JPS6134181A - 無電解金めつき液 - Google Patents
無電解金めつき液Info
- Publication number
- JPS6134181A JPS6134181A JP15294784A JP15294784A JPS6134181A JP S6134181 A JPS6134181 A JP S6134181A JP 15294784 A JP15294784 A JP 15294784A JP 15294784 A JP15294784 A JP 15294784A JP S6134181 A JPS6134181 A JP S6134181A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gold
- gold plating
- ions
- electroless
- electroless gold
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/42—Coating with noble metals
- C23C18/44—Coating with noble metals using reducing agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は新規かつ改良した無電解企めっぎ液。
および改良した液を使用する無電解金めつき法に関する
ものである。
ものである。
水浴性金塩、金錯化剤と還元剤としてアルカリ金属のホ
ウ水素化物またはアミンボランとを含む無電s4金めつ
き欲は既に公矧である。これらの種類はほとんど、金錯
化剤Vこは、通常アルカリ金属シアン化物を単独で、ま
たは他の錯化剤と共に使用する。有毒なシアン化*Iを
使用することは安全衛生上、健康上、危険な問題を伴な
い、望ましいことではない。特に使用する場合には厳重
な管理のもとで、行なわれる必要がある。また、従来の
無電解金めっぎ浴は液の女定性と実用的なめつき速度の
点で不満足なものである。この種の金めつき液は米国特
許第3589916号、第3700469号、及び第3
917885号等にd己載されている。
ウ水素化物またはアミンボランとを含む無電s4金めつ
き欲は既に公矧である。これらの種類はほとんど、金錯
化剤Vこは、通常アルカリ金属シアン化物を単独で、ま
たは他の錯化剤と共に使用する。有毒なシアン化*Iを
使用することは安全衛生上、健康上、危険な問題を伴な
い、望ましいことではない。特に使用する場合には厳重
な管理のもとで、行なわれる必要がある。また、従来の
無電解金めっぎ浴は液の女定性と実用的なめつき速度の
点で不満足なものである。この種の金めつき液は米国特
許第3589916号、第3700469号、及び第3
917885号等にd己載されている。
これらによると水浴性ボロハイドライドまたはアミンボ
レイン還元剤および安定化量のシアン化物に刃口えて水
溶性金塩およびその金に対する錯化化合物を含有し、そ
れらのすべてが10〜14のpHに維持されている無電
解金めつき浴をめげている。
レイン還元剤および安定化量のシアン化物に刃口えて水
溶性金塩およびその金に対する錯化化合物を含有し、そ
れらのすべてが10〜14のpHに維持されている無電
解金めつき浴をめげている。
しかしながら、従来使用されたこれらの液は、完全lC
満たされるものでなかった。荷に、シアン化物イオン濃
度が増7JI]″′fるとめつき速度が小となり、さら
にはストップにすることがあった。
満たされるものでなかった。荷に、シアン化物イオン濃
度が増7JI]″′fるとめつき速度が小となり、さら
にはストップにすることがあった。
また液の分解が生じる欠点があった。
〔発明の目的)
本発明の目的はシアン化物イオンを使用しないで優れた
安定性がある無電解金めつき1#Y提供することにある
。
安定性がある無電解金めつき1#Y提供することにある
。
本発明しま一般にめっき溶液に応用できるが、特に無電
解金めつき液に有効である。前項で述べたごとく、普悪
、上記溶液は水溶性金塩、金イオンの錯化剤、金イオン
の還元剤、pHd整剤等の液成分より構成されている。
解金めつき液に有効である。前項で述べたごとく、普悪
、上記溶液は水溶性金塩、金イオンの錯化剤、金イオン
の還元剤、pHd整剤等の液成分より構成されている。
これらの内、水溶性金塩は金イオンの供給源であり、通
常、シアン化金塩か使用される。還元剤は金イオン(A
u+)を金属金に還元させる電子を供給する。
常、シアン化金塩か使用される。還元剤は金イオン(A
u+)を金属金に還元させる電子を供給する。
また錯化剤は金イオンと安定な錯体を形成し、アルカリ
溶液での水酸化合(Au、U)の生成(沈殿物)を防止
する。pH調整剤は液の最適な析出電位を調整する。こ
れらの成分はどれも重要で欠(ことができない。
溶液での水酸化合(Au、U)の生成(沈殿物)を防止
する。pH調整剤は液の最適な析出電位を調整する。こ
れらの成分はどれも重要で欠(ことができない。
本発明は主として、無電解金めっぎ液に使用する錯化剤
に関連がある。無公害という観点からもめっぎ液の女全
性の観点からも、シアンの代替が必要であり、種々検討
した結果、アセトニトリル系誘導体が金1価イオン(A
u+ )の錯化剤に有効であることが判った。このd導
体は(1)式に示される構造式を持つものである。金1
価イオンはニトリル基とコンプレックスを形成X−C)
lICN ・・・・・・・・・・・・・・・・・・(
1)(X−OH,NH,) するが、Xの親水基が、0)1.N)l、が重要で、こ
れら以外は有効でない。そのメカニズムについてはよ(
判らないが立体障害がかなり影響しているようである。
に関連がある。無公害という観点からもめっぎ液の女全
性の観点からも、シアンの代替が必要であり、種々検討
した結果、アセトニトリル系誘導体が金1価イオン(A
u+ )の錯化剤に有効であることが判った。このd導
体は(1)式に示される構造式を持つものである。金1
価イオンはニトリル基とコンプレックスを形成X−C)
lICN ・・・・・・・・・・・・・・・・・・(
1)(X−OH,NH,) するが、Xの親水基が、0)1.N)l、が重要で、こ
れら以外は有効でない。そのメカニズムについてはよ(
判らないが立体障害がかなり影響しているようである。
以下、実施例に従って、説明する。実施例を表1−1
、1−2に示す。その内、前者は本発明の無電解金めつ
き、後者は従来例である。
、1−2に示す。その内、前者は本発明の無電解金めつ
き、後者は従来例である。
使用したサンプルは21角(0,21)の銅箔止金めっ
ぎ約1μm(セルレックス製401電気m メツf!r
液、電流密度0.5 Ndm’、 液温g5°C)を
形成したものである。無を解金めつき液の評価方法とし
ては、重量換算によるめっき速度(Ih後)、液分解に
至るまでの寿命、まためっき皮膜の外観等を取り、入れ
た。
ぎ約1μm(セルレックス製401電気m メツf!r
液、電流密度0.5 Ndm’、 液温g5°C)を
形成したものである。無を解金めつき液の評価方法とし
ては、重量換算によるめっき速度(Ih後)、液分解に
至るまでの寿命、まためっき皮膜の外観等を取り、入れ
た。
この結果、実施例1〜7から、本発明かめつき速度、寿
命等の観点からすぐれていることが判った。
命等の観点からすぐれていることが判った。
以下余白
表1−1 本発明の無電解金めっき液の特性表1−2従
来液の無電解金めつき液の特性以下余白 〔発明の効果〕 以上、述べたように、本発明による無電解金めつき液は
、従来のものに比べ、高女定であり、長寿命であり、し
かも、無公害、安全衛生の面でも極めて、有効であり、
すぐれているものである。
来液の無電解金めつき液の特性以下余白 〔発明の効果〕 以上、述べたように、本発明による無電解金めつき液は
、従来のものに比べ、高女定であり、長寿命であり、し
かも、無公害、安全衛生の面でも極めて、有効であり、
すぐれているものである。
Claims (1)
- 水溶性金塩、金イオンの錯化剤、pH調整剤、金イオン
の還元剤から成る無電解金めっき液において、錯化剤と
して、アセトニトリル系誘導体を添加することを特徴と
する無電解金めっき液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15294784A JPS6134181A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | 無電解金めつき液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15294784A JPS6134181A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | 無電解金めつき液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6134181A true JPS6134181A (ja) | 1986-02-18 |
Family
ID=15551636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15294784A Pending JPS6134181A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | 無電解金めつき液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6134181A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0260029U (ja) * | 1988-10-26 | 1990-05-02 | ||
JP2018529847A (ja) * | 2015-12-18 | 2018-10-11 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 金メッキ溶液 |
-
1984
- 1984-07-25 JP JP15294784A patent/JPS6134181A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0260029U (ja) * | 1988-10-26 | 1990-05-02 | ||
JP2018529847A (ja) * | 2015-12-18 | 2018-10-11 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 金メッキ溶液 |
EP3394319A4 (en) * | 2015-12-18 | 2019-09-18 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | SOLUTION OF DORURE |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4337091A (en) | Electroless gold plating | |
US3677909A (en) | Palladium-nickel alloy plating bath | |
US4428802A (en) | Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor | |
KR20000076336A (ko) | 무시안화물 단가 구리 전기도금용액 | |
ES447301A1 (es) | Un metodo de chapeado por inmersion y un aparato para efec- tuar dicho metodo. | |
US3870526A (en) | Electroless deposition of copper and copper-tin alloys | |
JPS5818430B2 (ja) | 無電解メツキ浴およびメツキ方法 | |
US5935306A (en) | Electroless gold plating bath | |
CA1188458A (en) | Electroless gold plating | |
US3637474A (en) | Electrodeposition of palladium | |
CA1132940A (en) | Electroplating solution including trivalent chromium, formate, and reducing agent | |
US3661596A (en) | Stabilized, chemical nickel plating bath | |
KR850001554B1 (ko) | 구리의 무전해 도금액 | |
US3915718A (en) | Chemical silver bath | |
GB2046794A (en) | Silver and gold/silver alloy plating bath and method | |
GB965859A (en) | Improvements in and relating to the deposition of palladium | |
JPS6134181A (ja) | 無電解金めつき液 | |
US4048023A (en) | Electrodeposition of gold-palladium alloys | |
US2827398A (en) | Electroless iron plating | |
JPH10317183A (ja) | 非シアンの電気金めっき浴 | |
US4436595A (en) | Electroplating bath and method | |
JPS60125379A (ja) | 無電解金めっき液 | |
US4545869A (en) | Bath and process for high speed electroplating of palladium | |
JP3224454B2 (ja) | ノンシアン銀めっき浴及びその銀めっき方法 | |
IE841268L (en) | Bath for the galvanic deposition of gold alloys. |