JPS6140902B2 - - Google Patents
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- JPS6140902B2 JPS6140902B2 JP55188989A JP18898980A JPS6140902B2 JP S6140902 B2 JPS6140902 B2 JP S6140902B2 JP 55188989 A JP55188989 A JP 55188989A JP 18898980 A JP18898980 A JP 18898980A JP S6140902 B2 JPS6140902 B2 JP S6140902B2
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- refrigerant
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- refrigerant liquid
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Links
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 41
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 17
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 11
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 11
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A30/00—Adapting or protecting infrastructure or their operation
- Y02A30/27—Relating to heating, ventilation or air conditioning [HVAC] technologies
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B30/00—Energy efficient heating, ventilation or air conditioning [HVAC]
- Y02B30/62—Absorption based systems
Landscapes
- Sorption Type Refrigeration Machines (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は吸収冷媒液装置に関するものである。
吸収冷凍装置としては従来、冷媒として水
(H2O)吸収剤としてLiBr水溶液を用いる組合せ
は一般的であるが、結晶の点から運転範囲があま
り広くない。この系にエチレングリコール(以下
E.G.と称す)を加えると、運転範囲が広がるこ
とが知られている。この場合、冷媒としては
H2O、吸収剤としては(LiBr+B.G.)水溶液とな
る。本発明は他の系に対しても有効であるが説明
では、H2O−LiBr−E.G.の三成分系を用いてい
く。
(H2O)吸収剤としてLiBr水溶液を用いる組合せ
は一般的であるが、結晶の点から運転範囲があま
り広くない。この系にエチレングリコール(以下
E.G.と称す)を加えると、運転範囲が広がるこ
とが知られている。この場合、冷媒としては
H2O、吸収剤としては(LiBr+B.G.)水溶液とな
る。本発明は他の系に対しても有効であるが説明
では、H2O−LiBr−E.G.の三成分系を用いてい
く。
(LiBr+E.G)水溶液を発生器にて沸騰させる
と、発生冷媒蒸器(水蒸気)中に、B.G.蒸気が
少量含まれてくる。発生冷媒は凝縮器にて凝縮
し、蒸発器に入る。蒸発器にても蒸発する冷媒中
にはE.G.蒸気を含むものであるが、第1図に示
す如く気一液平衡関係から蒸気中のE.G.よりも
液中のE.G.が多量である。
と、発生冷媒蒸器(水蒸気)中に、B.G.蒸気が
少量含まれてくる。発生冷媒は凝縮器にて凝縮
し、蒸発器に入る。蒸発器にても蒸発する冷媒中
にはE.G.蒸気を含むものであるが、第1図に示
す如く気一液平衡関係から蒸気中のE.G.よりも
液中のE.G.が多量である。
たとえば、定常運転時、発生器での発生冷媒中
に0.4wt%のE.G.が含まれ、これが蒸発器に流入
しているとすれば、蒸発器での蒸発冷媒中にも
0.4wt%のE.G.が含まれてバランスする。この時
蒸発器冷媒液は、0.4wt%蒸発と平衡する状態で
あり、約35wt%のE.G.水溶液となる。
に0.4wt%のE.G.が含まれ、これが蒸発器に流入
しているとすれば、蒸発器での蒸発冷媒中にも
0.4wt%のE.G.が含まれてバランスする。この時
蒸発器冷媒液は、0.4wt%蒸発と平衡する状態で
あり、約35wt%のE.G.水溶液となる。
冷媒液中に吸収剤が含まれると、沸点上昇が生
じ冷媒温度が純粋冷媒よりも上昇し、冷却能力が
落ちることになる。
じ冷媒温度が純粋冷媒よりも上昇し、冷却能力が
落ちることになる。
たとえば、35wt%E.G.の沸点上昇は約2.2degC
度であり、純粋冷媒の場合に4℃で蒸発するとす
れば、35wt%E.G.は6.2℃で蒸発することにな
る。
度であり、純粋冷媒の場合に4℃で蒸発するとす
れば、35wt%E.G.は6.2℃で蒸発することにな
る。
このように、蒸発器内の冷媒のE.G.(吸収
剤)濃度が増すと、沸点上昇が生じ、冷凍能力が
低下するので、これを防ぐため、蒸発器内の吸収
剤の混入した冷媒液の一部を液状のまま吸収液サ
イクル側に戻していた。しかしながらこの方法で
は冷媒は液状のまま戻されるので、戻された冷媒
液は全く冷凍効果を発揮せず損失となるものであ
つた。
剤)濃度が増すと、沸点上昇が生じ、冷凍能力が
低下するので、これを防ぐため、蒸発器内の吸収
剤の混入した冷媒液の一部を液状のまま吸収液サ
イクル側に戻していた。しかしながらこの方法で
は冷媒は液状のまま戻されるので、戻された冷媒
液は全く冷凍効果を発揮せず損失となるものであ
つた。
本発明は、蒸発器冷媒液(蒸発器内の冷媒液お
よびこれに連通している冷媒液)を加熱して蒸発
せしめて冷媒と吸収剤とを蒸発せしめて吸収剤の
一成分の濃い部分をつくり蒸気の形で溶液サイク
ル側にもどすことにより、従来のものの上記の欠
点を除き、冷媒液の濃度を調節し、しかも冷凍能
力の向上をはかることができる吸収冷凍装置を提
供することを目的とするものである。
よびこれに連通している冷媒液)を加熱して蒸発
せしめて冷媒と吸収剤とを蒸発せしめて吸収剤の
一成分の濃い部分をつくり蒸気の形で溶液サイク
ル側にもどすことにより、従来のものの上記の欠
点を除き、冷媒液の濃度を調節し、しかも冷凍能
力の向上をはかることができる吸収冷凍装置を提
供することを目的とするものである。
本発明を実施例につき図面を用いて説明すれ
ば、第2図において、1は吸収器、2は蒸発器、
3は発生器、4は凝縮器、5は溶液ポンプ、6は
冷媒ポンプ、7は溶液熱交換器である。8は冷媒
加熱器であり、冷媒経路9により蒸発器2内の冷
媒液と連通している。10は加熱コイルであり、
加熱源として凝縮器4から蒸発器2に向かう冷媒
液が導かれている。11は冷媒加熱器で発生した
蒸気を導く冷媒経路、12は別の冷媒経路であ
る。
ば、第2図において、1は吸収器、2は蒸発器、
3は発生器、4は凝縮器、5は溶液ポンプ、6は
冷媒ポンプ、7は溶液熱交換器である。8は冷媒
加熱器であり、冷媒経路9により蒸発器2内の冷
媒液と連通している。10は加熱コイルであり、
加熱源として凝縮器4から蒸発器2に向かう冷媒
液が導かれている。11は冷媒加熱器で発生した
蒸気を導く冷媒経路、12は別の冷媒経路であ
る。
冷媒加熱器8に、蒸発器冷媒の一部を導き、沸
騰上昇させると冷媒加熱器8内のE.G.濃度は濃
い状態となり、このまま加熱すると、蒸発蒸気中
のE.G.濃度を高くなる。発生器3で発生し蒸発
器2に流入したE.G.を主にこの冷媒加熱器8に
て蒸発させるようにすると、蒸発器2内冷媒液は
かなり稀いE.G.濃度となる。加熱源としては、
冷媒、溶液、冷水等各種考えられるが、これらの
うち、凝縮器4から蒸発器2にいく冷媒を用いる
のが容易である。入口側冷水は出口側よりも温度
が高いので、入口側冷水を用いても効果的であ
る。他の熱源たとえば冷却水を用いると損失を伴
う。
騰上昇させると冷媒加熱器8内のE.G.濃度は濃
い状態となり、このまま加熱すると、蒸発蒸気中
のE.G.濃度を高くなる。発生器3で発生し蒸発
器2に流入したE.G.を主にこの冷媒加熱器8に
て蒸発させるようにすると、蒸発器2内冷媒液は
かなり稀いE.G.濃度となる。加熱源としては、
冷媒、溶液、冷水等各種考えられるが、これらの
うち、凝縮器4から蒸発器2にいく冷媒を用いる
のが容易である。入口側冷水は出口側よりも温度
が高いので、入口側冷水を用いても効果的であ
る。他の熱源たとえば冷却水を用いると損失を伴
う。
凝縮器4から蒸発器2に向う冷媒を加熱源とし
て用いた場合を第2図につき説明する。
て用いた場合を第2図につき説明する。
凝縮器4から約40℃の冷媒が入り、これを約15
℃迄利用したとすると、この時、冷媒循環量のう
ち約5%が冷媒加熱器8で蒸発することになる。
発生器3で発生する冷媒蒸気中のE.G.濃度を
0.4wt%とし、定常状態を考えると、冷媒加熱器
8で蒸発する冷媒蒸気中に約8wt%のE.G.蒸器
(0.4wt%/0.05≒8wt%)が含まれ、冷媒加熱器
8内液は、8wt%蒸気と平衡する78wt%液とな
り、沸点上昇6.7degCで液温は約10.7℃となる。
冷媒加熱器8に導かれる蒸発器2からの冷媒液は
8wt%で全体のバランスがとれる。即ち蒸発器2
内冷媒液は8wt%E.G.水溶液となる。(8wt%液と
平衡する蒸気のEG濃度は≒0)8wt%E.G.水溶
液は約0.6degCの沸点上昇であり、冷媒液温は約
4.6℃となる。
℃迄利用したとすると、この時、冷媒循環量のう
ち約5%が冷媒加熱器8で蒸発することになる。
発生器3で発生する冷媒蒸気中のE.G.濃度を
0.4wt%とし、定常状態を考えると、冷媒加熱器
8で蒸発する冷媒蒸気中に約8wt%のE.G.蒸器
(0.4wt%/0.05≒8wt%)が含まれ、冷媒加熱器
8内液は、8wt%蒸気と平衡する78wt%液とな
り、沸点上昇6.7degCで液温は約10.7℃となる。
冷媒加熱器8に導かれる蒸発器2からの冷媒液は
8wt%で全体のバランスがとれる。即ち蒸発器2
内冷媒液は8wt%E.G.水溶液となる。(8wt%液と
平衡する蒸気のEG濃度は≒0)8wt%E.G.水溶
液は約0.6degCの沸点上昇であり、冷媒液温は約
4.6℃となる。
凝縮器4からの冷媒液を散布液中に混入(ポン
プ前後どちらでもよい)したとすれば、チユーブ
にかかる冷媒の濃度が低下し、さらに沸点上昇を
小さくすることができる。散布量を蒸発量の約3
倍としている場合には、散布液は約5.3%に減
少、沸点上昇は0.4degC程度となる。
プ前後どちらでもよい)したとすれば、チユーブ
にかかる冷媒の濃度が低下し、さらに沸点上昇を
小さくすることができる。散布量を蒸発量の約3
倍としている場合には、散布液は約5.3%に減
少、沸点上昇は0.4degC程度となる。
冷媒加熱器8へ蒸発器冷媒液を導く方法として
は、冷媒ポンプ6を利用することも考えられる
が、単に蒸発器2の冷媒槽との間に連通をとるの
が簡単である。
は、冷媒ポンプ6を利用することも考えられる
が、単に蒸発器2の冷媒槽との間に連通をとるの
が簡単である。
冷媒加熱器8からの蒸気は、吸収器1に直ちに
導くのがよいが構造を簡単にするため蒸発器2を
経由してもよい。なお冷媒加熱器8を第3図に示
す如く蒸発器2内に設けてもよい。
導くのがよいが構造を簡単にするため蒸発器2を
経由してもよい。なお冷媒加熱器8を第3図に示
す如く蒸発器2内に設けてもよい。
蒸発器2内の冷媒液の濃度制御により冷凍容量
の制御を行なうことができる。
の制御を行なうことができる。
冷媒加熱器8の動作を運転状態に応じて変化さ
せてもよい。
せてもよい。
一般に冷却水温が低下すると吸収サイクル濃度
が稀くなり、蒸発器内冷媒液が不足しがちであ
る。この時、蒸発器2に吸収剤が存在すると、吸
収サイクルが稀くなりすぎるのを防ぐことができ
る。
が稀くなり、蒸発器内冷媒液が不足しがちであ
る。この時、蒸発器2に吸収剤が存在すると、吸
収サイクルが稀くなりすぎるのを防ぐことができ
る。
冷媒加熱器8により、蒸発器冷媒の吸収剤濃度
を調整し、運転範囲を広げることができる。
を調整し、運転範囲を広げることができる。
加熱動作、非加熱動作に関しては、加熱側又は
被加熱側の少なくとも一方を制限すれば加熱量の
調整ができる。全く供給しなければ非加熱状態と
なる。
被加熱側の少なくとも一方を制限すれば加熱量の
調整ができる。全く供給しなければ非加熱状態と
なる。
制御方法としては、例えば、
冷却水温低下→加熱量制限
吸収剤濃度低下→加熱量制限
蒸発器液面上昇→加熱
〃 低下→加熱量制限
などが行なわれる。
冷媒加熱器8に蒸発器2内の冷媒を導くには、
蒸発器冷却槽をオーバーフローしたものを導いて
もよい。
蒸発器冷却槽をオーバーフローしたものを導いて
もよい。
蒸発器冷媒槽の高さと冷媒加熱器8との高さを
適当に選び、冷媒槽内液面の変動により冷媒加熱
器8の有効伝熱面積が変動するようにしてもよ
い。液面が高い時接触面積が大きくなり伝熱量が
多い。
適当に選び、冷媒槽内液面の変動により冷媒加熱
器8の有効伝熱面積が変動するようにしてもよ
い。液面が高い時接触面積が大きくなり伝熱量が
多い。
冷媒中にE.G.が存在すると凍結温度が低下す
る。E.G.濃度により、凍結温度が変化するの
で、これを制御することにより、凍結を防止する
ことができる。冷媒中のE.G.濃度が稀くなり過
ぎると、加熱量を減じ、E.G.濃度を濃くする。
る。E.G.濃度により、凍結温度が変化するの
で、これを制御することにより、凍結を防止する
ことができる。冷媒中のE.G.濃度が稀くなり過
ぎると、加熱量を減じ、E.G.濃度を濃くする。
冷凍装置の停止期間中の凍結防止にも利用でき
る。
る。
本発明は、蒸発器中の冷媒に溶け込んでいる吸
収剤の一成分として働く媒体を濃縮し、媒体の濃
い蒸気として吸収器に供給することにより、蒸発
器内の冷媒液の濃度を容易に調節し、かつ冷凍能
力の向上をはかることができる吸収冷凍装置を提
供することができ、実用上極めて大なる効果を有
するものである。
収剤の一成分として働く媒体を濃縮し、媒体の濃
い蒸気として吸収器に供給することにより、蒸発
器内の冷媒液の濃度を容易に調節し、かつ冷凍能
力の向上をはかることができる吸収冷凍装置を提
供することができ、実用上極めて大なる効果を有
するものである。
第1図はE.G.水溶液の気液平衡図、第2図及
び第3図は本発明の実施例のフロー図である。 1……吸収器、2……蒸発器、3……発生器、
4……凝縮器、5……溶液ポンプ、6……冷媒ポ
ンプ、7……溶液熱交換器、8……冷媒加熱器、
9……冷媒経路、10……加熱コイル、11,1
2……冷媒経路。
び第3図は本発明の実施例のフロー図である。 1……吸収器、2……蒸発器、3……発生器、
4……凝縮器、5……溶液ポンプ、6……冷媒ポ
ンプ、7……溶液熱交換器、8……冷媒加熱器、
9……冷媒経路、10……加熱コイル、11,1
2……冷媒経路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 吸収器、蒸発器、発生器、凝縮器及びそれら
の機器を接続する動作流体経路を備え、前記蒸発
器内の冷媒液中に少なくとも吸収剤の一成分とし
て働く媒体を含む二成分が存在がする吸収冷凍装
置において、 蒸発器冷媒液を加熱して蒸発せしめ、前記蒸発
器内の冷媒液の濃度を調整し、前記媒体の濃度の
高い冷媒蒸気として吸収器に供給することを特徴
とする吸収冷凍装置。 2 前記蒸発器冷媒液の加熱源として、凝縮器か
ら蒸発器に向う冷媒を用いた特許請求の範囲第1
項記載の装置。 3 前記動作流体が、LiBr−エチレングリコー
ル−H2Oを主とするものである特許請求の範囲第
1項記載の装置。 4 前記動作流体が、LiBr−CH3OH−H2Oを主
とするものである特許請求の範囲第1項記載の装
置。 5 前記蒸発器冷媒液の加熱が、前記蒸発器と別
個に設けられ、かつ該蒸発器と冷媒経路にて連通
している加熱室にて行われる特許請求の範囲第1
項又は第2項記載の装置。 6 前記蒸発冷媒液の加熱が、前記蒸発器内の一
部を仕切つた加熱室にて行われる特許請求の範囲
第1項又は第2項記載の装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55188989A JPS57115652A (en) | 1980-12-31 | 1980-12-31 | Absorption refrigerating plant |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55188989A JPS57115652A (en) | 1980-12-31 | 1980-12-31 | Absorption refrigerating plant |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57115652A JPS57115652A (en) | 1982-07-19 |
JPS6140902B2 true JPS6140902B2 (ja) | 1986-09-11 |
Family
ID=16233432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55188989A Granted JPS57115652A (en) | 1980-12-31 | 1980-12-31 | Absorption refrigerating plant |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57115652A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5186009A (en) * | 1987-04-14 | 1993-02-16 | Gas Research Institute | Aqueous absorption fluids |
-
1980
- 1980-12-31 JP JP55188989A patent/JPS57115652A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57115652A (en) | 1982-07-19 |
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