JPS6139290Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6139290Y2 JPS6139290Y2 JP18515281U JP18515281U JPS6139290Y2 JP S6139290 Y2 JPS6139290 Y2 JP S6139290Y2 JP 18515281 U JP18515281 U JP 18515281U JP 18515281 U JP18515281 U JP 18515281U JP S6139290 Y2 JPS6139290 Y2 JP S6139290Y2
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- Japan
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- scale reading
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- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 6
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 4
- 241000219739 Lens Species 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
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- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
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Landscapes
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、光の干渉を利用した光学式スケール
読取装置に関し特に特定モード回折光を阻止する
阻止手段の配置を工夫することにより、光量の低
化を防いでS/N比を向上させた光学式スケール
読取装置に関する。
読取装置に関し特に特定モード回折光を阻止する
阻止手段の配置を工夫することにより、光量の低
化を防いでS/N比を向上させた光学式スケール
読取装置に関する。
従来より、光の干渉を利用した光学式スケール
読取装置が知られている。この種の装置は、スケ
ールとしてガラス基板上に反射膜を格子状に蒸着
したものを用いるのが通常である。このようなス
ケールでは、反射回折光のうち0次と±1次モー
ド光が受光素子に入射してしまうため、受光素子
上に正確な干渉縞を結ぶことができない。そこ
で、0次或いは±1次光の何れか一方を除去する
必要がある。除去手段としては、ストツパや絞り
が用いられている。
読取装置が知られている。この種の装置は、スケ
ールとしてガラス基板上に反射膜を格子状に蒸着
したものを用いるのが通常である。このようなス
ケールでは、反射回折光のうち0次と±1次モー
ド光が受光素子に入射してしまうため、受光素子
上に正確な干渉縞を結ぶことができない。そこ
で、0次或いは±1次光の何れか一方を除去する
必要がある。除去手段としては、ストツパや絞り
が用いられている。
第1図は、従来のこの種の装置の一構成を示す
図であり、過日出願人が提案したものである。
(特願昭55−101035他数件)同図に示す装置の動
作を説明すれば、以下のとおりである。同図にお
いて、1はレーザ等の可干渉性光源である。例え
ば半導体レーザやHe−Neレーザ等が用いられ
る。Mは、該光源の光出力を受けるハーフミラー
である。Lは、該ハーフミラーの通過光を受ける
レンズである。2は、反射面及び透過面が等間隔
で並んだ目盛格子をもつスケールである。前記レ
ンズLを通過した光は該スケールで反射する際、
多モードの回折光を生じる。3は、これら多モー
ドの回折光のうち、0次モードの光を阻止するス
トツパである。
図であり、過日出願人が提案したものである。
(特願昭55−101035他数件)同図に示す装置の動
作を説明すれば、以下のとおりである。同図にお
いて、1はレーザ等の可干渉性光源である。例え
ば半導体レーザやHe−Neレーザ等が用いられ
る。Mは、該光源の光出力を受けるハーフミラー
である。Lは、該ハーフミラーの通過光を受ける
レンズである。2は、反射面及び透過面が等間隔
で並んだ目盛格子をもつスケールである。前記レ
ンズLを通過した光は該スケールで反射する際、
多モードの回折光を生じる。3は、これら多モー
ドの回折光のうち、0次モードの光を阻止するス
トツパである。
4は、ハーフミラーMの反射光を受ける衝立で
ある。Sは、該衝立に生じた干渉縞である。S1,
S2は、これら干渉縞のうち、互いに隣接して生じ
た干渉縞である。d1〜d4は、これら干渉縞間にそ
れぞれ90゜ずつ位相をずらして配置された受光素
子である。受光素子としては例えばフオトダイオ
ードが用いられる。A〜Dは、それぞれの受光素
子d1〜d4の電気信号出力を受けるバツフア増幅器
である。5は、これら各相のバツフア増幅器の出
力を受けて、前記スケール2の移動距離に対応し
たパルス出力信号及びスケール2の移動方向を示
す信号を出力する制御器である。このように構成
された装置の動作を以下に説明する。
ある。Sは、該衝立に生じた干渉縞である。S1,
S2は、これら干渉縞のうち、互いに隣接して生じ
た干渉縞である。d1〜d4は、これら干渉縞間にそ
れぞれ90゜ずつ位相をずらして配置された受光素
子である。受光素子としては例えばフオトダイオ
ードが用いられる。A〜Dは、それぞれの受光素
子d1〜d4の電気信号出力を受けるバツフア増幅器
である。5は、これら各相のバツフア増幅器の出
力を受けて、前記スケール2の移動距離に対応し
たパルス出力信号及びスケール2の移動方向を示
す信号を出力する制御器である。このように構成
された装置の動作を以下に説明する。
光源1から発射された光は、続くハーフミラー
Mで一部が反射し残りは該ハーフミラーを通過す
る。この通過した光は続くレンズLによつて集光
される。集光された光は、続くスケール2に入射
し入射した光の一部は反射する。このときスケー
ル2は反射形の回折格子として働き光が反射する
際に、0次から±n次(nは整数)までの多モー
ドの回折が生じる。これら多モード回折光のう
ち、0次モード光即ち単なる反射光はストツパ3
によつて阻止される。回折した反射光は、再びレ
ンズLによつて集光される。このとき、該レンズ
の開口比を適当に選んでおけば、±2次モード光
以上の光の通過を阻止することができる。
Mで一部が反射し残りは該ハーフミラーを通過す
る。この通過した光は続くレンズLによつて集光
される。集光された光は、続くスケール2に入射
し入射した光の一部は反射する。このときスケー
ル2は反射形の回折格子として働き光が反射する
際に、0次から±n次(nは整数)までの多モー
ドの回折が生じる。これら多モード回折光のう
ち、0次モード光即ち単なる反射光はストツパ3
によつて阻止される。回折した反射光は、再びレ
ンズLによつて集光される。このとき、該レンズ
の開口比を適当に選んでおけば、±2次モード光
以上の光の通過を阻止することができる。
従つて、レンズLを通過する光は±1次モード
光のみをなる。第3図の破線で示す光は+1次モ
ード光を、一点鎖線で示す光は−1次モード光を
示す。この±1次光は、続くハーフミラーMで一
部が反射し、反射した光は互いに干渉し合つて衝
立4に干渉縞Sを生じさせる。互いに隣り合つた
干渉縞S1,S2に配置された受光素子d1〜d4は、光
の明暗に応じた電気信号を発生させている。
光のみをなる。第3図の破線で示す光は+1次モ
ード光を、一点鎖線で示す光は−1次モード光を
示す。この±1次光は、続くハーフミラーMで一
部が反射し、反射した光は互いに干渉し合つて衝
立4に干渉縞Sを生じさせる。互いに隣り合つた
干渉縞S1,S2に配置された受光素子d1〜d4は、光
の明暗に応じた電気信号を発生させている。
今、光源1から可干渉性の光が照射されている
状態で、スケール2を或る方向に移動させたとす
る。このとき、受光素子d1〜d4に入力する光は、
スケール2の格子ピツチの2倍のピツチで周期的
に明暗を生じる。これら受光素子は、前述したよ
うにそれぞれ90゜ずつ位相がずれた位置に取りつ
けられているので、これら受光素子の出力はそれ
ぞれ90゜ずつ位相のずれた正弦波となる。これら
出力は、それぞれ続くバツフア増幅器A〜Dに入
力する。バツフア増幅器A〜Dは、入力信号を適
当な信号レベルに増幅するとともにインピーダン
ス変換を行う。これらバツフア増幅器のそれぞれ
の出力をPA,PB,PC,PDとする。
状態で、スケール2を或る方向に移動させたとす
る。このとき、受光素子d1〜d4に入力する光は、
スケール2の格子ピツチの2倍のピツチで周期的
に明暗を生じる。これら受光素子は、前述したよ
うにそれぞれ90゜ずつ位相がずれた位置に取りつ
けられているので、これら受光素子の出力はそれ
ぞれ90゜ずつ位相のずれた正弦波となる。これら
出力は、それぞれ続くバツフア増幅器A〜Dに入
力する。バツフア増幅器A〜Dは、入力信号を適
当な信号レベルに増幅するとともにインピーダン
ス変換を行う。これらバツフア増幅器のそれぞれ
の出力をPA,PB,PC,PDとする。
制御器5は、これらPA〜PD出力を受けてその
1の出力端子OUT1に(PA−PC)に対応した
パルスを出力する。該出力端子OUT1から出力
されるパルスの数は、スケール2の移動距離に対
応したものとなる。また、制御器5の他の出力端
子OUT2からは、(PA−PC)と(PB−PD)の
位相差を利用してスケール2の移動方向を示す信
号が出力される。該信号の出力形式としては、例
えばスケールが右方向に移動したときを0に、左
方向に移動したときを1にそれぞれ対応させるこ
とが考えられる。或いはこの逆でもよい。出力端
子OUT1及びOUUT2からの両出力を利用する
ことにより、本装置を光学式スケール読取装置と
して利用することができる。
1の出力端子OUT1に(PA−PC)に対応した
パルスを出力する。該出力端子OUT1から出力
されるパルスの数は、スケール2の移動距離に対
応したものとなる。また、制御器5の他の出力端
子OUT2からは、(PA−PC)と(PB−PD)の
位相差を利用してスケール2の移動方向を示す信
号が出力される。該信号の出力形式としては、例
えばスケールが右方向に移動したときを0に、左
方向に移動したときを1にそれぞれ対応させるこ
とが考えられる。或いはこの逆でもよい。出力端
子OUT1及びOUUT2からの両出力を利用する
ことにより、本装置を光学式スケール読取装置と
して利用することができる。
図に示す回路では、特定モード光阻止手段とし
て0次モード光を除去するストツパを用いたが、
阻止手段として絞りを利用することもできる。絞
りを用いると−1次或いは+1次光のうちの何れ
かのモード光が阻止される。
て0次モード光を除去するストツパを用いたが、
阻止手段として絞りを利用することもできる。絞
りを用いると−1次或いは+1次光のうちの何れ
かのモード光が阻止される。
以上、詳細に説明したように、第1図に示す装
置は、レンズLとスケール2間の位置決め精度が
問題とならず構成の簡単なものであり、それ自体
秀れた装置である。しかしながら、図に示す構成
の装置では、特定モード光阻止手段をレンズとス
ケール間に配しているため、特定モード光を除去
できると同時に入射光の一部も除去されてしま
う。このため、干渉縞の光強度が下がり出力信号
のS/N比が悪くなつてしまう。
置は、レンズLとスケール2間の位置決め精度が
問題とならず構成の簡単なものであり、それ自体
秀れた装置である。しかしながら、図に示す構成
の装置では、特定モード光阻止手段をレンズとス
ケール間に配しているため、特定モード光を除去
できると同時に入射光の一部も除去されてしま
う。このため、干渉縞の光強度が下がり出力信号
のS/N比が悪くなつてしまう。
本考案は、このような点に鑑みてなされたもの
で、特定モード光阻止手段を光学系と受光素子と
の間に配置することにより、スケール入射時の光
量の低下を防いでS/N比の向上を図つた光学式
スケール読取装置を実現したものである。以下、
図面を参照して本考案を詳細に説明する。
で、特定モード光阻止手段を光学系と受光素子と
の間に配置することにより、スケール入射時の光
量の低下を防いでS/N比の向上を図つた光学式
スケール読取装置を実現したものである。以下、
図面を参照して本考案を詳細に説明する。
第2図は、本考案の一実施例を示す構成図であ
る。第1図と同一のものは同一の番号を付して示
す。同図において、L′は光源1の出力を集光する
レンズである。10は、レンズL′の透過光を受け
るキユーブプリズムである。11は、入射光の出
口側に設けられた1/4波長板である。レンズLと
スケール2間の距離hは、レーザ光の焦点距離H
よりも大きくなるように構成されている。また、
ストツパ3は、キユーブプリズム10と衡立4の
間に配置されている。更に、回折光の第1結像点
が虚像となるべくレンズLの焦点距離fよりも離
れた位置になるように調整する。このように構成
された装置の動作は、以下のとおりである。
る。第1図と同一のものは同一の番号を付して示
す。同図において、L′は光源1の出力を集光する
レンズである。10は、レンズL′の透過光を受け
るキユーブプリズムである。11は、入射光の出
口側に設けられた1/4波長板である。レンズLと
スケール2間の距離hは、レーザ光の焦点距離H
よりも大きくなるように構成されている。また、
ストツパ3は、キユーブプリズム10と衡立4の
間に配置されている。更に、回折光の第1結像点
が虚像となるべくレンズLの焦点距離fよりも離
れた位置になるように調整する。このように構成
された装置の動作は、以下のとおりである。
光源1から発射されたレーザ光は、レンズL′で
集光された後、キユーブプリズム10に入射す
る。キユーブプリズム10は、全方向の偏光成分
をもつ入射光に対して、該プリズムと偏向角度が
一致した成分は全て透過させるが、これと直角方
向の成分は全て反射する。レーザ光の場合は、そ
の大部分が直線偏光になつている。従つて、レー
ザ光の偏光角度を偏光キユーブプリズムの偏光角
度に合わせてやれば、入射光の直線偏光成分は全
て透過する。この透過した直線偏光を1/4波長板
11に通す。このとき、1/4波長板11の偏光角
を合わせてやれば直線偏光を円偏光にすることが
できる。
集光された後、キユーブプリズム10に入射す
る。キユーブプリズム10は、全方向の偏光成分
をもつ入射光に対して、該プリズムと偏向角度が
一致した成分は全て透過させるが、これと直角方
向の成分は全て反射する。レーザ光の場合は、そ
の大部分が直線偏光になつている。従つて、レー
ザ光の偏光角度を偏光キユーブプリズムの偏光角
度に合わせてやれば、入射光の直線偏光成分は全
て透過する。この透過した直線偏光を1/4波長板
11に通す。このとき、1/4波長板11の偏光角
を合わせてやれば直線偏光を円偏光にすることが
できる。
この光を、レンズLを介してスケール2に集光
し回折させる。ここで、0次回折光の第1結像点
をO1、+1次回折光及び−1次回折光の結像点を
それぞれP1,Q1とする。スケール2によつて反
射された回折光は、第1結像点O1,P1,Q1から
出たように進みレンズLで集光される。レンズL
を通過した光は、再び1/4波長板11に入る。こ
こで、反射光は再び直線偏光に戻される。かつそ
の偏光角は、入射直線偏光と90゜異なる。従つ
て、今度はキユーブプリズム10に入つた反射光
は全て反射される。反射光は、衝立て4に達する
前に第2結像点O2,P2,Q2に集光する。ここ
で、O2,P2,Q2はそれぞれ0次光、+1次光、−
1次光の第2結像点である。そこで、第2結像点
に0次光阻止手段としてストツパ3を配置する
と、衝立4上には±1次回折光同志の干渉縞Sが
形成される。この干渉縞を計数してスケール2の
移動量を測定する方法については、第1図につい
て説明したと同じであるので説明は省略する。
し回折させる。ここで、0次回折光の第1結像点
をO1、+1次回折光及び−1次回折光の結像点を
それぞれP1,Q1とする。スケール2によつて反
射された回折光は、第1結像点O1,P1,Q1から
出たように進みレンズLで集光される。レンズL
を通過した光は、再び1/4波長板11に入る。こ
こで、反射光は再び直線偏光に戻される。かつそ
の偏光角は、入射直線偏光と90゜異なる。従つ
て、今度はキユーブプリズム10に入つた反射光
は全て反射される。反射光は、衝立て4に達する
前に第2結像点O2,P2,Q2に集光する。ここ
で、O2,P2,Q2はそれぞれ0次光、+1次光、−
1次光の第2結像点である。そこで、第2結像点
に0次光阻止手段としてストツパ3を配置する
と、衝立4上には±1次回折光同志の干渉縞Sが
形成される。この干渉縞を計数してスケール2の
移動量を測定する方法については、第1図につい
て説明したと同じであるので説明は省略する。
上述したように、本考案によればストツパ3の
位置を従来のレンズLとスケール2間から、キユ
ーブプリズムと受光素子間に移すことによりスケ
ールの入射光を除去しないので光量の低下を防ぐ
ことができる。従つて、S/N比を向上させるこ
とができる。上述の説明では、阻止手段としてス
トツパを用いた場合について説明したが、代わり
に絞りを用いることもできる。第3図は、阻止手
段として絞りを用いた他の実施例を示す図であ
る。同図において、20は絞りである。絞りを用
いると、+1次光或いは−1次光の何れかを阻止
することができる。この場合、干渉縞は0次光と
+1次光、或いは0次光と−1次光との間に生じ
る。
位置を従来のレンズLとスケール2間から、キユ
ーブプリズムと受光素子間に移すことによりスケ
ールの入射光を除去しないので光量の低下を防ぐ
ことができる。従つて、S/N比を向上させるこ
とができる。上述の説明では、阻止手段としてス
トツパを用いた場合について説明したが、代わり
に絞りを用いることもできる。第3図は、阻止手
段として絞りを用いた他の実施例を示す図であ
る。同図において、20は絞りである。絞りを用
いると、+1次光或いは−1次光の何れかを阻止
することができる。この場合、干渉縞は0次光と
+1次光、或いは0次光と−1次光との間に生じ
る。
第2図、第3図に示す装置では、光量の低下を
防ぐため光学系としてキユーブプリズムと1/4波
長板を用いているが、第1図の従来例に示すよう
にハーフミラーを用いてもよい。本考案装置の変
形例としては、第4図に示すように、スケール2
をレンズLに近づけて、第1結像点が直接ハーフ
ミラーM(又はキユーブプリズム10)と受光素
子(衝立4)の間に生じるようにしてもよい。
又、第5図に示すように、レーザ光の焦点距離H
をレンズLの焦点距離fよりもかなり大きくし、
スケール2で反射した回折光がfよりもLから遠
い点にくるようにしてもよい。
防ぐため光学系としてキユーブプリズムと1/4波
長板を用いているが、第1図の従来例に示すよう
にハーフミラーを用いてもよい。本考案装置の変
形例としては、第4図に示すように、スケール2
をレンズLに近づけて、第1結像点が直接ハーフ
ミラーM(又はキユーブプリズム10)と受光素
子(衝立4)の間に生じるようにしてもよい。
又、第5図に示すように、レーザ光の焦点距離H
をレンズLの焦点距離fよりもかなり大きくし、
スケール2で反射した回折光がfよりもLから遠
い点にくるようにしてもよい。
以上、詳細に説明したように、本考案によれば
特定モード光阻止手段を光学系と受光素子との間
に配置することにより、スケール入射時の光景の
低下を防いでS/N比の向上を図つた光学式スケ
ール読取装置を実現することができる。
特定モード光阻止手段を光学系と受光素子との間
に配置することにより、スケール入射時の光景の
低下を防いでS/N比の向上を図つた光学式スケ
ール読取装置を実現することができる。
第1図は、従来装置の一構成を示す図である。
第2図は、本考案装置の一実施例を示す構成図、
第3図は他の実施例を示す構成図である。第4
図、第5図は、変形例を示す図である。 1……可干渉性光源、2……スケール、3……
ストツパ、4……衝立、5……制御器、10……
キユーブプリズム、11……1/4波長板、20…
…絞り、M……ハーフミラー、L,L′……レン
ズ、d1〜d4……受光素子。
第2図は、本考案装置の一実施例を示す構成図、
第3図は他の実施例を示す構成図である。第4
図、第5図は、変形例を示す図である。 1……可干渉性光源、2……スケール、3……
ストツパ、4……衝立、5……制御器、10……
キユーブプリズム、11……1/4波長板、20…
…絞り、M……ハーフミラー、L,L′……レン
ズ、d1〜d4……受光素子。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 可干渉性光源を光学系を介して回折格子状を
なすスケールに照射し、照射した光が反射する
際に生じる多モードの回折光のうちの特定モー
ドの回折光同志が干渉する際に生じる干渉縞を
受光素子で受け、これを或る一定の位相ごとに
電気信号として取出すようにした光学式スケー
ル読取装置において、回折光の結像点を前記光
学系と受光素子との間に生ぜしめるように構成
して、当該結像点に特定のモード光を阻止する
阻止手段を設けたことを特徴とする光学式スケ
ール読取装置。 (2) 前記光学系としてハーフミラーを用いたこと
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)項記
載の光学式スケール読取装置。 (3) 前記光学系として偏光キユーブプリズムを用
いたことを特徴とする実用新案登録請求の範囲
第(1)項記載の光学式スケール読取装置。 (4) 前記阻止手段として絞りを用いて、0次モー
ド光と+1又は−1次モード光との間で干渉縞
をつくるようにしたことを特徴とする実用新案
登録請求の範囲第(1)項記載の光学式スケール読
取装置。 (5) 前記阻止手段としてストツパを用いて、+1
次モード光と−1次モード光との間で干渉縞を
つくるようにしたことを特徴とする実用新案登
録請求の範囲第(1)項記載の光学式スケール読取
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18515281U JPS5889811U (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 光学式スケ−ル読取装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18515281U JPS5889811U (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 光学式スケ−ル読取装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5889811U JPS5889811U (ja) | 1983-06-17 |
JPS6139290Y2 true JPS6139290Y2 (ja) | 1986-11-11 |
Family
ID=29985945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18515281U Granted JPS5889811U (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 光学式スケ−ル読取装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5889811U (ja) |
-
1981
- 1981-12-11 JP JP18515281U patent/JPS5889811U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5889811U (ja) | 1983-06-17 |
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