JPS6139517A - 照明装置 - Google Patents

照明装置

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Publication number
JPS6139517A
JPS6139517A JP16000584A JP16000584A JPS6139517A JP S6139517 A JPS6139517 A JP S6139517A JP 16000584 A JP16000584 A JP 16000584A JP 16000584 A JP16000584 A JP 16000584A JP S6139517 A JPS6139517 A JP S6139517A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
light
line
exposure
alignment
Prior art date
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Pending
Application number
JP16000584A
Other languages
English (en)
Inventor
Susumu Tawa
田和 邁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP16000584A priority Critical patent/JPS6139517A/ja
Publication of JPS6139517A publication Critical patent/JPS6139517A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は縮小投影露光装置の照明装置に関するものであ
る。
〔発明の背景〕
従来の照明装置は第4図に示す如き構成を有している。
図において、使用される光源はランプホルダ3によって
支持される超高圧水銀ランプ2でこれよシ放射された光
を集光鏡4で捕捉し、第1千面la5によって直角に曲
げパターン原画上で高照度分布を作るための7ライアイ
レンズ群11へ捕捉光束を導く。捕捉光束の肉感光材料
(以下レジストと記す)K感度を持つ400nm以下の
波長成分をシャープカットフィルタ14で取り除キ第2
平面鏡12によって直角に曲げてコンデンサレンズ#1
3で捕捉光束を縮小レンズの入射瞳に収束、結像させる
前記高圧水銀ラング2から放射された光の内集光鏡4で
捕捉される波長成分はg線(436nm)、e線(54
6nm)、d線(578nm)でウェハ上のレジストを
露光する露光々15及びウェハとパターン原画の位置合
せを行なうアライメント光16は、7ヤーグカツトフイ
ルタ14やミラー5、12で使用単波長にされる。とこ
ろが、従来は、露光用にg線、アライメント用にe線、
d線と2種の光を供給するのであるが、もともとはg線
e線d線の混合光であるため、駆動源(ロータリソレノ
イド)7によって露光々15の光軸へ出入シする採光ミ
ラー6で露光々15を7ライメント光1Gとして採光し
ていた。この採光ミラ一部の概念図が第5図、第6図に
、また、採光ミラ一部の詳細図力、第7図に示jれてい
る。好5図は露光時を第6図はアライメント時をそれぞ
れ示している。図において、採光ミラー6を固定したミ
ラーホルダ18はロータリソレノイド7か駆動して支点
ピン17全中心に口伝するように構成されている。この
ロータリンレノイド7のソレノイド軸21に固定された
回動板19は第7図に示す如くころがシ軸受23を内蔵
した転勤ローラ20をその先端につけておシ、ロータリ
ンレノイド7の回動をミラーホルダ18に伝えるように
構成されている。従来のlウェハに1回アライメントの
ウェハアライメントから、1チツプに1回アライメント
のチップアライメントに移行しつつある現在、アライメ
ントのたびに採光ミラー6の出し入れを行なうことはス
ループットの大巾な低下を招くと共に、可動部のトラブ
ルが原因で起る装置の故障等大きな問題を含んでいた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は高1g頼性で高スループツトを得ること
のできる縮小投影露光装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明は、ランプからの光を集光した光軸上に特定波長
に対する反射、透過特性が、その入射角に依存する平面
鏡を設け、常時、露光光とアライメント光とを高効率で
分離することにより信頼性を高め、高スループツトを得
ようというものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例についで説明する。
第1図には、本発明に係る照・明、装置の、−実施例が
示されている。
図において、照明、装置100はヲンプノ1、ウス10
1とランプ点灯電源125並びにメインシャッタ等のコ
ントローラ126よ−り成る。このランプ・・ウス10
1はミラー、レンズ等の光学部分と7ヤツタ、ランプホ
ルダ等の機構部分よ多構成される。このラングハウス1
01に設けられXYZに移動可能なランプホルダ103
に保持された超高圧水銀ランプ102は点灯電源125
によシ点灯される。この水銀ランプ102からはi線、
h線g線e lIA d線等種々の光が発光されるがこ
れらの光を捕捉する集光鏡104はi線よシ長波長の熱
線は透過するコールドミラーで構成されておシ、i線よ
シ短波長の光が露光々115となるように放射される。
集光鏡104の光を受ける第1平面鏡105は照明装置
100をコン7くり、トにするべく、4光々115を9
0°曲げるミラーで入射波長と入射角度により反射率透
過率の異なる波長選択ミラーで構成されている。
前記集光鏡104はダ円面鏡となっておシ、その第1焦
点は水銀ランプ102の電極部である。
第2焦点位置には7ライアイレンズ群111がおかれて
あシ、水銀ランプ102電極の実(aが7ライアイレン
ズ群111の中に結像する。7ライアイレンズ群111
から出た元はj/パクト芙装のための第、2平面鏡11
2で、dび90°曲げられ、コングンサVンズ群11・
・3により縮小レンズ(図示せず)の入射瞳上に収束結
像する。前記第1平面鏡105は第2図、第3図に示す
特性を有する波長選択ミラーである。なお、集光鏡10
4で捕捉された光束はランプの影を下方に投影させない
夷め中抜けの光束となっておシ第1平面鏡405″に対
する入射角は35°〜55°である。この範囲内で露光
用のg線とアライメント用のe線d線が第1平面鏡10
5によって効率よく分離出来れば第4図図示採光ミラー
6の出し入れによらずともアライメント光116を取り
込みミラー124、・ファイバ108を介して取υ出す
ことができる。
なお、ランプハウス101の内側はランプ102の熱で
かな)高温になっていることが予想され麹1平面鏡50
波長選択性はその雰囲気温度が常温から200CK渡り
安定していることが望まれる。
第2図エル第1平面鏡5の雰囲気温度によるg線反射率
及びe 線d線透過率の変化量(縦軸)は20〜20O
r範囲で0.5%〜362%であることが判る。
また、@3図よシ雰囲気温度が200(固定)で入射角
が30〜60°の時のg線反射率は99チ以上、e線d
線透過率は80%以上あることが判る。この第2図、第
3図の特性図よ#)20〜200Cの雰囲気温度内であ
れば入射角35〜55°の範囲で99%以上のg線反射
率と80%以上のe線d線透過率が得られることになる
。した−力も?工逮光鏡104から放射される水銀ラン
プ102の光束は第1平面鏡105によって、g線成分
が99%以上フライアイレ/ズ群111の方へ反射され
、e線d線及びそれらよシ長波長の熱線が80%以上が
透過される。この透過光はd線より長波要分を透過する
コールドミ2−である所の取シ込みミラー124によっ
てe線d線成分のみが反射されアライメント光116と
してファイバ108に取り込まれる。一方、フライアイ
レンズ群111の方へ第1千面′a105によって反射
された光はシャープカットフィルタ114で400nm
以下の波長成分がとシ除かれ、さらに成分がコールドミ
ラーである第2平面鏡112でとシ除かれ露光々115
となってパターン原画、ウエノ・に到る。また、メイン
シャッタ109はパルスモ 、−タ10で駆動されXY
ステージ上の゛ウェハ(図示せず)のステップに合せ開
閉するようにコントローラ126によって制御される。
したがって、本実施例によれば機構部分がなくなること
から小スペースでのランプハウスコンパクト設計が可能
で当然のことながら製造原価もやすくなるが装置の信頼
性は向上することから、高稼動率の高速露光装置が廉価
で実現する。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、信頼性が高く、
高スループツトを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る照明装置の実施例を示す構成図、
第2図は第1図図示第1平面鏡の入射角を固定にして雰
囲気温度を変化させた場合の透過率測定データを示す図
、第3図は第1図図示第1平面鏡の雰囲気温度を固定に
して入射角を変化させた場合の透過率測定データを示す
図、第4図は従来式の照明装置を示す構成図、第5図は
第4図図示照明装置の部分詳細図でウェハ露光時の採光
ミラーの斜視図、第6図は第4図図示照明装置の部分詳
細図でアライメント光採光時の採光ミラーの斜視図、第
7図は第4図図示採光ミラーの詳細平面図でめる。 100・・・照明装置、101・・・ランジノ1ウス、
102・・・超高圧水銀ランプ、103・・・ランプホ
ルダ、104・・・果光鏡、105・・・第1平面鏡、
108・・・ファイバ、109・・・メインシャッタ、
110・・・パルスモータ、111・・・フライアイレ
ンズ群、112・・・第2平面d、113・・・コンデ
ンサレンズ群、114・・・シャープカットフィルタ、
115・・・露光光、116・・・アライメント光、1
22・・・支持板、124・・・取シ込みミラー、12
5・・・ランプ点灯電源、126・・・コントローラ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、感光材料を塗布したウェハの露光と、前記ウェハと
    それに焼付けを行なうパターン原画の位置合せを同一の
    光源から出た光を利用して行なう光学式露光装置に用い
    られる照明装置において、特定波長に対する反射、透過
    特性がその入射角に依存する平面鏡を露光々軸上に設け
    、常時露光々とアライメント光とを分離取り出せるよう
    にしたことを特徴とする照明装置。
JP16000584A 1984-07-30 1984-07-30 照明装置 Pending JPS6139517A (ja)

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JP16000584A JPS6139517A (ja) 1984-07-30 1984-07-30 照明装置

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JPS6139517A true JPS6139517A (ja) 1986-02-25

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ID=15705916

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JP16000584A Pending JPS6139517A (ja) 1984-07-30 1984-07-30 照明装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0298119A (ja) * 1988-10-04 1990-04-10 Canon Inc 露光装置
JPH0375529U (ja) * 1989-11-24 1991-07-29
JPH0375528U (ja) * 1989-11-24 1991-07-29

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS578844A (en) * 1980-06-20 1982-01-18 Hitachi Ltd Fetching device for satellite picture data

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS578844A (en) * 1980-06-20 1982-01-18 Hitachi Ltd Fetching device for satellite picture data

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0298119A (ja) * 1988-10-04 1990-04-10 Canon Inc 露光装置
JPH0375529U (ja) * 1989-11-24 1991-07-29
JPH0375528U (ja) * 1989-11-24 1991-07-29

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