JPS6133136A - １，１−ジ（４−ヒドロキシフエニル）−１−フエニルエタンの連続製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニｌＬ／）−
１−フェニルエタン（以下ＢＰ−ＡＣＰと略す）の連続
製造法に関する。更に詳しくは、アセトフェノン（以下
ＡＣＰと略ス）トフェノ−１ｖ（以下ＰＮＩ、と略す）
を金属塩化物触媒、及び／又は塩化水素触媒共存下に反
応させて、ＢＰ−ＡＣＰを合成させた反応液より効率良
く、該触媒を分離除去する方法に関する。

ＢＰ−ＡＣＰは、ポリエステル、ポリ力・ボネートの原
料として工業的に極めて有用な化合物であシ、ＡＣＰと
ＰＮＬを適当な酸触媒共存下に反応させて合成すること
は、ドイツ特許２，９４８，２２２号及び米国特許４，
８００，０００号等により公知である。しかしながら、
ＢＰ−ＡＣＰを工業的に極めて有利な方法で、しかも、
連続的に製造しようとすると、以下に記すような問題が
ある０すなわち （１）生成りＰ−ＡＣＰは、該反応液中に析出し、スラ
リー状態を呈しこのまま、水洗工程を行なうと、水洗工
程は固−液一液状態を呈し、触媒の除去が不十分となる
。又、ＢＰ−ＡＣＰが器壁に付着することによって、分
液不良となる。

（１）　さらに、水洗工程より生じる水層（廃水）には
、未反応のＰＮＬ、さらに１、生成物であるＢＰ−ＡＣ
Ｐが多量に含有され、収率低下をまねくと共に、排水処
理が相当煩雑となシ、そのためのエネルギーも莫大とな
る。

本発明者らは、上記（１）（１）の問題点を解決すべく
鋭意検討した結果、反応基質であるＡＣＰを、水洗工程
より生じる水層と接触させることにより、該水層に含有
されるＰＮＬ　、及びＢＰ−ＡＣＰをＡＣＰ層中に抽出
することによって、問題点（１）を解決し、さらに、該
ＡＣＰ層を合成工程より得られる反応液に混入せしめた
混合油層を、水洗工程に供することによって、水洗工程
の状態は液−液となシ前記問題点（１）が速やかに解決
出来ることを見い出し本発明に至った。

すなわち本発明は、合成工程において、アセトフェノン
と該アセトフェノンに対し化学光論量以上のフェノール
を金属塩化物触媒及び／又は塩化水素触媒共存下で反応
させて１，１−ジ（４−４ｔ’ロキシフエニｙｖ　）　
−１−−ｙエニμエタンを含む反応液を得、該反応液と
、上記合成工程に引続く後述の該反応液の水洗工程より
生じる水層にアセトフェノンを接触させてえられいて操
作温度は６０℃以上、水洗水量は該混合物１００重量部
に対し５０重量部以上、２００重量部以下なる条件で油
層と水層をえ、■　該水洗工程でえられた油層は、蒸留
工程に供し、該蒸留工程よりの留出液は前記合成工程に
戻し、一方舟出液は再結晶工程に供し、■　−労咳水洗
工程でえられた水層はアセトフェノンと１０℃以上５０
℃以下の温度で接触させて油層をえ、この油層を前記反
応液と混合させる ことからなる１、１−ジ（４−ヒドロキシフェニ）ｖ）
−１−フェニルエタンの連続製造法である。本発明方法
に於ける水洗工程の目的は、該反応液から金属塩化物触
媒（ＺｎＣＪ２．ＡｌＣｌ、　、　ＦｅＣｌ３、５ｎＣ
Ｊ２等）及び／又は塩化水素触媒を効率良く除去するこ
とにある。該触媒の除去が不十分だと、蒸留工程に於い
て、ＢＰ−ＡＣＰの著しい劣化をまねくことになる。本
発明方法の特徴のひとつは該反応液にＡＣＰを添加した
油層を水洗工程に供する所にある０又、特徴の２つ目は
、添加するＡＣＰが、水洗工程で生じる水層と一端接触
している点にある。

添加するＡＣＰ量は、該合成工程での反応量にるかを決
める大きな因子であシ、本発明に於いては、６０℃以上
が選ばれる。操作温度が６０℃未満であると、液−液状
態は保てず、素は固−＝液−液状態となシ、触媒除去が
不十分となシ好ましくない。

又、水洗水量は、ＡＣＰを該反応油に混合させた混合油
層１００重景部に対して、５０重量部以上、２００重量
部以下が特に好ましい。水洗水量が５０重量部未満だと
触媒の除去効率が低く、又、２００重量部を越えると、
排水量が多くなるのと、ＰＮＬ、及びＢＰ−ＡＣＰの損
失も増し、不利となる。

一方、水洗工程より生じる水層をＡＣＰと接触させる目
的は、該水層に溶解含有される、ＰＮＬ及びＢＰ−ＡＣ
ＰをＡＣＰで抽出することに／シ抽出操作温度としては
１０〜５０℃の範囲が選ばれる。１０℃未満では分液性
が悪く、又、５０℃を越えると、ＰＮＬ、及びＢＰ−Ａ
ＣＰの抽出率が低下し、好ましくない。

水洗工程をへた油層は蒸留工程に供することによって、
ＡＣＰ　、及びＰＮＬを留出液として回収し、合成工程
へ供される。一方缶液は、粗ＢＰ−ＡＣＰとなって＞シ
、再結晶工程に供することによって、製品ＢＰ−ＡＣＰ
を得ることができる。

かくして、本発明方法によれば、該水洗工程での触媒除
去が簡単で、しかも効率良く可能となシ又、ＡＣＰを、
水洗工程より生じる水層と接触させる工程を設けること
によって、ＰＮＬ及びＢＰ−ＡＣＰの回収が出来、これ
ら工程の接続によって、工業的に極めて有利にＢＰ−Ａ
ＣＰを製造することが可能 以下、本発明のＢＰ−ＡＣＰ製造工程を、添付図面に従
って説明する。

配管１６より原料ＰＮＬ　、配管１７より触媒。

配管１１よ、９ＡＣＰ等が反応釜１に供給される。

反応液は配管８によって、配管７より供給さ□れるＡＣ
Ｐと混合された形で水洗釜兄に供給される〇一方、水洗
水は、配管１８より水洗釜見に供給され攪拌混合され、
配管９を通じて、分液ＰＮＬ及びＡＣＰ、！：ＢＰ−Ａ
ＣＰが分離され、ＰＮＬ。

及びＡＣＰは、配管１１を通じて、反応釜１にリサイク
ルされる。又、ＢＰ−ＡＣＰは、配管１８を通じて、再
結晶工程へ供給され、純度向上がなされ製品ＢＰ−ＡＣ
Ｐとなる。一方、水層は配管１２を通じて、抽出釜旦に
供給され、配管１９を通じて供給される原料ＡＣＰと接
触せしめ、配管１４を通じて、分液接見に供給され、Ａ
ＣＰ層と、水層に分液され、ＡＣＰ層は配管７を通して
、反応釜↓より配管８を通じて供給される反応液と混合
され、水洗釜兄に供給される。水層は、配管１５をへて
排水処理工程へ供給される０ 以下、本発明を実施例にて具体的に説明する。

実施例 本発明の方法を、第１図に示されたフローシートにそっ
て具体的に説明する。

く合成工程〉 反応釜上に、配管１６を通じて原料ＰＮＬ　。

配管１１を通じて、リサイクルされるＰＮＬ。

及び原料ＡＣＰ　、配管１７を通じて、触媒が供給され
る。供給されるＰＮＬとＡＣＰのモル比はＰＮＬ／ＡＣ
Ｐ＝４／１である。触媒としては、塩化亜鉛及び塩化水
素を用い、塩化亜鉛は反応マス当シ２％、塩化水素は３
チの供給とした０反応条件としては、反応温度６０℃、
滞留時間４８Ｈｒを選んだ。反応液は配管８を通じて水
洗釜昆に供給されるが、反応液中のＢＰ−ＡＣＰ濃度は
、４５〜４７重量係となっており、ヌラリー状態を呈し
ていた。合成工程に於ける反応成績は、ＡＣＰ転化率９
２チ、ＰＮＬ転化率４７％、ＡＣＰに対するＢＰ−ＡＣ
Ｐ選択率９２係であった。

〈水洗工程〉 上記反応液と抽出工程をへたＡＣＰ層をそれぞれ配管８
、及び配管７で水洗釜２に供給した。

さらに、配管１８を通じて水洗水を同じく水洗釜見に供
給した。油層と水層の比率は、２／１に調製し温度７５
〜８０℃、滞留時間５分で接触させ、配管９を通じて、
分液槽８に供給した。分液接見では、液−液状態を示し
、油層と水層は速やかに分液され、油層中の触媒は十分
除去できた〇〈蒸留工程〉 分液接見て分液された油層は配管１０を通じて、蒸留塔
造に供給され、ＰＮＬ及びＡＣＰ。

とＢＰ−ＡＣＰの分離が行なわれる０　軽沸成分である
ＰＮＬ及びＡＣＰは、配管１１を通して反応釜１にリサ
イクル供給される〇一方ＢＰ−ＡＣＰ層は、配管１８を
通じて、再結晶工程に供される。蒸留工程に於けるＢＰ
−ＡＣＰの保持率は、９９．９％と高いものであった。

（ＡＣＰペースでのＢＰ−ＡＣＰ収率：９８．０％、Ｐ
ＮＬベースでのＢＰ−ＡＣＰ収率：９９．９７係）〈抽
出工程〉 分液ｆ！１１Ｂで分液された水層は、配管１２を通じて
、抽出釜５に供給され、配管１９を通じて〜 供給される原料ＡＣＰと攪拌接触される０接触温度は４
０℃、滞留時間は５分とし九〇混合液は、配管１４を通
じて分液槽６に供給され油層と水層に分液される０該抽
出工程に於いて、ＰＮＬは抽出率９８％で回収された。

該油層は、れる。

以上の各工程の結果により蒸留工程の缶出液として得ら
れるＢＰ−ＡＣＰの収率は、ＡＣＰベースで９７．８憾
、ＰＮＬベースで９９．４係と高い水準を示した。

比較例 実施例と同一の仕込割合で反応釜よで反応させて得られ
るスラリー状反応液を、ＡＣＰを添た０水層を分液した
后得られるスラリー状の油層を蒸留塔庖に供した所、缶
出液中のＢＰ−ＡＣＰは少量であシ、蒸留工程に於いて
、ＢＰ−ＡＣＰが多量劣化し、水洗工程での触媒除去が
不十分であることが明らかであった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明のフローシートを示す図。 Ａ　：　ＰＮＬ原料　　　よ：反応釜 Ｂ：触ｗ、２：水洗釜 Ｃ：水　　　　　　　８：分液槽 Ｄ：ＡＣＰ原料　　　４：蒸留塔 Ｅ：排水　　　　　　５：抽出釜 Ｆ：生成りＰ−ＡＣＰ　　見：分液槽 ７〜１９：配管

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）合成工程において、アセトフェノンと該アセトフェ
   ノンに対し化学当論量以上のフェノールを金属塩化物触
   媒及び／又は塩化水素触媒共存下で反応させて１，１−
   ジ（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタンを
   含む反応液を得、該反応液と、上記合成工程に引続く後
   述の該反応液の水洗工程より生じる水層にアセトフェノ
   ンを接触させてえられる油層との混合物を上記水洗工程
   に供し、該水洗工程において操作温度は６０℃以上、水
   洗水量は該混合物１００重量部に対し５０重量部以上、
   ２００重量部以下なる条件で油層と水層をえ、 （ａ）該水洗工程でえられた油層は、蒸留工程に供し、
   該蒸留工程よりの留出液は前記合 成工程に戻し、一方缶出液は再結晶工程に 供し、 （ｂ）一方該水洗工程でえられた水層はアセトフェノン
   と１０℃以上５０℃以下の温度で 接触させて油層をえ、この油層を前記反応 液と混合させることからなる１，１−ジ （４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニ ルエタンの連続製造法。 ２）反応液の水洗工程より生じる水層と接触させるアセ
   トフェノン量を、合成工程で使用したフェノールに対し
   当量となるよう添加することを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）
   −１−フェニルエタンの連続製造法。