）酸化バリア膜が硼素と珪素のうち少なくとも１種
とジルコニウム、ハフニウム、タンタル、錫、チタン、
インジウムのうち少なくとも１種とを主成分とすること
を特徴とする請求項１〜３いずれか一項記載の選択透過
物品の製造方法。
（５）酸化バリア膜が５〜３０Åであることを特徴とす
る請求項１〜４いずれか一項記載の選択透過物品の製造
方法。
（６）透明基板上に基板側から選択透過膜、酸化膜と順
次積層された少なくとも２層よりなる選択透過物品であ
って、選択透過膜と酸化物膜の間に、該選択透過膜の酸
化を防ぐ薄いバリア層が形成されていることを特徴とす
る選択透過物品。
（７）透明基板上に基板側から誘電体膜、次いで選択透
過膜、酸化物膜と順次積層された選択透過物品であって
、選択透過膜と酸化物膜との間に、該選択透過膜の酸化
を防ぐ薄いバリア層が形成されていることを特徴とする
選択透過物品。
（８）酸化バリア膜が、この上に形成される酸化膜と同
じ金属元素を含み、これの一部または全部が酸化された
ものよりなることを特徴とする請求項６又は７記載の選
択透過物品。
（９）酸化物膜が硼素又は珪素のうち少なくとも一種と
ジルコニウム、チタン、タンタル、ハフニウム、錫、イ
ンジウムのうち少なくとも一種とを含む酸化物からなる
ことを特徴とする請求項６〜８いずれか一項記載の選択
透過物品。
（１０）選択透過膜が、金、銀、白金、チタン、クロム
、ジルコニウム、タンタル、窒化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウム、窒化タンタルの群
から選ばれた１種又は２種以上を主成分とすることを特
徴とする請求項６〜９いずれか一項記載の選択透過物品
。