JPS6133656U - プラズマ溶射装置 - Google Patents

プラズマ溶射装置

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JPS6133656U
JPS6133656U JP11502384U JP11502384U JPS6133656U JP S6133656 U JPS6133656 U JP S6133656U JP 11502384 U JP11502384 U JP 11502384U JP 11502384 U JP11502384 U JP 11502384U JP S6133656 U JPS6133656 U JP S6133656U
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spray equipment
plasma spray
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thermal spray
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由和 高橋
博光 竹田
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隆夫 鈴木
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株式会社東芝
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案装置の概念図、第２図は本考案の実施例
を示す図である。 第３図は従来の大気中溶射装置を示す概略図、第４図は
第３図の装置を、用いて得られる溶射金属被膜の模式図
、第５図は一低圧溶射装置を示す概略図、第６図は第５
図疎置を用いて得られる溶射金属被膜の模式図。 ３１・・・密閉容器、５０，６１・・・溶射ガン。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空またはガス雰囲気にする手段を備えた密閉容器と、
    前記密閉容器に着脱自在な溶射ガンとを具備したことを
    特徴とするプラズマ溶射装置。
JP11502384U 1984-07-30 1984-07-30 プラズマ溶射装置 Granted JPS6133656U (ja)

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JP11502384U JPS6133656U (ja) 1984-07-30 1984-07-30 プラズマ溶射装置

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JPS6133656U true JPS6133656U (ja) 1986-02-28
JPH0341823Y2 JPH0341823Y2 (ja) 1991-09-02

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56100666A (en) * 1980-01-11 1981-08-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Melt-spraying device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS56100666A (en) * 1980-01-11 1981-08-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Melt-spraying device

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JPH0341823Y2 (ja) 1991-09-02

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