JPS6139540A - ウエハ処理装置の温度測定機構 - Google Patents
ウエハ処理装置の温度測定機構Info
- Publication number
- JPS6139540A JPS6139540A JP15906184A JP15906184A JPS6139540A JP S6139540 A JPS6139540 A JP S6139540A JP 15906184 A JP15906184 A JP 15906184A JP 15906184 A JP15906184 A JP 15906184A JP S6139540 A JPS6139540 A JP S6139540A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- temperature
- coil
- planetary gear
- processing circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、例えばCVD薄膜形成装置のように被加工物
であるウェハを載置したウェハ保持台を絶えず動かして
いるウェハ処理装置において、絶えず動いているウェハ
の温度を正確にかつ即時的に測定し得るように創作した
温度測定機構に関するものである。
であるウェハを載置したウェハ保持台を絶えず動かして
いるウェハ処理装置において、絶えず動いているウェハ
の温度を正確にかつ即時的に測定し得るように創作した
温度測定機構に関するものである。
例えばCVD薄膜形成装置などのウェハ処理装置におい
ては、該ウェハに対する成膜などの処理を均一に進行さ
せるため、ウェハを載置したウェハ保持台をプラネタリ
歯車によって自転、公転させる。第1図は上述の自、公
転駆動機構を示す説明図である。ウェハ1を搭載したウ
ェハ保持台2は自転軸3によって回転自在に支承されて
いる。
ては、該ウェハに対する成膜などの処理を均一に進行さ
せるため、ウェハを載置したウェハ保持台をプラネタリ
歯車によって自転、公転させる。第1図は上述の自、公
転駆動機構を示す説明図である。ウェハ1を搭載したウ
ェハ保持台2は自転軸3によって回転自在に支承されて
いる。
Aはその回転中心軸である。
上記の自転軸3は、公転軸4に固着されたアーム5の先
端にベアリング6を介して支承されており、上記の公転
軸4の回りに回転駆動される。Bはその回転中心軸であ
る。
端にベアリング6を介して支承されており、上記の公転
軸4の回りに回転駆動される。Bはその回転中心軸であ
る。
上記の公転の中心軸Bと同心にサンギヤ7が当該処理装
置のベース部材に固定されており、一方前記の自転軸3
にはプラネタリギヤ8が固着されてサンギヤ7に噛合し
ている。
置のベース部材に固定されており、一方前記の自転軸3
にはプラネタリギヤ8が固着されてサンギヤ7に噛合し
ている。
これにより、アーム5が回転駆動さ九るとウェハ保持台
2は矢印Cの如く自転しつつ矢印りの如く公転する。
2は矢印Cの如く自転しつつ矢印りの如く公転する。
上記のように自、公転しつつ処理されるウェハ1を加熱
するため、ウェハ保持台2の底面に対向離間せしめて静
止部材であるヒータ9が設けられている。
するため、ウェハ保持台2の底面に対向離間せしめて静
止部材であるヒータ9が設けられている。
当該ウェハ処理装置におけるウェハ温度をコントロール
するために、その温度を知ることが必要であるが、この
ウェハは前述の如く自、公転しているため、従来技術に
おいてはヒータ9の近傍に熱電対10を埋設してヒータ
温度を検出してウェハ2温度を推定していたので、その
測定精度が良くなかった。
するために、その温度を知ることが必要であるが、この
ウェハは前述の如く自、公転しているため、従来技術に
おいてはヒータ9の近傍に熱電対10を埋設してヒータ
温度を検出してウェハ2温度を推定していたので、その
測定精度が良くなかった。
自、公転しているウェハの温度を非接触的に測定する方
法として、例えば赤外放射温度計の利用などが考えられ
るが、ウェハの処理が進行するに従ってその表面の放射
率が変化することや、赤外放射測定用の窓に設けた赤外
透過ガラスに蒸着物が堆積して透過率が変化することな
どの理由により、正確な測定が困難である。
法として、例えば赤外放射温度計の利用などが考えられ
るが、ウェハの処理が進行するに従ってその表面の放射
率が変化することや、赤外放射測定用の窓に設けた赤外
透過ガラスに蒸着物が堆積して透過率が変化することな
どの理由により、正確な測定が困難である。
本発明は上述の事情に鑑みて為されたもので。
ウェハ保持台上に載置されたウェハの温度を正確に測定
し得る測定機構を提供しようとするものである。
し得る測定機構を提供しようとするものである。
上記の目的を達成するために創作した本発明装置の基本
的な原理は、 i)、ウェハ保持台と一緒に回転する熱雷対温度計を設
け、ウェハの下面に接触する位置に該熱電対の温接点を
位置せしめ、 5i)、上記熱電対温度計の冷接点補償手段を設け、誤
差を補正して正確に測温し、 ■)、ウェハ保持台と一緒に自、公転している熱電対の
出力を、非接触的に静止部分まで導き出す手段を設ける
。というものである。
的な原理は、 i)、ウェハ保持台と一緒に回転する熱雷対温度計を設
け、ウェハの下面に接触する位置に該熱電対の温接点を
位置せしめ、 5i)、上記熱電対温度計の冷接点補償手段を設け、誤
差を補正して正確に測温し、 ■)、ウェハ保持台と一緒に自、公転している熱電対の
出力を、非接触的に静止部分まで導き出す手段を設ける
。というものである。
上述の原理に基づいて前記の目的を達成するため、本発
明のウェハ処理装置の温度測定機構は、ウェハ保持台の
ウェハ載置面付近に温接点を設置すた熱電対温度計の冷
接点をプラネタリギヤの歯面近傍に設けるとともに、こ
のプラネタリギヤに噛合するサンギヤの歯面近傍に温度
検出手段を設け、かつ、ウェハ保持台に固定されて一緒
に自転、公転する回転コイルを設けてこの回転コイルに
前記熱電対温度計の電流を流して磁化させるとともに。
明のウェハ処理装置の温度測定機構は、ウェハ保持台の
ウェハ載置面付近に温接点を設置すた熱電対温度計の冷
接点をプラネタリギヤの歯面近傍に設けるとともに、こ
のプラネタリギヤに噛合するサンギヤの歯面近傍に温度
検出手段を設け、かつ、ウェハ保持台に固定されて一緒
に自転、公転する回転コイルを設けてこの回転コイルに
前記熱電対温度計の電流を流して磁化させるとともに。
ウェハ処理装置の固定部材に静止コイルを設けてこの静
止コイルと前記の回転コイルとを対向せしめ、該静止コ
イルに誘導される起電力を入力せしめる信号処理回路を
設け、前記の温度検出手段の出力信号を上記信号処理回
路に入力せしめ、この信号処理回路によって熱雷対の温
接点温度を算出するとともに冷接点温度に基づく補正を
行うように構成したことを特徴とする。
止コイルと前記の回転コイルとを対向せしめ、該静止コ
イルに誘導される起電力を入力せしめる信号処理回路を
設け、前記の温度検出手段の出力信号を上記信号処理回
路に入力せしめ、この信号処理回路によって熱雷対の温
接点温度を算出するとともに冷接点温度に基づく補正を
行うように構成したことを特徴とする。
次に1本発明の1実施例を第2図について説明する。本
実施例は第1図に示した従来のウェハ処理装置に本発明
を適用して改良したもので、第1図におけると同様の図
面参照番号にダラシを付して示したウェハ保持台2′、
自転軸3′、サンギヤ7′及びプラネタリギヤ8′はそ
れぞれ従来装置の構成部材に対応する類似の部材である
。
実施例は第1図に示した従来のウェハ処理装置に本発明
を適用して改良したもので、第1図におけると同様の図
面参照番号にダラシを付して示したウェハ保持台2′、
自転軸3′、サンギヤ7′及びプラネタリギヤ8′はそ
れぞれ従来装置の構成部材に対応する類似の部材である
。
本第2図においては図示を省略したが、第1図に示した
公転軸4,7−ム5.ベアリング6及びヒータ9は本実
施例にも設けである6第1図に示したヒータ9に埋設し
た熱電対10は、本実施例においてはほとんど必要が無
いので、設けなくても良いが、既設の熱雷対10を残し
ておいても構わない。
公転軸4,7−ム5.ベアリング6及びヒータ9は本実
施例にも設けである6第1図に示したヒータ9に埋設し
た熱電対10は、本実施例においてはほとんど必要が無
いので、設けなくても良いが、既設の熱雷対10を残し
ておいても構わない。
本実施例の自転軸3′は、これを管状としてその中に熱
電対11を挿通する。上記熱電対11の温接点11aは
、ウェハ保持台2′に設けた中心孔を通して該ウェハ保
持台2′の頂面付近に位置せしめ、ウェハ1に接し得る
ように支承する。そして、前記熱雷対IJの冷接点11
bはプラネタリギヤ8′の歯車近傍に埋設する。
電対11を挿通する。上記熱電対11の温接点11aは
、ウェハ保持台2′に設けた中心孔を通して該ウェハ保
持台2′の頂面付近に位置せしめ、ウェハ1に接し得る
ように支承する。そして、前記熱雷対IJの冷接点11
bはプラネタリギヤ8′の歯車近傍に埋設する。
12はコイルで、プラネタリギヤ8′の下面に同心状に
固着してあり、該プラネタリギヤ8′と共に回転(自、
公転)する。前記の熱電対11の発生電流を上記の回転
コイル12に流すように配線する。
固着してあり、該プラネタリギヤ8′と共に回転(自、
公転)する。前記の熱電対11の発生電流を上記の回転
コイル12に流すように配線する。
上記の回転コイル12に対向せしめて、静止部材として
の静止コイル13を設ける。14.15は双方のコイル
12.13の磁気結合係数を増加させるように設けたフ
ェライトコアである。上記の静止コイル13に発生する
誘導電圧は増幅回路16を介して信号処理回路17に入
力せしめる。
の静止コイル13を設ける。14.15は双方のコイル
12.13の磁気結合係数を増加させるように設けたフ
ェライトコアである。上記の静止コイル13に発生する
誘導電圧は増幅回路16を介して信号処理回路17に入
力せしめる。
一方、サンギヤ7′の歯車近傍にサーミスタ温度検出素
子18を設け、その信号出力を信号検出回路19を介し
て前記の信号処理回路17に入力させるとともに、該サ
ンギヤ7′に冷却水管20を設ける。
子18を設け、その信号出力を信号検出回路19を介し
て前記の信号処理回路17に入力させるとともに、該サ
ンギヤ7′に冷却水管20を設ける。
以上のように植成した温度測定機構においては熱電対1
1の温接点11aが被測定物であるウェハ1に接してい
るので、直接的に正確な測温ができる。
1の温接点11aが被測定物であるウェハ1に接してい
るので、直接的に正確な測温ができる。
即ち、ウェハ1の温度によって定まる電流が流れ(冷接
点補正に関しては後述する)、電流値に比例した磁束が
回転コイル12によって作られる。
点補正に関しては後述する)、電流値に比例した磁束が
回転コイル12によって作られる。
上記の回転コイル12は白、公転しているので、その磁
束が静止コイル13を切る。このため、静止コイル13
にはウェハ温度によって定まる電圧が誘起される。
束が静止コイル13を切る。このため、静止コイル13
にはウェハ温度によって定まる電圧が誘起される。
一方、サンギヤ7′は冷却水管20によって水冷されて
いるのでほぼ水温に保たれる。そして、このサンギヤ7
′に噛合するプラネタリギヤ8′は、該サンギヤ7′に
よって熱を奪われる。この結果、高温(500〜600
℃)に保たれているウェハ保持台2′→自転軸3′→プ
ラネタリギヤ8′→サンギヤ7′という径路に沿ってぼ
は定常的な熱流を生じる。従って、サンギヤ7′の歯面
近傍に埋設したサーミスタ温度素子18によって検出し
た温度に基づいて、プラネタリギヤ8′の歯面近傍に埋
設した冷接点11bの温度を比較的高精度で推定するこ
とができる。信号処理回路17は、サーミスタ温度検出
素子18の信号出力を温度検出回路19を介して入力さ
れ、これに基づいて熱電対11に発生した電流値に冷接
点補正を加え、ウェハ1の温度を算出して表示機構21
に表示する。これにより、当該ウェハ処理装置の管理技
術者(又は総合自動制御装置)は、容易にウェハ1の正
確な温度を直読し得る(又は入力される)。
いるのでほぼ水温に保たれる。そして、このサンギヤ7
′に噛合するプラネタリギヤ8′は、該サンギヤ7′に
よって熱を奪われる。この結果、高温(500〜600
℃)に保たれているウェハ保持台2′→自転軸3′→プ
ラネタリギヤ8′→サンギヤ7′という径路に沿ってぼ
は定常的な熱流を生じる。従って、サンギヤ7′の歯面
近傍に埋設したサーミスタ温度素子18によって検出し
た温度に基づいて、プラネタリギヤ8′の歯面近傍に埋
設した冷接点11bの温度を比較的高精度で推定するこ
とができる。信号処理回路17は、サーミスタ温度検出
素子18の信号出力を温度検出回路19を介して入力さ
れ、これに基づいて熱電対11に発生した電流値に冷接
点補正を加え、ウェハ1の温度を算出して表示機構21
に表示する。これにより、当該ウェハ処理装置の管理技
術者(又は総合自動制御装置)は、容易にウェハ1の正
確な温度を直読し得る(又は入力される)。
以上詳述したように本発明の温度測定機構は、ウェハ処
理装置内で絶えず動いているウェハの温度を正確に測定
し得るという優れた実用的効果を奏する。
理装置内で絶えず動いているウェハの温度を正確に測定
し得るという優れた実用的効果を奏する。
第1図はウェハ処理装置における従来の温度測定機構の
説明図、第2図は本発明の1実施例における温度測定機
構の説明図である。 1・・・ウェハ、2,2’・・・ウェハ保持台、3,3
′・・・自転軸、4・・・公転軸、5・・・アーム、7
.7’・・・サンギヤ、8,8′ ・・・プラネタリギ
ヤ、9・・・ヒータ、10.11・・・熱電対、Ila
・・・温接点、llb・・・冷接点、12・・・回転コ
イル、13・・・静止コイル、14.15・・・フェラ
イトコア、18・・・サーミスタ温度検出素子。
説明図、第2図は本発明の1実施例における温度測定機
構の説明図である。 1・・・ウェハ、2,2’・・・ウェハ保持台、3,3
′・・・自転軸、4・・・公転軸、5・・・アーム、7
.7’・・・サンギヤ、8,8′ ・・・プラネタリギ
ヤ、9・・・ヒータ、10.11・・・熱電対、Ila
・・・温接点、llb・・・冷接点、12・・・回転コ
イル、13・・・静止コイル、14.15・・・フェラ
イトコア、18・・・サーミスタ温度検出素子。
Claims (1)
- サンギヤに噛合して自転、公転するプラネタリギヤに
支承されて自転、公転するウェハ保持台を備えたウェハ
処理装置において、該ウェハ保持台のウェハ載置面付近
に温接点を設けた熱電対温度計の冷接点をプラネタリギ
ヤの歯面近傍に設けるとともに、このプラネタリギヤに
噛合するサンギヤの歯面近傍に温度検出手段を設け、か
つ、ウェハ保持台に固定されて一緒に自転、公転する回
転コイルを設けてこの回転コイルに前記熱電対温度計の
電流を流して磁化させるとともに、ウェハ処理装置の固
定部材に静止コイルを設けてこの静止コイルと前記の回
転コイルとを対向せしめ、該静止コイルに誘導される起
電力を入力せしめる信号処理回路を設け、前記の温度検
出手段の出力信号を上記信号処理回路に入力せしめ、こ
の信号処理回路によって熱電対の温接点温度を算出する
とともに冷接点温度に基づく補正を行うように構成した
ことを特徴とするウェハ処理装置の温度測定機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15906184A JPS6139540A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | ウエハ処理装置の温度測定機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15906184A JPS6139540A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | ウエハ処理装置の温度測定機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6139540A true JPS6139540A (ja) | 1986-02-25 |
Family
ID=15685360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15906184A Pending JPS6139540A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | ウエハ処理装置の温度測定機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6139540A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7090394B2 (en) * | 2002-10-08 | 2006-08-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Temperature gauge and ceramic susceptor in which it is utilized |
CN104062490A (zh) * | 2014-07-16 | 2014-09-24 | 北京师范大学 | 一种电流与温度测量传感器 |
US10584416B2 (en) * | 2016-02-02 | 2020-03-10 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
US10753893B2 (en) * | 2018-01-26 | 2020-08-25 | Hamilton Sunstrand Corporation | Gear set health monitoring system |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP15906184A patent/JPS6139540A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7090394B2 (en) * | 2002-10-08 | 2006-08-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Temperature gauge and ceramic susceptor in which it is utilized |
CN104062490A (zh) * | 2014-07-16 | 2014-09-24 | 北京师范大学 | 一种电流与温度测量传感器 |
US10584416B2 (en) * | 2016-02-02 | 2020-03-10 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
US10753893B2 (en) * | 2018-01-26 | 2020-08-25 | Hamilton Sunstrand Corporation | Gear set health monitoring system |
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