JPS6134181A - 無電解金めつき液 - Google Patents

無電解金めつき液

Info

Publication number
JPS6134181A
JPS6134181A JP15294784A JP15294784A JPS6134181A JP S6134181 A JPS6134181 A JP S6134181A JP 15294784 A JP15294784 A JP 15294784A JP 15294784 A JP15294784 A JP 15294784A JP S6134181 A JPS6134181 A JP S6134181A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gold
gold plating
ions
electroless
electroless gold
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15294784A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Miyazawa
修 宮沢
Akira Tomizawa
明 富沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP15294784A priority Critical patent/JPS6134181A/ja
Publication of JPS6134181A publication Critical patent/JPS6134181A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/42Coating with noble metals
    • C23C18/44Coating with noble metals using reducing agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は新規かつ改良した無電解企めっぎ液。
および改良した液を使用する無電解金めつき法に関する
ものである。
〔発明の背景〕
水浴性金塩、金錯化剤と還元剤としてアルカリ金属のホ
ウ水素化物またはアミンボランとを含む無電s4金めつ
き欲は既に公矧である。これらの種類はほとんど、金錯
化剤Vこは、通常アルカリ金属シアン化物を単独で、ま
たは他の錯化剤と共に使用する。有毒なシアン化*Iを
使用することは安全衛生上、健康上、危険な問題を伴な
い、望ましいことではない。特に使用する場合には厳重
な管理のもとで、行なわれる必要がある。また、従来の
無電解金めっぎ浴は液の女定性と実用的なめつき速度の
点で不満足なものである。この種の金めつき液は米国特
許第3589916号、第3700469号、及び第3
917885号等にd己載されている。
これらによると水浴性ボロハイドライドまたはアミンボ
レイン還元剤および安定化量のシアン化物に刃口えて水
溶性金塩およびその金に対する錯化化合物を含有し、そ
れらのすべてが10〜14のpHに維持されている無電
解金めつき浴をめげている。
しかしながら、従来使用されたこれらの液は、完全lC
満たされるものでなかった。荷に、シアン化物イオン濃
度が増7JI]″′fるとめつき速度が小となり、さら
にはストップにすることがあった。
また液の分解が生じる欠点があった。
〔発明の目的) 本発明の目的はシアン化物イオンを使用しないで優れた
安定性がある無電解金めつき1#Y提供することにある
〔発明の概要〕
本発明しま一般にめっき溶液に応用できるが、特に無電
解金めつき液に有効である。前項で述べたごとく、普悪
、上記溶液は水溶性金塩、金イオンの錯化剤、金イオン
の還元剤、pHd整剤等の液成分より構成されている。
これらの内、水溶性金塩は金イオンの供給源であり、通
常、シアン化金塩か使用される。還元剤は金イオン(A
u+)を金属金に還元させる電子を供給する。
また錯化剤は金イオンと安定な錯体を形成し、アルカリ
溶液での水酸化合(Au、U)の生成(沈殿物)を防止
する。pH調整剤は液の最適な析出電位を調整する。こ
れらの成分はどれも重要で欠(ことができない。
本発明は主として、無電解金めっぎ液に使用する錯化剤
に関連がある。無公害という観点からもめっぎ液の女全
性の観点からも、シアンの代替が必要であり、種々検討
した結果、アセトニトリル系誘導体が金1価イオン(A
u+ )の錯化剤に有効であることが判った。このd導
体は(1)式に示される構造式を持つものである。金1
価イオンはニトリル基とコンプレックスを形成X−C)
lICN  ・・・・・・・・・・・・・・・・・・(
1)(X−OH,NH,) するが、Xの親水基が、0)1.N)l、が重要で、こ
れら以外は有効でない。そのメカニズムについてはよ(
判らないが立体障害がかなり影響しているようである。
〔発明の実施例〕
以下、実施例に従って、説明する。実施例を表1−1 
、1−2に示す。その内、前者は本発明の無電解金めつ
き、後者は従来例である。
使用したサンプルは21角(0,21)の銅箔止金めっ
ぎ約1μm(セルレックス製401電気m メツf!r
 液、電流密度0.5 Ndm’、 液温g5°C)を
形成したものである。無を解金めつき液の評価方法とし
ては、重量換算によるめっき速度(Ih後)、液分解に
至るまでの寿命、まためっき皮膜の外観等を取り、入れ
た。
この結果、実施例1〜7から、本発明かめつき速度、寿
命等の観点からすぐれていることが判った。
以下余白 表1−1 本発明の無電解金めっき液の特性表1−2従
来液の無電解金めつき液の特性以下余白 〔発明の効果〕 以上、述べたように、本発明による無電解金めつき液は
、従来のものに比べ、高女定であり、長寿命であり、し
かも、無公害、安全衛生の面でも極めて、有効であり、
すぐれているものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 水溶性金塩、金イオンの錯化剤、pH調整剤、金イオン
    の還元剤から成る無電解金めっき液において、錯化剤と
    して、アセトニトリル系誘導体を添加することを特徴と
    する無電解金めっき液。
JP15294784A 1984-07-25 1984-07-25 無電解金めつき液 Pending JPS6134181A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15294784A JPS6134181A (ja) 1984-07-25 1984-07-25 無電解金めつき液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15294784A JPS6134181A (ja) 1984-07-25 1984-07-25 無電解金めつき液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6134181A true JPS6134181A (ja) 1986-02-18

Family

ID=15551636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15294784A Pending JPS6134181A (ja) 1984-07-25 1984-07-25 無電解金めつき液

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6134181A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0260029U (ja) * 1988-10-26 1990-05-02
JP2018529847A (ja) * 2015-12-18 2018-10-11 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC 金メッキ溶液

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0260029U (ja) * 1988-10-26 1990-05-02
JP2018529847A (ja) * 2015-12-18 2018-10-11 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC 金メッキ溶液
EP3394319A4 (en) * 2015-12-18 2019-09-18 Rohm and Haas Electronic Materials LLC SOLUTION OF DORURE

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4337091A (en) Electroless gold plating
US3677909A (en) Palladium-nickel alloy plating bath
US4428802A (en) Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor
KR20000076336A (ko) 무시안화물 단가 구리 전기도금용액
ES447301A1 (es) Un metodo de chapeado por inmersion y un aparato para efec- tuar dicho metodo.
US3870526A (en) Electroless deposition of copper and copper-tin alloys
JPS5818430B2 (ja) 無電解メツキ浴およびメツキ方法
US5935306A (en) Electroless gold plating bath
CA1188458A (en) Electroless gold plating
US3637474A (en) Electrodeposition of palladium
CA1132940A (en) Electroplating solution including trivalent chromium, formate, and reducing agent
US3661596A (en) Stabilized, chemical nickel plating bath
KR850001554B1 (ko) 구리의 무전해 도금액
US3915718A (en) Chemical silver bath
GB2046794A (en) Silver and gold/silver alloy plating bath and method
GB965859A (en) Improvements in and relating to the deposition of palladium
JPS6134181A (ja) 無電解金めつき液
US4048023A (en) Electrodeposition of gold-palladium alloys
US2827398A (en) Electroless iron plating
JPH10317183A (ja) 非シアンの電気金めっき浴
US4436595A (en) Electroplating bath and method
JPS60125379A (ja) 無電解金めっき液
US4545869A (en) Bath and process for high speed electroplating of palladium
JP3224454B2 (ja) ノンシアン銀めっき浴及びその銀めっき方法
IE841268L (en) Bath for the galvanic deposition of gold alloys.