JPS6141950A - 螢光ｘ線測定装置 - Google Patents
螢光ｘ線測定装置Info
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- JPS6141950A JPS6141950A JP16468384A JP16468384A JPS6141950A JP S6141950 A JPS6141950 A JP S6141950A JP 16468384 A JP16468384 A JP 16468384A JP 16468384 A JP16468384 A JP 16468384A JP S6141950 A JPS6141950 A JP S6141950A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorescent
- gmb
- port
- rays
- gmb20
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、螢光Ｘ線測定装置に関する。
レーザ核融合に用いられる燃料の充填は例えばｉ１１径
１００〜５００μｍのガラスマイクロパル−ン（以下、
ＧＭＢという）の壁を通して三重水素（以下、８Ｈとい
う）の拡散を利用して行なわれる。
１００〜５００μｍのガラスマイクロパル−ン（以下、
ＧＭＢという）の壁を通して三重水素（以下、８Ｈとい
う）の拡散を利用して行なわれる。
燃料のＧＭＢ内への充ａｔはＧＭＢの壁厚、直径、材質
の影響を受けるだけでなく、充ＪＪｔＦｉ中に置かれて
いた位置などＫも影響される。また、充填後の漏洩も取
扱いの状況や個々のＧＭＨの壁に存在するミクロな欠陥
等によって異なってくる。どのため、充填された燃料の
量を非破壊で測定する必要がある。
の影響を受けるだけでなく、充ＪＪｔＦｉ中に置かれて
いた位置などＫも影響される。また、充填後の漏洩も取
扱いの状況や個々のＧＭＨの壁に存在するミクロな欠陥
等によって異なってくる。どのため、充填された燃料の
量を非破壊で測定する必要がある。
而して、ＧＭＢ内に充填された８Ｈのβ崩壊時に放出さ
れるβ線がＧＭＢの壁に衝突すると、この壁の構成材（
含まれるケイ素（Ｓｉ）、 カルシウム（ＣＩ）が励
起されて螢光Ｘ線が発生するが、このときの螢光Ｘ線の
発生量は８Ｈの充填量（比例することが理論的に解明さ
れている。従って、螢光Ｘ＃Ｊ量を測定することＫよっ
て８Ｈを定量することができる。
れるβ線がＧＭＢの壁に衝突すると、この壁の構成材（
含まれるケイ素（Ｓｉ）、 カルシウム（ＣＩ）が励
起されて螢光Ｘ線が発生するが、このときの螢光Ｘ線の
発生量は８Ｈの充填量（比例することが理論的に解明さ
れている。従って、螢光Ｘ＃Ｊ量を測定することＫよっ
て８Ｈを定量することができる。
この場合、Ｈの定量を正確に行うためには、Ｘ線検出器
の検出素子と試料であるＧＭＢとの離間距離が重要なパ
ラメータであるところから、その誤差を極力抑える必要
がある。
の検出素子と試料であるＧＭＢとの離間距離が重要なパ
ラメータであるところから、その誤差を極力抑える必要
がある。
従って、本発明の目的はＸ線検出器の検出素子と試料と
の離間距離を常に一定とし得る螢光Ｘ１８測定装置を提
供することにある。
の離間距離を常に一定とし得る螢光Ｘ１８測定装置を提
供することにある。
以下、図示の実施例に基づいて本発明に係る螢光Ｘ線測
定装置を説明する。
定装置を説明する。
（１）は螢光Ｘ線を検出するＸ線検出器の検出素子で、
保持部材＋２１ Ｋより保持されている。（３）は前記
検出素子（１）を収納した例えばステンレスよυ成り、
図中のＵ−Ｖ方向に長さが調整可能なプローブ先端部で
、内部は高真空に保持されている。そして、前記検出素
子（１）と対向する部分にはベリリウム等の薄い（数〜
数１０μｍ）金属箔より成る透過窓（４）が形成されて
いる。
保持部材＋２１ Ｋより保持されている。（３）は前記
検出素子（１）を収納した例えばステンレスよυ成り、
図中のＵ−Ｖ方向に長さが調整可能なプローブ先端部で
、内部は高真空に保持されている。そして、前記検出素
子（１）と対向する部分にはベリリウム等の薄い（数〜
数１０μｍ）金属箔より成る透過窓（４）が形成されて
いる。
（５）はプローブ（３）の先端部（８ａ）との間に中空
空間（６）を形成する如く、前記先端部（８ａ）に設け
られたコリメーターで、例えば鉛、鉄又はセラミック等
よυ成る。このコリメーター（５）の下部（前記透過窓
（４）と対向する位置）Ｋは真空チャックポート（７）
を有する突出部（５ａ）が設けられている。真空チャッ
クポート（７）は、細い貫通孔（７ａ）よシ成シ、この
貫通孔（７ａ）の最外側の内径は試料であるＧＭＢ１２
Ｇの最小外径よシ若干小さくしである。
空間（６）を形成する如く、前記先端部（８ａ）に設け
られたコリメーターで、例えば鉛、鉄又はセラミック等
よυ成る。このコリメーター（５）の下部（前記透過窓
（４）と対向する位置）Ｋは真空チャックポート（７）
を有する突出部（５ａ）が設けられている。真空チャッ
クポート（７）は、細い貫通孔（７ａ）よシ成シ、この
貫通孔（７ａ）の最外側の内径は試料であるＧＭＢ１２
Ｇの最小外径よシ若干小さくしである。
（８）は上述したコリメーター（５）内の中空空間（６
）及び貫通孔（７ａ）を真空にひく念めの排気管で、真
空ｌンデ（図示しない）に接続されている。（９）は前
記先端部（８ａ）とコリメーター（５）との間に介装さ
れる０リングである。
）及び貫通孔（７ａ）を真空にひく念めの排気管で、真
空ｌンデ（図示しない）に接続されている。（９）は前
記先端部（８ａ）とコリメーター（５）との間に介装さ
れる０リングである。
σＧはＧＭＢ■を測定ペースに合わせて搬送する搬送装
置で、図示するものではＧＭＢ■を載置して右から左へ
直線的に歩進するようにしているが、円運動をするよう
にしてあってもよい。
置で、図示するものではＧＭＢ■を載置して右から左へ
直線的に歩進するようにしているが、円運動をするよう
にしてあってもよい。
次に上述のように溝成した螢光Ｘ線測定装置の動作につ
いて説明する。
いて説明する。
図は真空チャック、ｉ＋’−ト（７１によって、ＧＭＢ
■の１つが吸引され固定されている状態を示している。
■の１つが吸引され固定されている状態を示している。
即ち、搬送装置ＱＧの歩進により真空チャックポート（
７）の略真下位置に運ばれたＧＭＢ■は、図外の真空ポ
ンプが運転され、貫通孔（７ａ）付近の空気が中空空間
（６）を介してコリメーター（５）外へ排気されると、
そのときの強い吸引力によって真空チャックポート［７
１Ｋ吸着固定される。
７）の略真下位置に運ばれたＧＭＢ■は、図外の真空ポ
ンプが運転され、貫通孔（７ａ）付近の空気が中空空間
（６）を介してコリメーター（５）外へ排気されると、
そのときの強い吸引力によって真空チャックポート［７
１Ｋ吸着固定される。
そして、このＧ Ｍ Ｉｓ■からは螢光ＸＡＩ！（ｘ）
が発せられ、該螢光Ｘ線（ｘ）は貫通孔（７ａ） 、中
空空間（６）、透過窓（４）、透過窓（４）と検出素子
（１）との間の空間を経て、検出素子（１）に至り、所
定の計数が行なわれる。
が発せられ、該螢光Ｘ線（ｘ）は貫通孔（７ａ） 、中
空空間（６）、透過窓（４）、透過窓（４）と検出素子
（１）との間の空間を経て、検出素子（１）に至り、所
定の計数が行なわれる。
この場合、真空チャックポート（７）と透過窓（４）と
の離間距離は一定であるから、試料であるＧＭＢ■の直
径（大きさ）が一定であれば、検出素子（１）と透過窓
（４）との離間距離を一定に保持しておくことにより、
真空チャックポート（７）に真空チャックされ九Ｇ Ｍ
Ｂ ｃ！Ｇと検出素子ｉｌｌとの離間距離は一定にな
る。又、ＧＭＢ＠の直径にある程度のバフツキがある場
合でも、貫通孔（７ａ）がＧＭＢ■の直径に比べ充分小
さいならば検出素子ｉｌｌとＧＭＢ■との離間距離のバ
フツキは無視しうる量であり、たとえばＲ４Ｊ１！孔を
一５０μ〃１とすればＧＭＢ■が一１００μｍと一２０
０μｍ である場合その離間距離の差は８．５μ７／Ｊ
である。
の離間距離は一定であるから、試料であるＧＭＢ■の直
径（大きさ）が一定であれば、検出素子（１）と透過窓
（４）との離間距離を一定に保持しておくことにより、
真空チャックポート（７）に真空チャックされ九Ｇ Ｍ
Ｂ ｃ！Ｇと検出素子ｉｌｌとの離間距離は一定にな
る。又、ＧＭＢ＠の直径にある程度のバフツキがある場
合でも、貫通孔（７ａ）がＧＭＢ■の直径に比べ充分小
さいならば検出素子ｉｌｌとＧＭＢ■との離間距離のバ
フツキは無視しうる量であり、たとえばＲ４Ｊ１！孔を
一５０μ〃１とすればＧＭＢ■が一１００μｍと一２０
０μｍ である場合その離間距離の差は８．５μ７／Ｊ
である。
尚、Ｇ Ｍ Ｂ■の直径を予め別方法で測定し、その測
定値に基づいて螢光Ｘ線ｆｔを数学的に補正することが
でき、検出素子（１）と透過窓（４）との離間距離を６
１整することによりＧ Ｍ Ｂのと検出素子（１）との
離間距離を一定にすることもできる。従って、上記いず
れの場合もＧＭＢ■内に充填された８Ｈを正確に定量す
ることができる。
定値に基づいて螢光Ｘ線ｆｔを数学的に補正することが
でき、検出素子（１）と透過窓（４）との離間距離を６
１整することによりＧ Ｍ Ｂのと検出素子（１）との
離間距離を一定にすることもできる。従って、上記いず
れの場合もＧＭＢ■内に充填された８Ｈを正確に定量す
ることができる。
そして、螢光Ｘ線（ｘ）が進むＸ線経路（ｐ） （Ｎ通
孔（７ａ） 、中間空間（６）、プローブ（３）内にお
ける透過窓（４）と検出素子（１）との間）は高真空で
あるから、大気中のＡｒ等の影響をっけないので螢光ｘ
ｌｓの測定をより精度高く行うことができる。
孔（７ａ） 、中間空間（６）、プローブ（３）内にお
ける透過窓（４）と検出素子（１）との間）は高真空で
あるから、大気中のＡｒ等の影響をっけないので螢光ｘ
ｌｓの測定をより精度高く行うことができる。
なお、１つのＧＭＢ（２Ｇについて螢光Ｘ線の測定が完
了すると、真空ポンプの運転を停止したり、又は排気管
（８）に設けた調整弁（図示しない）をゆるめる等して
、真空チャックポート（７）の吸引力を弱め、測定済み
のＧＭＢ■を真空チャックから屏放して、搬送装ｇｔ（
１１に戻した後、該搬送装置００を歩進して次の測定に
備える。
了すると、真空ポンプの運転を停止したり、又は排気管
（８）に設けた調整弁（図示しない）をゆるめる等して
、真空チャックポート（７）の吸引力を弱め、測定済み
のＧＭＢ■を真空チャックから屏放して、搬送装ｇｔ（
１１に戻した後、該搬送装置００を歩進して次の測定に
備える。
本発明は上述したように、Ｘ線検出器の検出素子を内部
に収納したプローグ端部に、試料を固定し得る真空チャ
ックポートを有するコリメータを設けたので、大きさの
一定な試料は勿論のこと、大きさにバフツキがある試料
でも、常に検出素子との離間距離を一定になる如く保持
できるので、正確な測定を行うことができる。そして、
試料から発せられる螢光Ｘ線の経路は高真空に保持され
ているから、大気の影響を受けることがなくより精度の
高い測定を行うことができる。更に、試料は真空チャッ
クポートに真空チャックされるので、試料を測定位置に
搬送する搬送装置の機械的精度はそれほど要求されるこ
とがなく、この種装置を簡略化しうるという利点もある
。
に収納したプローグ端部に、試料を固定し得る真空チャ
ックポートを有するコリメータを設けたので、大きさの
一定な試料は勿論のこと、大きさにバフツキがある試料
でも、常に検出素子との離間距離を一定になる如く保持
できるので、正確な測定を行うことができる。そして、
試料から発せられる螢光Ｘ線の経路は高真空に保持され
ているから、大気の影響を受けることがなくより精度の
高い測定を行うことができる。更に、試料は真空チャッ
クポートに真空チャックされるので、試料を測定位置に
搬送する搬送装置の機械的精度はそれほど要求されるこ
とがなく、この種装置を簡略化しうるという利点もある
。
図は本発明の一実施例を示す縦断面図である。
（１）・・・検出素子、（８ａ）・・・プローブ先端部
、（５）・・・コリメーター、（７）・・・真空チャッ
クポート。 ＝２８１
、（５）・・・コリメーター、（７）・・・真空チャッ
クポート。 ＝２８１
Claims (1)
- Ｘ線検出器の検出素子を内部に収納したプローブの先端
部に、試料を固定し得る真空チャックポートを有するコ
リメーターを設けたことを特徴とする螢光Ｘ線測定装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16468384A JPS6141950A (ja) | 1984-08-04 | 1984-08-04 | 螢光ｘ線測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16468384A JPS6141950A (ja) | 1984-08-04 | 1984-08-04 | 螢光ｘ線測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141950A true JPS6141950A (ja) | 1986-02-28 |
Family
ID=15797867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16468384A Pending JPS6141950A (ja) | 1984-08-04 | 1984-08-04 | 螢光ｘ線測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6141950A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020176900A (ja) * | 2019-04-17 | 2020-10-29 | Ｔｏｙｏ Ｔｉｒｅ株式会社 | 高分子材料の硫黄架橋密度評価方法 |
-
1984
- 1984-08-04 JP JP16468384A patent/JPS6141950A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020176900A (ja) * | 2019-04-17 | 2020-10-29 | Ｔｏｙｏ Ｔｉｒｅ株式会社 | 高分子材料の硫黄架橋密度評価方法 |
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